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发布时间: 2016 - 03 - 07
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名  称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领  域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括:设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体:设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中;4.骨 架:钢骨架+PP德国劳施领板组合而成,防止外壳锈蚀。5.储物区:位于工作台面左侧,约280mm宽,储物区地板有漏液孔和底部支撑;6.安全门:前侧下开透明安全门,脚踏控制;7.工艺槽:模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险;8.管路系统:位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用白色NPP喷淋管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放;9.电气保护:电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的...
发布时间: 2017 - 12 - 19
片盒清洗机-华林科纳CSE 设备概况:主要功能:本设备主要手动/自动搬运方式,通过对片盒化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:片盒清洗机设备型号:CSE-SC-N259整机尺寸(参考):约1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(该设备非标定制)操作形式:手动 设备组成该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成 设备描述此装置是一个手动的处理设备;设备前上方有各阀门、工艺流程的控制按钮、指示灯、触摸屏(PROFACE/OMRON)、音乐盒等,操作方便;主体材料:德国进口 10mmPP 板,优质不锈钢骨架,外包 3mmPP 板防腐;台面板为德国 10mm PP 板;DIW 管路及构件采用日本进口 clean-PVC 管材,需满足 18MW去离子水水质要求;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明安全考虑:1. 设有 EMO(急停装置)2. 强电弱点隔离3. 所有电磁阀均高于工作槽体工作液面4. 设备排风口加负压检测表5. 设备三层防漏 漏盘倾斜 漏液报警 设备整体置于防漏托盘内 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096 18913575037可立即获取免费的片盒清洗机解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
自动供液系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2016 - 06 - 13
设备名称:晶棒腐蚀机---CSE产品描述:        ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统,抽风系统,电控及操作台等部分组成;         ●进口优质透明PVC活动门(对开/推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;         ●机械臂定位精度高;         ●整体设备腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;         ●设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作.         ●非标设备,根据客户要求具体定制,欢迎详细咨询!更多半导体清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
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中芯国际、华力微、长江存储今年将纷纷启动进入1x纳米以下制程技术的深水区,中芯国际明年上半14纳米FinFET将风险试产,并推进7纳米研发进程;上海华力Fab6未来也将成为14纳米量产重要基地;长江存储今年首颗大陆自主研发快闪存储器芯片也将迈入量产,未来数月将进入密集装机期。据外媒报导,中芯国际已经订购了一台EUV设备,首台EUV设备购自ASML,价值近1.2亿美元。EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的半导体制造设备,全球仅荷兰设备商ASML供应。EUV是未来1x纳米继续走向1x纳米以下的关键微影机台,包括英特尔、三星、台积电等大厂都在争抢购买该设备。设备供应商ASML曾表示,一台EUV从下单到正式交货约长达22个月,若以中芯目前订购来看,按正常交期也要2020年初左右才能到货。按照中芯国际的技术蓝图规划,2019年上半肩负14纳米FinFET将风险试产任务,若2020年顺利取得EUV,将可进一步向前推进至7纳米。而目前研发团队最高负责人、中芯国际联席CEO梁孟松则扮演先进技术蓝图规划的推手。尽管中芯目前在制造制程上仍落后于台积电等市场领导者2~3代,但此举已经凸显了中芯在研发团队重整旗鼓之后的雄心,此时下单EUV也属正当其时。不过下单归下单,未来技术挑战仍拥有几大内外变数考验,一是先进高阶设备的进口能否顺利进入大陆;二是设备启动的上海能否给予充足的电力供给;三是顺利装机之后设...
发布时间: 2018 - 05 - 29
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2018年5月,公安部一所“多维身份识别与可信认证技术国家工程实验室”发布2018年度科研项目评审结果,由大唐电信旗下大唐微电子技术有限公司申报的“基于多维生物识别技术的终端安全芯片和平台安全存储芯片及其系统研发和产业化”科研项目被评为该国家工程实验室重点项目。“多维身份识别与可信认证技术国家工程实验室”于2016年11月15日获得国家发展改革委批复立项,公安部第一研究所为项目法人单位,共建单位包括清华大学、中国人民银行印制科学技术研究所、中国科学院信息工程研究所、中国信息通信研究院、中国科学院自动化研究所、华大半导体有限公司、大唐微电子技术有限公司(以下简称大唐微电子)、北京远鉴科技股份有限公司。2017年底,实验室面向所有共建单位征集了22个科研项目,经过评审,仅有4个项目被列为重点项目。大唐微电子获评的该芯片产业化项目是唯一的芯片类重点项目。大唐微电子 “基于多维生物识别技术的终端安全芯片和平台安全存储芯片及其系统研发和产业化”科研项目可以解决数据采集、身份识别、安全环境、安全传输和安全存储等环节的安全难题,其芯片工艺、功能、性能、安全性等均达到国内、乃至国际级领先水平。该项目结合终端设备和服务器后台可实现多行业可信识别的产业化落地,有利于提升国内可信识别产品安全水平,提升国家在国密安全存储控制芯片领域的竞争力,进一步推动存储控制芯片国产化进程。大唐微电子在安全芯片领域拥有二...
发布时间: 2018 - 05 - 29
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2019年3月20-22日 ,SEMICON China 2019展览会将在上海新国际博览中心盛大开幕。在这一年一度的半导体行业盛会上,我们将展示最新的产品及最前沿的技术,并期待与业界专家交流市场商机,洽谈合作机会。在此,华林科纳诚挚邀请您莅临我们的展位!华林科纳展位号 【5584】▲华林科纳展位号  5584重点主推产品湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品时间:2019年3月20-22日地址:上海新国际博览中心N5华林科纳展位号:5584与 您 不 见 不 散 !
发布时间: 2019 - 01 - 07
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据知情人士透露,中国最大的晶圆代工厂中芯国际已经订购了一台EUV设备,在中美两国贸易紧张的情况下,此举旨在缩小与市场领先者的技术差距,确保关键设备的供应。EUV是当前半导体产业中最先进也最昂贵的芯片制造设备。中芯国际的首台EUV设备购自荷兰半导体设备制造商ASML,价值1.2亿美元。尽管中芯目前在制造工艺上仍落后于台积电等市场领导者两到三代,此举仍突显了该公司帮助提升中国本土半导体制造技术的雄心壮志,也保证了在最先进的光刻设备方面的供应。目前包括英特尔、三星、台积电等巨头都在购买该设备,以确保在此后的先进工艺中能制造性能更强大、设计更领先的芯片。目前,台积电、英特尔、三星等公司都订购了ASML的EUV设备。据供应链消息人士透露,台积电今年已预订了多达10台该设备,三星预订了大约6台,英特尔在今年则预计需要3台,全球第二大代工厂格芯也预订了一台。ASML在4月中旬的财报中表示,计划在今年内出货20台EUV设备,但没有指明采购者详情。知情人士透露,中芯国际是在4月份美国宣布对中兴制裁的第二天下的订单。他表示,中芯国际购买该价格不菲的设备获得了来自政府背景基金的部分资助,这台EUV设备成本与中芯去年的净利润1.264亿美元大致相当。消息显示,中芯预定的EUV预计在2019年初交付。长期以来,中国进口前沿芯片制造设备一直受到限制。业内皆知的瓦森纳协定是一种建立在自愿基础上的集团性出口控制机...
发布时间: 2018 - 05 - 18
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实验室常用的改进的RCA 清洗工艺1.水中超声清洗:灰尘、残余物去除2.浓硫酸、浓硫酸+双氧水:表面污染(有机物、重金属、微粒)      BHF去除氧化层 (to 疏水性)3.碱洗(双氧水、氨水、水):颗粒、有机物去除      BHF去除氧化层 (to 疏水性)4.酸洗(双氧水、盐酸、水):微粒、金属去除      BHF去除氧化层 (to 疏水性)5.超纯水淋洗:去除离子设备组成:  中央控制系统及晶圆输入端  串联式化学酸槽、碱槽及洗涤槽  检测系统,包括流量监测,温度检测,酸槽化学浓度校准  旋转、干燥设备南通华林科纳专业生产半导体湿法清洗设备包括RCA清洗设备,兆声清洗设备,超声清洗设备,更多详情可以关注http://www.hlkncse.com/ ,400-8768-096
发布时间: 2018 - 07 - 05
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记者日前从银川经济技术开发区了解到,宁夏银和半导体科技有限公司8英寸半导体硅片项目进入设备装配期,8英寸半导体级单晶硅片将于6月份试生产。芯片制造主要分为硅片制备、芯片制造、芯片测试与挑选、装配与封装、终测五大环节,硅片制备是第一个环节,硅片质量对于后续芯片制造至关重要。相当长的一段时间内,大尺寸硅片主要由美日德等原设备供应商供应,国内没有成熟的生产链。银和半导体大硅片项目建成后,可弥补国内生产半导体集成电路产业、汽车、计算机、消费电子、通讯、工业、医疗和国防等产业对8英寸半导体级单晶硅片需求,保证国内市场供应硅片安全性及集成电路产业链的完整和稳定。同时,降低我国对高品质半导体硅片的进口依赖,大幅降低成本并增加产业竞争力,满足我国集成电路产业对硅衬底基础材料的迫切要求。“我们已研发了具有自主知识产权的40-16nm制程8英寸半导体抛光片制造技术,并实现了产业化。”宁夏银和半导体科技有限公司行政总经理浩育洲说。公司将通过开展高品质半导体硅片的研发和产业化,建成国际先进水平的大尺寸半导体硅片产业化、创新研究和开发基地。6月份试投产后,可年产420万片8英寸半导体级单晶硅片,项目达产后,年销售收入10亿元。近年来,银川经济技术开发区先后引进了一批在国际国内有重大影响的新材料产业项目,建成世界知名的单晶硅生产基地、国内最大的工业蓝宝石生产基地,正在成为国内重要的战略性新兴材料生产基地。一季...
发布时间: 2018 - 05 - 11
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RCA清洗工艺是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,是去除硅片表面各类玷污的有效方法。南通华林科纳的工程师在本文中简单介绍了RCA清洗工艺的原理及应用。 随着半导体技术的发展,半导体器件和集成电路内各元件及连线越来越微细,因此制造过程中,尘粒、金属等的污染,对晶片内电路功能的损坏影响越来越大。因此在制作过程中除了要排除外界的污染源外,集成电路制造工艺过程中均需要对硅片表面进行清洗,以有效地使用化学溶液清除残留在硅片表面上的各种杂质。 硅片是半导体器件和集成电路中使用最广泛的基底材料,对其表面的清洗是整个硅片制造工艺中极为重要的环节之一。半导体领域中的湿式清洗技术是伴随设备的微小化及对产品质量要求的不断提高而提高的,是以 RCA 清洗技术为基本的框架,经过多年的不断发展形成。完全清洁的基片表面是实现高性能处理的第一步。如果基底表面不完全清洁,其他处理无论如何控制也达不到高质量的要求。 目前在国内,对硅片表面进行化学清洗的设备比较多,但大多属于手动设备,在实际应用过程中存在工艺一致性差、效率低下、无法适应大批量生产等缺点。国外进口的全自动 RCA 清洗机虽然性能优越,但售价非常昂贵,使众多半导体生产厂家望而却步。鉴于此,南通华林科纳CSE自主独立开发了全自动半导体RCA 清洗机,经过试验和用户使用验证,完全能达到用户的使用要求。&#...
发布时间: 2018 - 07 - 06
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中国有意在半导体行业成为全球领导者。为实现这一目标,中国正在寻求国外资金的投资。在美国万般阻挠中国称霸下一代技术野心之背景下,这一亚洲大国的新举措着实出乎人意料。部分是为了减少对国外技术的过分依赖,中国政府成立了一个基金,目标融资2000亿元人民币(约合317亿美元)来支持从处理器设计商到设备制造者等一系列国内企业。中国科技行业监管机构本周三表示,“国家集成电路产业投资基金股份有限公司”(业内简称“大基金”)将接受国外的投资。“该国家基金第二阶段的主要目标仍然是融资。我们欢迎国外企业的加入。”工业和信息化部(工信部)总工程师兼发言人陈因解释道。最近全球两大经济体——美国和中国——之间的纷争核心所在便是半导体。两国纠纷不仅使得关税高涨,也使得中国在美国企业的投资减少,并给中国从第五代无线通讯到人工智能等的科技发展带来重击。美国政府正在考虑动用1977年法律。根据这项法律,唐纳德·特朗普总统或可宣布进入国家紧急状态,以便阻止交易和没收资产。随着美国将中兴通讯列入黑名单七年,北京再一次猛然意识到中国迫切需要减少自己对美国技术的依赖。针对中兴的举措反而刺激了中国现有的计划——在未来十年内投资1500亿美元,逐步抢占芯片设计和制造领域的领先地位。美国高管和官员们曾多次提醒,中国的这一野心或可损害美国利益。目前,中国每年的半导体进口额约为2000亿美元——差不多和石油进口额齐平。中国...
发布时间: 2018 - 04 - 26
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一.简介  兆声清洗是运用在半导体清洗设备中的一种比较新颖清洗技术,它不仅保存了超声波清洗的优点,而且克服了它的不足,它是由高频(900khz 可根据实际使用来定)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时,由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,最大瞬时速度可达到30cm/s。因此,形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。 二.作用兆声波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。目前兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。 三.结构兆声波清洗的结构主要可以分为放着清洗晶片的石英槽体、保证在清洗过程温度稳定的溢流外槽、产生兆声波的兆声振盒及其发生器、保证清洗槽体内温度的在线加热和根据设备使用中是否需要的自动供酸系统,是否有其他结构可根据实际使用来进行添加。 四.使用原理  兆声波清洗机是用在硅片清洗中的一种清洗技术,使用时首先要把清洗槽体和在线加热内注入适当的清洗的液体,注入的的方法可根据厂方的注液方式分为手动上液和自动上液,上液完成之后打开在线加热,使温度达到使用温度,温度达到时...
发布时间: 2018 - 07 - 03
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近日,常州集成电路生态产业园项目正式签约落户武进国家高新区,计划聚集全球一流的算法、芯片、固件、软件、测试、工艺等研发团队入驻。市委书记汪泉出席并讲话。据了解,该项目总投资100亿元,总规划面积约500亩。湖南国科控股有限公司将在武进国家高新区组建系列芯片研发公司,主要从事驱动芯片、可信计算、国密安全、多媒体芯片、通讯、人工智能等芯片设计业务。同时,在国家大基金对常州集成电路产业的支持下,国科控股将引进其投资、参股的芯片公司或生态企业,牵头成立可信计算联合实验室和院士工作站,联合有关单位成立数字版权保护(DRM)研发、测试中心,打造4K内容管理和运营服务产业基地。汪泉在致辞中表示,集成电路是新一代信息技术产业的核心,是新时期推进经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性、先导性产业。目前,常州正在推进智慧城市、智能制造产业发展,而集成电路是智慧城市和智能制造的大脑。我国在集成电路产业领域和欧美等发达国家存在较大差距,必须加快推进国内在集成电路领域的自主创新和自主产业的发展。汪泉说,作为国家信息技术产业布局的集成电路设计企业,国科承担了众多国家重点科研项目,填补了众多研发空白。企业此次在武进布局集成电路生态产业园,是加快集成电路生态产业发展的重大举措,为国家发展战略作出贡献。对常州、武进而言,可以弥补在集成电路领域的发展短板,有助于地方拓展延伸集成电路的完整产业链,形成常武地区新的发...
发布时间: 2018 - 04 - 23
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