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发布时间: 2016 - 03 - 07
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名  称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领  域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括:设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体:设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中;4.骨 架:钢骨架+PP德国劳施领板组合而成,防止外壳锈蚀。5.储物区:位于工作台面左侧,约280mm宽,储物区地板有漏液孔和底部支撑;6.安全门:前侧下开透明安全门,脚踏控制;7.工艺槽:模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险;8.管路系统:位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用白色NPP喷淋管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放;9.电气保护:电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的...
发布时间: 2017 - 12 - 19
片盒清洗机-华林科纳CSE 设备概况:主要功能:本设备主要手动/自动搬运方式,通过对片盒化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:片盒清洗机设备型号:CSE-SC-N259整机尺寸(参考):约1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(该设备非标定制)操作形式:手动 设备组成该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成 设备描述此装置是一个手动的处理设备;设备前上方有各阀门、工艺流程的控制按钮、指示灯、触摸屏(PROFACE/OMRON)、音乐盒等,操作方便;主体材料:德国进口 10mmPP 板,优质不锈钢骨架,外包 3mmPP 板防腐;台面板为德国 10mm PP 板;DIW 管路及构件采用日本进口 clean-PVC 管材,需满足 18MW去离子水水质要求;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明安全考虑:1. 设有 EMO(急停装置)2. 强电弱点隔离3. 所有电磁阀均高于工作槽体工作液面4. 设备排风口加负压检测表5. 设备三层防漏 漏盘倾斜 漏液报警 设备整体置于防漏托盘内 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096 18913575037可立即获取免费的片盒清洗机解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
自动供液系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2016 - 06 - 13
设备名称:晶棒腐蚀机---CSE产品描述:        ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统,抽风系统,电控及操作台等部分组成;         ●进口优质透明PVC活动门(对开/推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;         ●机械臂定位精度高;         ●整体设备腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;         ●设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作.         ●非标设备,根据客户要求具体定制,欢迎详细咨询!更多半导体清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
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半导体行业招标采购项目进展英特尔半导体大连有限公司 (美国独资)—非易失性存储器一期扩建项目项目背景:英特尔大连芯片厂是英特尔半导体(大连)有限公司在大连市投资25亿美元建设的先进半导体芯片制造厂, 也是英特尔在亚洲设立的第一座芯片厂。工厂于2007年底开始建设,2009年建成投入试用,2010年10月正式投产, 大连芯片厂的总建筑面积16.3万平方米, 采用业界主流的300毫米硅晶圆和英特尔成熟的65纳米制造工艺生产电脑芯片组产品。2015年10月21日, 英特尔宣布将其与美光合资开发的最新非易失性储存技术引入中国, 并在辽宁大连投资55亿美元, 升级现在的英特尔大连工厂以生产“非易失性储存”设备。该项目将于2016年年底实现正式投产。非易失性储存固态硬盘项目是英特尔核心计算业务, 大连新工厂也将成为英特尔在全球第一个用300毫米晶圆领先生产技术的非易失性存储产品集成电路制造中心。这项投资将成为英特尔进一步践行“生根中国, 绽放世界”战略的重要里程碑。审批手续进展情况:该项目由区发改委批复建设 预计采购设备:模拟示波器、可程式交换直流电源供应器、台式数字万用表、电器综合测试仪、光谱亮度计、分光辐射度计、电器综合测试仪、色彩分析仪、视角测量仪、半导体封装超纯水设备、组装生产线、芯片封装机、无铅...
发布时间: 2017 - 04 - 12
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SEMICON China在半导体行业内众所周知,它是一次行业的盛会,每年从全世界各地赶来参加的半导体精英都是数以万计。这说明了半导体在全球范围内的火热态势,同时也见证了中国半导体制造业茁壮成长、加速发展的历史,也必将为中国半导体制造业未来的强盛壮大作出贡献。在不久前上海召开的SEMICON China 2017场面相当火爆中国半导体市场规模正在不断提升,这是显而易见的。从2000年以来,全球半导体市场一直在迅猛增长,而尤其以中国半导体的成长态势最为显著,在世界市场上所占的份额也日益提升。从2000年到2010年,中国半导体市场占全球份额从7%变成了30%;在刚过去的2016年,全球半导体市场总额高达3530亿美元,而中国半导体市场占了其中的45%。相信在未来的几年时间里中国半导体市场的占有份额还是会持续稳定的增长。不过目前中国的“半导体热”基本上属于投资拉动型,实际的产业发展水平与国际先进水平仍有很大差距,尤其是在材料与设备上的差距特别明显。随着半导体行业的国际竞争力的持续增长,国内有经验的人才资源还是不足。尤其是上游材料与设备严重依赖海外市场的供给,自身的材料与设备的质量和技术存在严重缺陷。集成电路产业的良性发展需要有适当的产业环境,需要有完善的生态体系。目前,中国制造企业仍然大量采用日韩等国外厂商供应的材料,这不利于自身技术的发挥,也不利于培育本土设备材料等配套企业。从“SE...
发布时间: 2017 - 04 - 10
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[关键词:半导体设备]半导体设备商应用材料(Applied Materials)日前宣布,材料工程获得技术突破,能在大数据与人工智能(AI)时代加速芯片效能。应用材料表示,20 年来首桩晶体管接点与导线的重大金属材料变革,能解除 7 纳米及以下晶圆工艺主要的效能瓶颈,由于钨(W)在晶体管接点的电性表现与铜(Cu)的局部终端金属导线工艺都已逼近物理极限,成为 FinFET 无法完全发挥效能的瓶颈,因此芯片设计者在 7 纳米以下能以钴(Co)金属取代钨与铜,藉以增进 15% 芯片效能。目前中国半导体设备以蚀刻、薄膜及 CMP 发展脚步最快,此部分将以打入主流厂商产线、取得认证并藉此建立量产数据为目标,朝向打入先进工艺的前段晶体管工艺之远期目标相当明确,然而相较国际主流半导体设备厂商的技术水平,中国半导体设备厂商仍是追随者角色,因此钴取代钨和铜的趋势确立,将影响中国半导体设备厂商尤其是蚀刻、薄膜及 CMP 的研究发展方向。 (出自:拓墣产业研究院)更多半导体设备相关新闻可以关注南通华林科纳半导体设备公司 www.hlkncse.com 18913575037
发布时间: 2018 - 07 - 03
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电子工厂化学品供应与回收系统概述由于电子产业的生产需要使用大量的化学品,而这些化学 品都具有一定危险性,稍有疏忽,就会造成重大的人员伤亡 和设备的损失,因此,如何将这些化学品在保证品质的前提下安全输送到使用点,如何将这些使用过的化学品合理地回 收处理,将是电子工厂生产安全的重要问题。由此看来,电 子工厂中化学品的供应与回收系统之改进、优化仍是值得探 究的。 原来国内大规模集成电路生 产线所需的化学品供给、回收系统管道完全由海外公司承揽施工,随着国内 IC 制造业的发展,国内一流的 IC 工厂建设公司已经开始打破这一局面,涉足该系统的施工,为我国电 子行业的自主发展添加了助推剂。 本文就新型显示器件厂(简称 LCD)和集成电路芯片厂 (简称芯片厂)的化学品供应和回收系统进行在系统类型、 基本构成、主要安全技术措施等方面做了些总结, 可供系统优化时参考。 1 化学品供应系统 1.1 化学品供应系统的分类 化学品供应系统在国外一些企业称为 CDS(Chemical Dispense System) 或 简 写 为 BCD (Bulk chemical distribution),它是为生产线 24 小时不间断供应化学品的 系统。供应系统供应的化学品一般使用量较大或有多台设备 使用,属于远距离输送,不适用使用量少或是使用前存放时间有限制的化学品(通常需用特殊的包装输送到使用点)。...
发布时间: 2017 - 04 - 06
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近日,华润微电子(重庆)有限公司揭牌暨战略合作备忘录签约活动在西永微电园举行。现场,华润微电子控股有限公司、重庆市经信委、重庆西永微电子产业园区开发有限公司签署了战略合作协议,三方将致力于将华润微电子(重庆)有限公司打造为全国最大的功率半导体基地,促进重庆市集成电路产业发展。 据悉,华润微电子控股有限公司是国内唯一纯国资、全产业链,并实现产品设计自主、制造过程可控的微电子企业。随着央企间产业重组整合全面展开,去年11月6日,经国务院国资委批复,同意将中航航空电子系统有限责任公司所持中航(重庆)微电子有限公司股权,划转给华润微电子控股有限公司。在此背景下,去年12月28日,华润微电子(重庆)有限公司正式揭牌成立。据悉,本次整合在中国半导体产业发展史上创造了三项第一:央企间微电子业务的第一次重组;国内半导体产业关键战略资源(8英寸晶圆生产线)的第一次整合;国内分立器件产品和业务规模最大的一次整合。整合后,华润微电子控股有限公司的功率器件业务将占国内市场份额的6.5%。根据签约,华润微电子(重庆)有限公司成立后,将设立国家级功率半导体研发中心、建设国内最大的功率半导体制造中心,同时完善上下游产业链等。协议的签署,不仅能将晶圆制造升级扩产,还将带来从原材料制造、IC设计到封装测试的完整产业链条,带动重庆集成电路产业基地升级。 (出自:重庆日报)更多半导体、集成电路、MEMS器件等...
发布时间: 2018 - 01 - 11
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目前半导体业发展的市场越来越巨大,而半导体工艺设备则为半导体大规模制造提供制造基础,今天华林科纳半导体CSE的小编为大整理了一套最全的半导体材料工艺设备汇总。1、单晶炉 设备名称:单晶炉。设备功能:熔融半导体材料,拉单晶,为后续半导体器件制造,提供单晶体的半导体晶坯。主要企业(品牌):国际:德国PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美国QUANTUM DESIGN公司、德国Gero公司、美国KAYEX公司。国内:西安理工晶科、常州华盛天龙、上海汉虹、西安华德、上海申和热磁、上虞晶盛、晋江耐特克、宁夏晶阳、常州江南、沈阳科仪公司。2、气相外延炉设备名称:气相外延炉。设备功能:为气相外延生长提供特定的工艺环境,实现在单晶上,生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体,为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺,其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续,而且与衬底的晶向保持对应的关系。主要企业(品牌): 国际:美国CVD Equipment公司、美国GT公司、法国Soitec公司、法国AS公司、美国ProtoFlex公司、美国科特·莱思科(Kurt J.Lesker)公司、美国Applied Materials公司。国内:中国电子科技集团第四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术有限公司、北京金盛微纳、济南力冠电子科技有限公司。3、分子...
发布时间: 2017 - 04 - 05
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2018年内存更加供不应求 降价已无可能据集邦咨询(TrendForce)公布的最新调查报告,进入第四季度后,三星、SK海力士、美光这三大DRAM颗粒巨头都已经基本规划好了明年的路线图,资本支出都趋于保守,意味着大规模产能扩张已经不可能,甚至制程工艺前进的脚步也会缓慢下来。毕竟,商人都是以赚钱为目的的,DRAM大厂明年的首要目标就是获得持续而且稳定的利润,价格则要至少维持在今年下半年的水平。集邦咨询估计,2018年DRAM产业的供应增幅只会有大约19.6%,是近几年的一个地点,而市场需求增幅将有20.6%,也就是说整个市场供需关系会更加紧张。从需求端看,势头强劲的主要是手机内存容量提升,以及服务器/数据中心的巨大缺口,而供给端方面,产能吃紧自然需要新建工厂,但建设一座300毫米晶圆厂至少一年,再加上设备投入和调试,即便现在行动,效果出来也要到2019年了。关键是,2018年三大厂商的晶圆产能增幅预计只有区区5-7%,主要来自现有产能的重新分配和制造工艺的升级。具体厂商方面,三星电子的产能增加空间很有限,目前月均DRAM晶圆产能平均为39万块,而能扩充的工厂只有Line 17和一部分Line 15,因此三星计划在韩国京畿道平泽市新建第二座300毫米DRAM晶圆厂。SK海力士同样受困于产能不足:M10工厂较老无法转入18nm,改而做代工去了;M14工厂规格高于最初计划,预计年底可达8万...
发布时间: 2017 - 10 - 23
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由全球半导体协会中国委员会主办的全球规模最大、规格最高的半导体展SEMICON/FPD China 2017 国际半导体展3月14-16日在上海举办。这是全球半导体业界连续六年规格最高、规模最大的“嘉年华”,近900家展商在展会现场与逾6万名专业观众互动。华林科纳半导体CSE在此次展会参展的产品吸引了很多客户前来观展。
发布时间: 2017 - 03 - 17
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2017年全球晶圆代工市场规模将达550亿美元 关键词:晶圆、晶圆硅片清洗机晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。据了解,截止2016年12月,全球折合成8寸晶圆的产能为每月1711.4万片;其中中国大陆全球市场占有率接近11%,相比2015年上升了1.1个百分点,仅次于台湾、韩国、日本和北美。台湾、韩国、日本是主要的晶圆产地,晶圆产能占全球晶圆产能的59.3%。台湾、韩国、日本是主要的晶圆产地,占比达59.30%,而大陆产能占比为10.80%。而南通华林科纳CSE一直致力于开发生产半导体晶圆清洗设备,其制造的晶圆硅片清洗机、甩干机、单片清洗机等设备广受业界好评。从供给端来看,2016年中国地区晶圆制造产能仅占全球10.8%,而消费市场占全球33%,中国半导体市场供需关系严重失衡。另据了解,2016年全球晶圆代工工厂营业收入前十排名分别是台积电、格罗方德、联华电子、中芯国际、力晶半导体、TowerJazz、世界先进、华虹宏力、Dongbu HiTek和X-Fab。其中,前四大晶圆代工厂为台积电、格罗方德、联华...
发布时间: 2017 - 10 - 09
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3月14日,由国际半导体产业协会(SEMI)中国委员会主办的SEMICON China 2017国际半导体展在上海新国际博览中心开幕。苏州华林科纳半导体设备技术有限公司此次参展给大家带来了半导体湿法清洗解决方案,与众多专业观众以及行业伙伴进行了现场交流,深入交流了半导体湿法清洗的相关技术要求以及工艺,其中 单片清洗机、黑硅制绒设备、晶圆电镀设备、湿法刻蚀机设备、甩干机以及兆声清洗机受到很多客户详询,现场人气也是爆满。更多半导体湿法腐蚀清洗相关的新闻请关注www.hlkncse.com
发布时间: 2017 - 03 - 14
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