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发布时间: 2016 - 12 - 05
花篮/片盒清洗机-华林科纳CSE 完美适应当前所有型号的花篮和片盒、传输片盒、前端开口片盒(Foup片盒)的清洗和干燥系统优点装载晶圆直径至200mm的花篮和片盒—或不同晶圆尺寸的花篮和片盒,同时可装载晶圆直径至300mm的前端开口片盒(Foup片盒)三种设备尺寸满足客户特殊需求 CleanStep I – 用于4组花篮和片盒加载和清洗能力:每次4组花篮和片盒清洗产能:每小时12组花篮和片盒 CleanStep II – 用于8组花篮和片盒加载和清洗能力:每次8组花篮和片盒清洗产能:每小时24组花篮和片盒 CleanStep III – 用于6组前端开口片盒(Foup)加载和清洗能力:每次6组前端开口片盒(Foup片盒)清洗产能:每小时18组前端开口片盒(Foup片盒) 适用于晶圆直径至200mm的花篮和片盒的标准旋转笼(Cleanstep I/II) 适用于所有片盒一次清洗过程 或是同时4组花篮和片盒,或是12个花篮(Cleanstep I/II) 简单快捷的对不同尺寸的片盒和花篮进行切换 旋转笼内的可旋转载体方便加载或卸载花篮和片盒 通过控制系统对自锁装置的检测,达到安全加载片盒和花篮,及其运行特征和优点可应用不同化学品(稀释剂)来清洗 泵传输清洗液 计量调整可通过软件设置控制操作热水喷淋装置 热水一般由厂务供应 — 标准化 或有一个体积约100升的热水预备槽(循环泵和加热棒用于热水预备槽—选项) 笼子 带有可变速旋转的控制的高扭矩伺服电机(按照加载量和设备配置,最大旋转速度200rpm,) 旋转的不锈钢笼子 会自动停止工作(运行过程中出现失衡状态时)热空气干燥 顶端吹下热空气 采用根据设备待机和工艺运行模式的可调风量的风扇装置 不锈钢架上装有加热器,可以温度控制 软件监控温度 带有反压控制的高效过滤器辅助功能和操作控制 触摸屏安装在前面—标准化 也...
发布时间: 2016 - 03 - 07
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名  称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领  域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括:设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体:设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中;4.骨 架:钢骨架+PP德国劳施领板组合而成,防止外壳锈蚀。5.储物区:位于工作台面左侧,约280mm宽,储物区地板有漏液孔和底部支撑;6.安全门:前侧下开透明安全门,脚踏控制;7.工艺槽:模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险;8.管路系统:位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用白色NPP喷淋管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放;9.电气保护:电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的...
发布时间: 2017 - 12 - 19
片盒清洗机-华林科纳CSE 设备概况:主要功能:本设备主要手动/自动搬运方式,通过对片盒化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:片盒清洗机设备型号:CSE-SC-N259整机尺寸(参考):约1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(该设备非标定制)操作形式:手动 设备组成该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成 设备描述此装置是一个手动的处理设备;设备前上方有各阀门、工艺流程的控制按钮、指示灯、触摸屏(PROFACE/OMRON)、音乐盒等,操作方便;主体材料:德国进口 10mmPP 板,优质不锈钢骨架,外包 3mmPP 板防腐;台面板为德国 10mm PP 板;DIW 管路及构件采用日本进口 clean-PVC 管材,需满足 18MW去离子水水质要求;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明安全考虑:1. 设有 EMO(急停装置)2. 强电弱点隔离3. 所有电磁阀均高于工作槽体工作液面4. 设备排风口加负压检测表5. 设备三层防漏 漏盘倾斜 漏液报警 设备整体置于防漏托盘内 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096 18913575037可立即获取免费的片盒清洗机解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
自动供液系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2016 - 06 - 13
设备名称:晶棒腐蚀机---CSE产品描述:        ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统,抽风系统,电控及操作台等部分组成;         ●进口优质透明PVC活动门(对开/推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;         ●机械臂定位精度高;         ●整体设备腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;         ●设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作.         ●非标设备,根据客户要求具体定制,欢迎详细咨询!更多半导体清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
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随着科学技术的飞速发展,集成度不断提高,器件尺寸不断减小,对硅抛光片的表面质量要求越来越严格。清洗是半导体器件制造过程中最重要的步骤。1、硅片的清洗工艺原理硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加 工后,其表面已受到严重沾污,清洗的目的主要是清除晶片表面的沾污。硅片表面的污染物通常以原子、离子、分子、 粒子或膜的形式以物理吸附或化学吸附的方式存在于硅片表面。有以下两种清洗方式:超声波是通过蒸气漩涡来辅助冲洗的。振动在液体中形 成极微小的气泡而这些气泡快速地崩溃而产生极微小的擦 洗的动作从而除去颗粒。这一现象称为气涡。图1为超声清洗效果。▲ 图1 超声清洗效果兆声波的辅助作用是通过另外一种机理来实现的。依据流体力学,固体表面与液体之间有一个静止或缓慢移动的界面,例如晶片的表面。小的颗粒可被保持在这层界面中而不会接触化学清洗液。兆声波的能量可以消除这一界面,从而 使颗粒得以清洗。另外,一种叫做声流的现象使得水或清洗 液流过晶片的速度加快,从而提高清洗效率。图2为兆声清 洗效果。▲ 图2 兆声清洗效果2、超声清洗技术超声清洗属物理清洗,把清洗液放入槽内,在槽内作用 超声波。由于超声波与声波一样是一种疏密的振动波,在传 播过程中,介质的压力作交替变化。在负压区域,液体中产 生撕裂的力,并形成真空的气泡。当声压达到一定值时,气 泡迅速增长,在正压区域气泡由于受到压...
发布时间: 2018 - 09 - 27
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硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的,而清洗后硅片表面的各种性能在一定程度上又由清洗设备本身决定,因此,对硅片清洗设备的日常维护就尤为重要。目前,在半导体的生产中广泛使用的为湿式化学清洗方法,在该清洗方法中有大量的化学试剂被使用,具体使用的化学试剂及其主要作用见表1。▼表1常用的化学清洗溶液另外,在半导体材料及器件生产厂家,槽式清洗设备被广泛使用,由于该类清洗设备清洗工位较多,任何一个环节的疏忽,都会导致最终清洗后硅片表面质量不合格,且主要表现为硅片表面颗粒超标和硅片表面金属沾污超标。硅片表面质量的重要参数是颗粒数跟金属沾污,去除颗粒跟金属沾污也是硅片清洗最主要的目的,所以需对清洗设备对颗粒跟金属沾污的去除能力进行监控。如发现硅片表面颗粒跟金属沾污超标,则需进行如下处理:1、将各槽中原液排干,用DI水将槽子冲洗一次,然后将槽中水排尽;2、加入少许(lgallon)DI水,然后加入lgal- lonH2O2,再加入少许DI水,然后加工入lgallonNH4OH,再加DI水至槽满。如果是工艺槽,则让混合液循环2h,否则静置2h;3、将槽中液排尽,用DI水再次冲洗槽子一次,将槽液排尽;4、重新对清洗设备进行测试。具体的操作流程如下:由于对清洗设备的工艺维护在实际的生产中起着举足轻重的作用,故需特别注意。如果发现问题需及时进行解决,直至检测合格为止。也可以咨询本公司进行专业服务。延展阅读★华...
发布时间: 2018 - 09 - 25
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日本半导体在1970-1985年的15年间到达了“黄金时代”,但物极必反、盛极而衰的事物发展规律是永恒不变的,且看日本怎么应对。由盛而衰背后是未能抓住规模化机会1980年代后期,日本的DRAM市场份额开始大幅衰退,根本原因是DRAM市场结构发生巨变,频繁发生的贸易摩擦也一定程度上阻碍了行业发展。日本企业在早期大型计算机所用的存储器上有技术优势,看重的是存储器的品质。但1980年代后期,随着个人电脑市场蓬勃发展,对存储器的可靠性和寿命要求较低,更侧重于低价。但日本当时依旧以高可靠性为生产标准,未能很好地适应市场变化。有业内人士指出,尽管当时日本公司看到了个人电脑市场的动向,但仍执着于成品率,在降低成本方面比较欠缺。对比日韩的半导体公司会发现,韩国公司在成本上大幅领先于日本公司,生产同样的元器件,日本公司使用的设备数量竟是韩国的2倍,生产流程过长,进而无法降低成本。另有分析指出,这也和日本制造商没有采取Fabless模式有关。这种水平分工的发展模式可以使专业公司专注设计,代工厂专注生产,可以对市场变化做出迅速反应,将机器折旧影响到的成本劣势降到很低。▲ Fabless模式“日本的半导体制造大多仍是大集团下的子部门,尽管个别产品有不错的成绩,但在品牌占有率达到一定程度后,该模式无法再有效推升其半导体的零组件往下一个里程碑前进。Fabless模式是半导体产业在规模经济发展下的必然走向。而以...
发布时间: 2018 - 09 - 18
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9月21日,在火热进行的2018杭州云栖大会上,天猫、阿里云IoT携手包括中移物联网有限公司、Cypress、瑞萨、意法半导体、兆易创新、博通集成、移远通信、新唐科技等众多国内外知名半导体公司宣布2018天猫芯片节盛大开幕,同期在天猫线上首发18款芯片模组。▼▼▼▼▼18款芯片将全部接入阿里云IoT的AliOS Things物联网操作系统及Link IoT Edge边缘计算。同时,阿里云IoT已经携手包括Intel、Semtech多家生态巨头共同拓展近场、广域、边缘计算等多个应用领域的市场,力争在最短时间内打通从端到云的物联网场景,实现无处不在的连接。从公布的芯片节合作的厂商来看,包括了国内外半导体厂商以及模组厂商,而这些厂商主要聚焦在MCU、无线通信芯片、模组产品。正是阿里布局物联网生态的重要参与者。据国际电子商情记者了解,这些厂商的天猫旗舰店的运营主要有两种方式,一种是原厂组建自有团队,另一种是由代理商或者元器件电商运营。今天早些时候,赛普拉斯半导体公司宣布,在阿里巴巴集团旗下的天猫商城开设在线商店。赛普拉斯是首批入驻天猫商城的电子元器件供应商之一。而该公司天猫商城交由易库易独家运营。相关报道可见:CYPRESS官宣,正式入驻天猫商城,独家运营方揭晓!“我们希望能够将天猫打造成为开发者的一站式芯片购买渠道。”出席此次天猫芯片节启动仪式的天猫3C数码资深总监何春雷表示。相比于传统...
发布时间: 2018 - 09 - 22
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上一期给大家讲解了湿法刻蚀与清洗的基本药液,那湿法刻蚀清洗机的结构和工作原理是什么?今天就带大家瞧一瞧。1、刻蚀清洗设备分类湿法刻蚀清洗机按清洗的结构方式可以分为槽式批量清洗和单片清洗机两种类型。而槽式清洗又可分为半自动清洗和全自动清洗两种机台。2、 清洗设备结构组成清洗设备主要由耐腐蚀机架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制单元、 排风单元以及气体和液体管路单元等几大部分构成。其中酸槽和管路单元是清洗设备的主要组成部分。 按照材料的差异, 槽体可分为用不锈钢材质的生产的槽、 用NPP 材质生产的抗腐蚀的槽、 用PVDF材质生产的槽、 用PTFE材质生产的槽、 用石英材质生产的槽等, 按照功能的差异槽体又可分为酸碱刻蚀槽、 溢流清洗槽、 快速排水槽和使晶圆快速干燥的干燥槽等, 根据清洗工艺要求的不同, 还可以增加腐蚀液的超声及兆声清洗、 腐蚀液加热或制冷、搅拌、 循环及去离子水加热等清洗功能。▲湿法刻蚀清洗机的组成部分在材料选择上, 不锈钢槽主要用于有机溶液或碱性溶液; 而石英加热槽主要用于酸性溶液, 而且该槽耐高温, 一般为二百摄氏度, 最高可以达到四百摄氏度;高纯度聚丙烯槽主要用于温度小于八十摄氏度的酸碱溶液;聚氟乙烯槽常常用来承装 BOE 以及氢氟酸, 要求温度最高不能高于一百二十摄氏度。 聚四氟乙烯槽可用于几乎所有的酸碱以及有机溶液,其耐温小于150摄氏度。在功能选择上, Q...
发布时间: 2018 - 09 - 13
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9月20日,重庆日报记者从重庆万国半导体科技有限公司(以下简称重庆万国)获悉,全国首个12英寸功率半导体项目已经完成封装测试,预计10月份正式在渝投产。▲重庆万国半导体科技有限公司生产车间苹果、富士康等大型科技企业都是该公司的客户。重庆万国相关负责人告诉记者,“我们的芯片将用于苹果手机的电源管理系统,对电能进行变换、分配,提高iOS设备的性能,同时保持低功耗。”此外,该芯片在家电、汽车乃至无人机领域都有广泛应用。据了解,重庆万国是全球第一家集12英寸芯片生产及封装测试于一体的功率半导体企业,集电源管理及功率器件的研发设计、芯片制造、封装测试、销售及服务于一体。公司由美国AOS、重庆战略性新兴产业股权投资基金和重庆两江新区战略性新兴产业股权投资基金共同出资组建。其中,外资占51%,国资占49%,注册资本3.55亿美元,投资总额10亿美元。该项目用地342亩,分两期建设,一期投资5亿美元,主要建设规模为月产2万片12英寸功率半导体芯片、封装测试500KK功率半导体芯片;二期计划投资5亿美元,建设月产5万片12英寸功率半导体芯片、封装测试1250KK功率半导体芯片。市发改委相关负责人介绍,重庆万国半导体项目正式投产后,将实现研发、制造、销售和服务全流程的本地化配置,届时芯片的生产成本将大幅下降,并推动重庆汽车电子、轨道交通、通讯、消费电子、家用电器、工业控制及大数据智能化等产业发展。来源...
发布时间: 2018 - 09 - 21
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从目前国内企业的规划来看,预计到2020年,国内12英寸硅片产能可以达到145万片/月,覆盖国内需求。此外,预计到2020年,国内8英寸硅片产能可以达到168万片/月,总投资规模超过500亿元。“集成电路最核心的就是硅材料,硅材料就是集成电路的树根。集成电路是直接建立在硅片上的,全国人民都知道硅芯片的重要,但是大家不知道硅材料更重要。可以说,没有硅材料,就没有硅芯片。”中科院院士杨德仁先生在2018中国集成电路产业发展研讨会上表示。▲硅材料国家重点实验室(浙江大学)杨德仁院士根据IC Insights的数据显示,2017年全球硅片需求量为1160万片/月,而国内的硅片需求量为110万片/月。杨院士表示,具体而言,目前国内所有生产线对于12英寸硅片每月的需求量大概为43万片-45万片,预计到2020年将增加至105万片/月,而对8英寸硅片的需求将从70万片/月增加到96.5万片/月。随着集成电路行业的不断发展,对于硅片的需求也在增加。2017年,整个集成电路配套材料的市场规模为263亿美元,其中硅片是份额最大的材料,市场规模大约为87亿美元,市场占比为31%-33%。预计到2020年,全球硅片市场规模将达到110亿美元。从全球市场来看,12英寸的硅片将成为集成电路最终竞争力最激烈的一个领域。据数据显示,2017年在整个硅片市场,12英寸硅片占比为63%,8英寸硅片占比27%,6英寸硅...
发布时间: 2018 - 09 - 20
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IT之家9月19日消息 在9月19日举办的云栖大会上,阿里巴巴正式宣布平头哥半导体有限公司的成立。平头哥半导体有限公司,是由阿里巴巴之前全资收购的嵌入式CPU IP的公司中天微和阿里达摩院芯片研发团队整合而成的一家芯片公司。之所以起这个名字,阿里巴巴CTO张建锋解释道,这是希望这家公司能学习一下平头哥“不怕”的精神,奋勇向前。阿里巴巴表示,平头哥半导体公司会在明年4月发布第一款神经网络芯片。▲阿里巴巴CTO张建锋科普一下,平头哥,学名蜜獾,以“世界上最无所畏惧的动物”被收录在吉尼斯世界纪录大全中数年之久,是非洲大草原有名的二哥,生死看淡不服就干是其“人生格言”。此外“平头哥”蜜獾生性好斗,从不畏惧,哪怕是非洲一哥狮子也毫不畏惧(因为这个原因平头哥被列入濒危动物)。除此之外,在大会上,阿里巴巴集团CEO张勇表示,在两年内阿里巴巴将会达到三年前提出的一万亿美元的近期目标。事实上,发展到现在,阿里巴巴已经19岁了,算是一个“大小伙子”了,阿里巴巴已经不单纯是一家电商了,现在的阿里巴巴已经发展成为为横跨电子商务、金融服务、物流、云计算、新零售等的庞大体系了。来源:IT之家延展阅读★华林科纳公司简介★华林科纳行业新闻★华林科纳产品中心★华林科纳人才招聘★半导体小课堂
发布时间: 2018 - 09 - 19
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继东芝半导体公司出售之后,回顾过去日本芯片企业动态,我们可以看到,日本企业专注于生产、专注于设计,以增强芯片产业的实力,日本是唯一一个曾经有能力与美国分庭抗礼的国家。在鼎盛时期的1993年,IC Insights发布的全球十大半导体公司中有6家日本公司。到了2018年,东芝半导体却成为硕果仅存的日本公司。过去的十五年日本发生了什么呢?从依赖进口到自主研发日本索尼公司的官网上至今都挂着这样一段历史,该公司创始人之一井深大1952年在美国进行为期3个月的调查旅行,期间听说了西方电器公司(WE)有意转让晶体管专利,但代价高达25000美元,这相当于日本东京通信工业公司(索尼前身)总资产的10%,尽管心生向往,但井深大最终带着遗憾回国。索尼的另一创始人盛田绍夫后来于1953年赴美谈判,最终拿下了这项技术。但他们并没有采纳WE的建议——将晶体管用做助听器,而是摸索出一个全新的应用领域。1955年,索尼研制出全球第一台晶体管收音机。1959年,索尼收音机销售额达250万美元。日本公司纷纷效仿。到1965年,日本的收音机出口量达到2421万台。另外,电子计算器和电视也撬动了美国市场的大门。日本消费电子在美国市场获得成功,不仅因为其产品创新和性价比高,还与美国的政策有关。当时美国将电子产业的重心转移到了军用上,这为日本的民用电子产品提供了机遇。到1960年代,日本半导体产业继续追赶美国。当时,日本...
发布时间: 2018 - 09 - 18
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我相信,石墨烯(graphene)将在未来催生半导体材料的下一个重大创新。材料创新一直是半导体产业中重要的一环。过去,最重要的是高κ闸极介电质;现在,则是钴成为在半导体中段制程(middle-of-line;MOL)触点中替代钨的重要元素。2004年发现的石墨烯,是迄今最轻薄但最强大的材料。它是碳的一个原子层,它比钢更强劲200倍,同时也是人类已知最轻薄的材料——每平方公尺的重量约0.77毫克(mg)。它同时也是室温下的理想导电和导热体。由于石墨烯是一个原子层,因此既柔软且透明。它还能在可见光与近红外线频谱范围展现均匀吸收光的能力,而且适用于自旋电子元件。针对即将出现的新半导体制程节点,石墨烯将在其先进封装与互连材料方面发挥重要作用。在3D IC封装中,石墨烯可作为散热片,用于降低整体热阻,或作为EMI屏蔽,以降低串扰。主动式石墨烯元件层可经由低温转换制程(至于互连,铜的动能逐渐消逝,而成为重大的IC瓶颈,预计在7nm节点时达到40%的延迟。石墨烯由于具有较高的电子迁移率和导热性,使其成为半导体中段和后段制程中更具吸引力的互连材料,特别是在线宽基于石墨烯的半导体应用已经开始进入市场。在今年于巴塞隆纳举行的世界行动通讯大会(MWC 2018)展出了一款整合石墨烯调变器和光探测器的新型光收发器,可实现高达每通道25Gbits/s的速度。美国圣地亚哥一家公司Nanomedical Dia...
发布时间: 2018 - 09 - 18
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