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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2"-12";可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的,而清洗后硅片表面的各种性能在一定程度上又由清洗设备本身决定,因此,对硅片清洗设备的日常维护就尤为重要。目前,在半导体的生产中广泛使用的为湿式化学清洗方法,在该清洗方法中有大量的化学试剂被使用,具体使用的化学试剂及其主要作用见表1。▼表1常用的化学清洗溶液另外,在半导体材料及器件生产厂家,槽式清洗设备被广泛使用,由于该类清洗设备清洗工位较多,任何一个环节的疏忽,都会导致最终清洗后硅片表面质量不合格,且主要表现为硅片表面颗粒超标和硅片表面金属沾污超标。硅片表面质量的重要参数是颗粒数跟金属沾污,去除颗粒跟金属沾污也是硅片清洗最主要的目的,所以需对清洗设备对颗粒跟金属沾污的去除能力进行监控。如发现硅片表面颗粒跟金属沾污超标,则需进行如下处理:1、将各槽中原液排干,用DI水将槽子冲洗一次,然后将槽中水排尽;2、加入少许(lgallon)DI水,然后加入lgal- lonH2O2,再加入少许DI水,然后加工入lgallonNH4OH,再加DI水至槽满。如果是工艺槽,则让混合液循环2h,否则静置2h;3、将槽中液排尽,用DI水再次冲洗槽子一次,将槽液排尽;4、重新对清洗设备进行测试。具体的操作流程如下:由于对清洗设备的工艺维护在实际的生产中起着举足轻重的作用,故需特别注意。如果发现问题需及时进行解决,直至检测合格为止。也可以咨询本公司进行专业服务。延展阅读★华...
发布时间: 2018 - 09 - 25
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日本半导体在1970-1985年的15年间到达了“黄金时代”,但物极必反、盛极而衰的事物发展规律是永恒不变的,且看日本怎么应对。由盛而衰背后是未能抓住规模化机会1980年代后期,日本的DRAM市场份额开始大幅衰退,根本原因是DRAM市场结构发生巨变,频繁发生的贸易摩擦也一定程度上阻碍了行业发展。日本企业在早期大型计算机所用的存储器上有技术优势,看重的是存储器的品质。但1980年代后期,随着个人电脑市场蓬勃发展,对存储器的可靠性和寿命要求较低,更侧重于低价。但日本当时依旧以高可靠性为生产标准,未能很好地适应市场变化。有业内人士指出,尽管当时日本公司看到了个人电脑市场的动向,但仍执着于成品率,在降低成本方面比较欠缺。对比日韩的半导体公司会发现,韩国公司在成本上大幅领先于日本公司,生产同样的元器件,日本公司使用的设备数量竟是韩国的2倍,生产流程过长,进而无法降低成本。另有分析指出,这也和日本制造商没有采取Fabless模式有关。这种水平分工的发展模式可以使专业公司专注设计,代工厂专注生产,可以对市场变化做出迅速反应,将机器折旧影响到的成本劣势降到很低。▲ Fabless模式“日本的半导体制造大多仍是大集团下的子部门,尽管个别产品有不错的成绩,但在品牌占有率达到一定程度后,该模式无法再有效推升其半导体的零组件往下一个里程碑前进。Fabless模式是半导体产业在规模经济发展下的必然走向。而以...
发布时间: 2018 - 09 - 18
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9月21日,在火热进行的2018杭州云栖大会上,天猫、阿里云IoT携手包括中移物联网有限公司、Cypress、瑞萨、意法半导体、兆易创新、博通集成、移远通信、新唐科技等众多国内外知名半导体公司宣布2018天猫芯片节盛大开幕,同期在天猫线上首发18款芯片模组。▼▼▼▼▼18款芯片将全部接入阿里云IoT的AliOS Things物联网操作系统及Link IoT Edge边缘计算。同时,阿里云IoT已经携手包括Intel、Semtech多家生态巨头共同拓展近场、广域、边缘计算等多个应用领域的市场,力争在最短时间内打通从端到云的物联网场景,实现无处不在的连接。从公布的芯片节合作的厂商来看,包括了国内外半导体厂商以及模组厂商,而这些厂商主要聚焦在MCU、无线通信芯片、模组产品。正是阿里布局物联网生态的重要参与者。据国际电子商情记者了解,这些厂商的天猫旗舰店的运营主要有两种方式,一种是原厂组建自有团队,另一种是由代理商或者元器件电商运营。今天早些时候,赛普拉斯半导体公司宣布,在阿里巴巴集团旗下的天猫商城开设在线商店。赛普拉斯是首批入驻天猫商城的电子元器件供应商之一。而该公司天猫商城交由易库易独家运营。相关报道可见:CYPRESS官宣,正式入驻天猫商城,独家运营方揭晓!“我们希望能够将天猫打造成为开发者的一站式芯片购买渠道。”出席此次天猫芯片节启动仪式的天猫3C数码资深总监何春雷表示。相比于传统...
发布时间: 2018 - 09 - 22
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上一期给大家讲解了湿法刻蚀与清洗的基本药液,那湿法刻蚀清洗机的结构和工作原理是什么?今天就带大家瞧一瞧。1、刻蚀清洗设备分类湿法刻蚀清洗机按清洗的结构方式可以分为槽式批量清洗和单片清洗机两种类型。而槽式清洗又可分为半自动清洗和全自动清洗两种机台。2、 清洗设备结构组成清洗设备主要由耐腐蚀机架、 酸槽、 水槽、 干燥槽、 控制单元、 排风单元以及气体和液体管路单元等几大部分构成。其中酸槽和管路单元是清洗设备的主要组成部分。 按照材料的差异, 槽体可分为用不锈钢材质的生产的槽、 用NPP 材质生产的抗腐蚀的槽、 用PVDF材质生产的槽、 用PTFE材质生产的槽、 用石英材质生产的槽等, 按照功能的差异槽体又可分为酸碱刻蚀槽、 溢流清洗槽、 快速排水槽和使晶圆快速干燥的干燥槽等, 根据清洗工艺要求的不同, 还可以增加腐蚀液的超声及兆声清洗、 腐蚀液加热或制冷、搅拌、 循环及去离子水加热等清洗功能。▲湿法刻蚀清洗机的组成部分在材料选择上, 不锈钢槽主要用于有机溶液或碱性溶液; 而石英加热槽主要用于酸性溶液, 而且该槽耐高温, 一般为二百摄氏度, 最高可以达到四百摄氏度;高纯度聚丙烯槽主要用于温度小于八十摄氏度的酸碱溶液;聚氟乙烯槽常常用来承装 BOE 以及氢氟酸, 要求温度最高不能高于一百二十摄氏度。 聚四氟乙烯槽可用于几乎所有的酸碱以及有机溶液,其耐温小于150摄氏度。在功能选择上, Q...
发布时间: 2018 - 09 - 13
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9月20日,重庆日报记者从重庆万国半导体科技有限公司(以下简称重庆万国)获悉,全国首个12英寸功率半导体项目已经完成封装测试,预计10月份正式在渝投产。▲重庆万国半导体科技有限公司生产车间苹果、富士康等大型科技企业都是该公司的客户。重庆万国相关负责人告诉记者,“我们的芯片将用于苹果手机的电源管理系统,对电能进行变换、分配,提高iOS设备的性能,同时保持低功耗。”此外,该芯片在家电、汽车乃至无人机领域都有广泛应用。据了解,重庆万国是全球第一家集12英寸芯片生产及封装测试于一体的功率半导体企业,集电源管理及功率器件的研发设计、芯片制造、封装测试、销售及服务于一体。公司由美国AOS、重庆战略性新兴产业股权投资基金和重庆两江新区战略性新兴产业股权投资基金共同出资组建。其中,外资占51%,国资占49%,注册资本3.55亿美元,投资总额10亿美元。该项目用地342亩,分两期建设,一期投资5亿美元,主要建设规模为月产2万片12英寸功率半导体芯片、封装测试500KK功率半导体芯片;二期计划投资5亿美元,建设月产5万片12英寸功率半导体芯片、封装测试1250KK功率半导体芯片。市发改委相关负责人介绍,重庆万国半导体项目正式投产后,将实现研发、制造、销售和服务全流程的本地化配置,届时芯片的生产成本将大幅下降,并推动重庆汽车电子、轨道交通、通讯、消费电子、家用电器、工业控制及大数据智能化等产业发展。来源...
发布时间: 2018 - 09 - 21
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从目前国内企业的规划来看,预计到2020年,国内12英寸硅片产能可以达到145万片/月,覆盖国内需求。此外,预计到2020年,国内8英寸硅片产能可以达到168万片/月,总投资规模超过500亿元。“集成电路最核心的就是硅材料,硅材料就是集成电路的树根。集成电路是直接建立在硅片上的,全国人民都知道硅芯片的重要,但是大家不知道硅材料更重要。可以说,没有硅材料,就没有硅芯片。”中科院院士杨德仁先生在2018中国集成电路产业发展研讨会上表示。▲硅材料国家重点实验室(浙江大学)杨德仁院士根据IC Insights的数据显示,2017年全球硅片需求量为1160万片/月,而国内的硅片需求量为110万片/月。杨院士表示,具体而言,目前国内所有生产线对于12英寸硅片每月的需求量大概为43万片-45万片,预计到2020年将增加至105万片/月,而对8英寸硅片的需求将从70万片/月增加到96.5万片/月。随着集成电路行业的不断发展,对于硅片的需求也在增加。2017年,整个集成电路配套材料的市场规模为263亿美元,其中硅片是份额最大的材料,市场规模大约为87亿美元,市场占比为31%-33%。预计到2020年,全球硅片市场规模将达到110亿美元。从全球市场来看,12英寸的硅片将成为集成电路最终竞争力最激烈的一个领域。据数据显示,2017年在整个硅片市场,12英寸硅片占比为63%,8英寸硅片占比27%,6英寸硅...
发布时间: 2018 - 09 - 20
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IT之家9月19日消息 在9月19日举办的云栖大会上,阿里巴巴正式宣布平头哥半导体有限公司的成立。平头哥半导体有限公司,是由阿里巴巴之前全资收购的嵌入式CPU IP的公司中天微和阿里达摩院芯片研发团队整合而成的一家芯片公司。之所以起这个名字,阿里巴巴CTO张建锋解释道,这是希望这家公司能学习一下平头哥“不怕”的精神,奋勇向前。阿里巴巴表示,平头哥半导体公司会在明年4月发布第一款神经网络芯片。▲阿里巴巴CTO张建锋科普一下,平头哥,学名蜜獾,以“世界上最无所畏惧的动物”被收录在吉尼斯世界纪录大全中数年之久,是非洲大草原有名的二哥,生死看淡不服就干是其“人生格言”。此外“平头哥”蜜獾生性好斗,从不畏惧,哪怕是非洲一哥狮子也毫不畏惧(因为这个原因平头哥被列入濒危动物)。除此之外,在大会上,阿里巴巴集团CEO张勇表示,在两年内阿里巴巴将会达到三年前提出的一万亿美元的近期目标。事实上,发展到现在,阿里巴巴已经19岁了,算是一个“大小伙子”了,阿里巴巴已经不单纯是一家电商了,现在的阿里巴巴已经发展成为为横跨电子商务、金融服务、物流、云计算、新零售等的庞大体系了。来源:IT之家延展阅读★华林科纳公司简介★华林科纳行业新闻★华林科纳产品中心★华林科纳人才招聘★半导体小课堂
发布时间: 2018 - 09 - 19
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继东芝半导体公司出售之后,回顾过去日本芯片企业动态,我们可以看到,日本企业专注于生产、专注于设计,以增强芯片产业的实力,日本是唯一一个曾经有能力与美国分庭抗礼的国家。在鼎盛时期的1993年,IC Insights发布的全球十大半导体公司中有6家日本公司。到了2018年,东芝半导体却成为硕果仅存的日本公司。过去的十五年日本发生了什么呢?从依赖进口到自主研发日本索尼公司的官网上至今都挂着这样一段历史,该公司创始人之一井深大1952年在美国进行为期3个月的调查旅行,期间听说了西方电器公司(WE)有意转让晶体管专利,但代价高达25000美元,这相当于日本东京通信工业公司(索尼前身)总资产的10%,尽管心生向往,但井深大最终带着遗憾回国。索尼的另一创始人盛田绍夫后来于1953年赴美谈判,最终拿下了这项技术。但他们并没有采纳WE的建议——将晶体管用做助听器,而是摸索出一个全新的应用领域。1955年,索尼研制出全球第一台晶体管收音机。1959年,索尼收音机销售额达250万美元。日本公司纷纷效仿。到1965年,日本的收音机出口量达到2421万台。另外,电子计算器和电视也撬动了美国市场的大门。日本消费电子在美国市场获得成功,不仅因为其产品创新和性价比高,还与美国的政策有关。当时美国将电子产业的重心转移到了军用上,这为日本的民用电子产品提供了机遇。到1960年代,日本半导体产业继续追赶美国。当时,日本...
发布时间: 2018 - 09 - 18
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我相信,石墨烯(graphene)将在未来催生半导体材料的下一个重大创新。材料创新一直是半导体产业中重要的一环。过去,最重要的是高κ闸极介电质;现在,则是钴成为在半导体中段制程(middle-of-line;MOL)触点中替代钨的重要元素。2004年发现的石墨烯,是迄今最轻薄但最强大的材料。它是碳的一个原子层,它比钢更强劲200倍,同时也是人类已知最轻薄的材料——每平方公尺的重量约0.77毫克(mg)。它同时也是室温下的理想导电和导热体。由于石墨烯是一个原子层,因此既柔软且透明。它还能在可见光与近红外线频谱范围展现均匀吸收光的能力,而且适用于自旋电子元件。针对即将出现的新半导体制程节点,石墨烯将在其先进封装与互连材料方面发挥重要作用。在3D IC封装中,石墨烯可作为散热片,用于降低整体热阻,或作为EMI屏蔽,以降低串扰。主动式石墨烯元件层可经由低温转换制程(至于互连,铜的动能逐渐消逝,而成为重大的IC瓶颈,预计在7nm节点时达到40%的延迟。石墨烯由于具有较高的电子迁移率和导热性,使其成为半导体中段和后段制程中更具吸引力的互连材料,特别是在线宽基于石墨烯的半导体应用已经开始进入市场。在今年于巴塞隆纳举行的世界行动通讯大会(MWC 2018)展出了一款整合石墨烯调变器和光探测器的新型光收发器,可实现高达每通道25Gbits/s的速度。美国圣地亚哥一家公司Nanomedical Dia...
发布时间: 2018 - 09 - 18
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9月15日,2018中国(绍兴)首届集成电路产业高峰论坛在绍兴市越城区召开,本次论坛以“融入大湾区,打造‘芯’高地”为主题,集中交流探讨新时期下集成电路产业创新机遇与挑战,把脉未来市场热点与应用,共商绍兴集成电路产业发展大计。浙江省人民政府副省长高兴夫、工信部电子信息司副司长吴胜武、市委书记马卫光、浙江省半导体行业协会理事长严晓浪、国家集成电路产业投资基金股份有限公司副总裁张春生等致辞,市委副书记、市长盛阅春主持。包括中科院院士杨德仁在内的约200位集成电路产业的专家学者、领军企业代表金融及投资服务机构代表,集成电路专业媒体代表等参加了此次会议。绍兴集成电路发展早,列入大湾区打造芯高地绍兴市集成电路的发展起始于华越微电子有限公司(原八七一厂)落户绍兴。八七一厂为原国家集成电路重点发展的五大支柱企业,八七一厂的到来为绍兴带来了当时集成电路产业最前沿的技术,营造了良好的氛围。随后,浙江华越芯装电子股份有限公司、绍兴光大芯业微电子有限公司、绍兴芯谷科技有限公司等一批集成电路产业企业先后成立。目前,绍兴集成电路产业链已基本完善,涵盖了设计、制造、封装测试、设备等多个领域。据统计,绍兴市共有集成电路产业企业13家,已初具规模,总投资58.8亿元的中芯国际也选择落户绍兴越城,目前已开工建设。2016年,全市集成电路产业主营业务收入13.8亿元,利润总额2.4亿元;2017年,主营业务收入达25...
发布时间: 2018 - 09 - 17
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