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全自动湿法去胶清洗机-CSE

发布时间： 2016 - 11 - 02

全自动湿法去胶清洗机-华林科纳（江苏）CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位，多年来与众多的集成电路生产企业密切合作，研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设备名称华林科纳（江苏）CSE-全自动湿法去胶清洗机设备设备概况尺寸(参考)：约3500（L）*1500(W)*2000(H)（具体尺寸根据实际图纸确定）清洗件规格：一次性可装8寸晶片25pcs典型生产节拍：5～10min/篮（清洗节拍连续可调）门：不锈钢合页门+PVC视窗主题构造特点设备由于是在一个腐蚀的环境，我们设备的排风方式，台面下抽风，每套工艺清洗槽都有自动开闭的槽盖，槽盖下有单独的抽风装置。设备结构外型，整机主要由机架、工艺槽体、机械手传输系统、排风系统、电控系统、水路系统及气路系统等组成。由于工艺槽内药液腐蚀性强，设备需要做防腐处理：（1）设备机架采用钢结构骨架包塑；（2）壳体采用镜面SUS316L不锈钢焊接，制程区由耐腐蚀的SUS316L板材组合焊接而成：（3）电气区设置在设备后上部，与湿区和管路区完全隔离；（4）槽体材料选用耐相应溶液腐蚀的材料；（5）机械手探人湿区部分的零部件表面喷氟或套PFA管处理。应用领域集成电路、声表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等设备制造商华林科纳（江苏）半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ；18913575037更多全自动湿法去胶清洗机设备可以关注华林科纳（江苏）半导体设备官网www.hlkncse.com；现在咨询400-8768-096，18913575037可立即免费获取华林科纳CSE提供的全自动湿法去胶清洗机设备的相关方案

金属剥离清洗机-CSE

发布时间： 2017 - 12 - 07

金属剥离清洗机-华林科纳（江苏）CSE微机电系统（MEMS)是指用微机械加工技术制作的包括传感器/微致动器/微能源/等微机械基本部分以及高性能的电子集成线路组成的微机电器件与装置。其典型的生产工艺流程为：成膜工艺（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:溅射/电镀/掺杂：扩散注入退火）→光刻图形（旋涂/光刻/显影）→干法/湿法/ 刻蚀（湿法刻蚀/硅刻蚀/SiO₂刻蚀/去胶清洗/金属刻蚀/金属剥离/RCA清洗）设备名称华林科纳（江苏）CSE-金属剥离清洗机设备系列CSE-CX13系列设备概况尺寸(参考)：机台尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH（具体尺寸根据实际图纸确定）清洗量：6寸25装花篮2篮；重量：500Kg( 大约)；工作环境：室内放置；主体构造特点外壳：不锈钢304 板组合焊接而成。安全门：无安全门，采用敞开式设计；管路系统：药液管路采用不锈钢管，纯水管路采用CL-PVC管；阀门：药液管路阀门采用不锈钢电磁阀门；排风：后下抽风，动力抽风法兰位于机台上部；水汽枪：配有水气枪各2把，分置于两侧；隔板：药液槽之间配有隔离板，防止药液交叉污染；照明：机台上方配照明（与工作区隔离）；机台支脚：有滑轮装置及固定装置，并且有高低调整及锁定功能。三色警示灯置于机台上方明显处。工作槽参数剥离洗槽槽体：不锈钢316，有效尺寸405×220×260mm；化学药品：剥离洗液；药液供液：人工手动加入；工作温度：60℃并可调；温度可调；加热方式：五面体贴膜加热/投入式加热器加入热；液位控制：采用N2背压数位检测；计时功能：工艺时间可设定，并可调，到设定时间后声鸣提示，点击按钮后开始倒序计时；批次记忆：药液使用次数可记忆，药液供入时间可记忆，设定次数和设定时间到后更换药液；排液：排液管道材质为不锈钢管，按钮控制；槽盖：配有手动槽盖；IPA槽...

石英管道清洗机设备-CSE

发布时间： 2016 - 12 - 05

管道清洗机设备—华林科纳CSE半自动石英管清洗设备适用于卧式或立式石英管清洗优点石英管清洗：卧式—标准/立式—选项先进的图形化界面极高的生产效率最佳的占地结合最先进工艺技术优越的可靠性独特的模块化结构极其便于维修应用清洗不同尺寸的石英管一般特征可编程使得清洗管旋转，清洗更干净 PVDF工艺槽装有清洗溶剂的储备槽（根据使用化学品的数量）放置在工艺槽的后下方 — 直接注入且内部进行不断循环特别的喷淋嘴更益于石英管清洗集成水枪和N2抢单独排液系统安全盖子易于操作和控制节约用酸系统全自动的清洗工艺步骤备件经济实惠的PP外壳材料—标准更多的石英管道清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网（www.hlkncse.com），现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

半自动石英管清洗机

发布时间： 2016 - 03 - 14

1、设备概况：主要功能：本设备主要采用手动搬运方式，通过对扩散、外延等设备的石英管、碳化硅管腐蚀、漂洗等方式进行处理，从而达到一个用户要求的清洗效果。主体采用德国劳士领瓷白PP板，骨架采用不锈钢外包PP 防腐板；设备名称：半自动石英管清洗机设备型号：CSE-SC-N401整机尺寸(参考)：4500mm*1500mm*2100mm；被清洗炉管尺寸（Max）：也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物设备形式:室内放置型;节拍：约1--12小时（节拍可调根据实际工艺时间而定）操作形式：半自动2、设备描述：此装置是一个半自动的处理设备。PROFACE 8.0英寸大型触摸屏显示 / 检测 / 操作清洗工作过程由三菱 / 欧姆龙PLC控制。3、设备特点：腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作;结合华林科纳公司全体同仁之力,多年品质保障,使其各部分远远领先同类产品;设备上层电器控制系统及抽风系统，中层工作区，下层为管道安装维修区，主体结构由清洗机主体、酸洗槽、水清洗槽、防漏盘、抽风系统、工件滚动系统、氮气鼓泡系统、支撑及旋转驱动机构、管路部分、电控部分。本设备装有双防漏盘结构，并有防漏检测报警系统，在整台设备的底部装有接液盘。设备配有在槽体下方配有倾斜式防漏层。4、工艺流程：检查水、电、气正常→启动电源→人工上料→注酸→槽体底部氮气鼓泡→石英管转动（7转/min）→进入酸泡程序→自动排酸(到储酸箱)→槽体底部自动注水（同时气动碟阀关闭）→悬浮颗粒物经过溢流坝流出→排水碟阀打开（重颗粒杂质排出）→初级洁净水经过溢流坝溢出→清洗次数重复循环（人工控制）→下料。酸洗和水洗在同一槽内完成1#，2#可通过循环泵循环使用...

Definition of KOH Etching CSE

发布时间： 2017 - 12 - 08

KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...

Wet Bench CSE

发布时间： 2017 - 12 - 08

WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...

Single cavity vertical dryer -CSE

发布时间： 2018 - 01 - 02

Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...

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Quartz Tube Cleaning CSE

CSE’s Horizontal Quartz Tube Cleaning Stations are designed and built around your quartz tube configuration. All quartz tube cleaners incorporate an acid spray cycle, rinse cycle and an option dry cycle. Once the application is defined we add appropriate options like holding tanks, programmable rinse cycles, bottle washer and T/C sheath cleaner to complete your design. All tube cleaners include all required safety features with sign off drawings. Our expertise in developingquartz tube cleaning stations and outstanding customer support gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support. Quartz Tube Cleaning Station Benefits Include:§ Custom designed around your tube requi...

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CSE 实验室自动配液机（灌装机）化学品配液机

实验室自动配液机（灌装机）CSE-LIQOUR-II　　随着湿化学设备在LED、太阳能、MEMS、功率器件、分立器件、先进封装和半导体材料等领域自动化程度的不断提高，传统的人工手动配液、补液逐渐由自动配液取代。　　然而，在湿制程工艺实验以及生物配药实验等实验验证的过程中，大多数还保持着采用量筒量杯逐一调配制程药液的方法。采用人为手工配置药液不仅精度得不到保证，而且化学品大多有腐蚀性、毒性等特点（如硫酸H2SO4、硝酸HNO3、磷酸H3PO4、盐酸HCL、氢氟酸HF、缓冲氧化物刻蚀液BOE等酸性溶液；氨水NH4OH、氢氧化钾KOH等碱性溶液；NMP溶液、丙酮、甲醇、IPA等有机液），在配比过程中对操作人员具有一定的危险性。　　为解决实验室手动配液的弊端，华林科纳（江苏）半导体设备有限公司开发研制了新型实验室自动配液机（灌装机）CSE-LIQOUR-II。此配液机专为化学生物制药工艺实验室设计，是用来满足药液自动配比的设备，通过称重、流量计准确计量、气压输送或注塞抽取等方式将药液按照比例输送，配液精确度能够达到2‰。　　该设备操作自动化，质量好，能预防药液污染。适用于半导体清洗和药厂配制普通液体药剂等用途，具有以下优点：　　1）操作安全：系统应具有抗腐蚀性、毒性、耐压、防燃防爆等功能，保证操作者安全；　　2）兼容性：与化学品接触部分完全与输送化学品兼容，对化学品零污染；　　3）自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化；　　4）精确配比：系统连续供液（配液、补液）过程中准确可靠，脉动性较好；　　5）泄漏警报：检测泄漏及紧急关闭系统(E-MO)；　　6）其他：系统自诊断及管路维修保养功能。　　作为湿制程设备专业制造商，华林科纳（江苏）半导体设备有限公司对实验室自动配液机（灌装机）CSE-LIQOUR-II的成功研发，为湿制程工艺实验室或生物配药实验室的精确配比，提升实验人员的实验...

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太阳能单晶制绒清洗机设备-CSE

太阳能单晶制绒清洗机设备-CSE华林科纳（江苏）CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。生产工艺流程为：预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结太阳能电池片湿法设备主要技术特点：1.独特的双槽制绒工艺槽设计；2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本；3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制；4.机械传动特殊设计及人性化安全保证；5.适应性强的工艺过程控制。在太阳能电池生产中，制绒是晶硅电池的第一道工艺。华林科纳CSE的工程师提到对于单晶硅来说，制绒的目的就是延长光在电池表面的传播路径，从而提高太阳能电池对光的吸收效率。单晶硅制绒的主要方法是用碱（NaOH、KOH）对硅片表面进行腐蚀。由于硅片的内部结构不同，各向异性的碱液制绒主要是使晶向分布均匀的单晶硅表面形成类似“金字塔”状的绒面，有效地增强硅片对入射太阳光的吸收，从而提高光生电流密度。对于既可获得低的表面反射率，又有利于太阳能电池的后续制作工艺的绒面，应该是金字塔大小均匀，单体尺寸在 2～10 μm之间，相邻金字塔之间没有空隙，即覆盖率达到100%。理想质量绒面的形成，受到了诸多因素的影响，如硅片被腐蚀前的表面状态、制绒液的组成、各组分的含量、温度、反应时间等。而在工业生产中，对这一工艺过程的影响因素更加复杂，例如加工硅片的数量、醇类的挥发、反应产物在溶液中的积聚、制绒液中各组分的变化等。为了维持生产良好的可重复性，并获得高的生产效率。就要比较透彻地了解金字塔绒面的形成机理，控制对制绒过程中影响较大的因素，在较短的时间内形成质量较好的金字塔绒面。单晶制绒的工艺比较复杂，不同公司有各自独特的制绒方法。一般碱制绒有以下几种方法：...

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全自动硅料清洗机 ---华林科纳CSE

全自动硅料清洗机 ---华林科纳CSE华林科纳（江苏）CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。生产工艺流程为：预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结太阳能电池片湿法设备主要技术特点：1.独特的双槽制绒工艺槽设计；2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本；3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制；4.机械传动特殊设计及人性化安全保证；5.适应性强的工艺过程控制。特点：1）主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理。2）工艺流程：根据客户需求定制，可处理腐蚀、清洗、超声、加热、干燥、上料、喷淋、酸洗、漂洗、下料等工艺；3）控制方式：手动或自动4）材质：根据客户及工艺需求选用，可选PP、PVC、PVDF、石英、不锈钢等材质，保证设备的耐用性；5）槽体的槽底均为倾斜漏斗式结构，便于清洗和排渣； 6）设备设有旋转装置使工件达到更好的清洗效果；7）顶部设有排雾系统结合酸雾塔进行废雾、废水处理避免污染环境；8）PLC控制人机界面操作显示能根据实际情况更改清洗参数。更多的太阳能光伏清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网（www.hlkncse.com），现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

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全自动硅芯硅棒清洗机---CSE

全自动硅芯硅棒清洗机---CSE华林科纳（江苏）CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。生产工艺流程为：预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结太阳能电池片湿法设备主要技术特点：1.独特的双槽制绒工艺槽设计；2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本；3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制；4.机械传动特殊设计及人性化安全保证；5.适应性强的工艺过程控制。产品描述1）主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理。2）工艺流程：根据客户需求定制，可处理腐蚀、清洗、超声、加热、干燥、上料、喷淋、酸洗、漂洗、下料等工艺；3）控制方式：手动或自动4）材质：根据客户及工艺需求选用，可选PP、PVC、PVDF、石英、不锈钢等材质，保证设备的耐用性；5）槽体的槽底均为倾斜漏斗式结构，便于清洗和排渣； 6）设备设有旋转装置使工件达到更好的清洗效果；7）顶部设有排雾系统结合酸雾塔进行废雾、废水处理避免污染环境；8）PLC控制人机界面操作显示能根据实际情况更改清洗参数。更多的太阳能光伏清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网（www.hlcas.com），现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

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显影清洗机-CSE

显影清洗机CSE-华林科纳（江苏）微机电系统（MEMS)是指用微机械加工技术制作的包括传感器/微致动器/微能源/等微机械基本部分以及高性能的电子集成线路组成的微机电器件与装置。其典型的生产工艺流程为：成膜工艺（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:溅射/电镀/掺杂：扩散注入退火）→光刻图形（旋涂/光刻/显影）→干法/湿法/ 刻蚀（湿法刻蚀/硅刻蚀/SiO₂刻蚀/去胶清洗/金属刻蚀/金属剥离/RCA清洗）设备概述设备名称：显影清洗机整机尺寸：约1000mm(L) ×1260mm(W) ×1900mm(H)（具体尺寸根据实际图纸确定）主体构造特点设备包括设备主体、电气控制部分、显影清洗槽等；并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等主体设备主体使用德国劳士林10mm瓷白PP骨架SUS304+PP德国劳士领板组合而成安全门设备安装高透明PVC上下推拉安全门，分隔与保护人员安全；边缘处设备密封条台面高度约900mm，适合高于1.5米人群操作工艺槽模组化设计，放置在同一个承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成，杜绝机台的渗漏危险。管路系统位于设备下部，所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明；药液管路采用劳士林PP管，纯水管路采用积水CL-PVC管，废液可通过专用管道排放电气保护电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区，电气元件有充分的防护以免腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠。工作照明上方防酸型照明220V 40W 可更换水气枪机台前部配备有PP纯水枪和PP CDA枪各一只置左右两侧，水枪滴漏活水设计，方便操作员手工清洗槽体或工件机台支脚有滑轮装置及固定装置并加防腐座，并且有高低调整及锁定功能安全保障完善的报警和保护设计，排风压力、液位、排液均有硬件或软件互锁，直观的操作界面，清晰的信息提示，保障了生产、工艺控制和安全性三色...

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全自动制绒清洗机-CSE

全自动制绒清洗机设备--CSE华林科纳（江苏）CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展，致力于“设备+工艺”的研发模式，现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。生产工艺流程为：预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结太阳能电池片湿法设备主要技术特点：1.独特的双槽制绒工艺槽设计；2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本；3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制；4.机械传动特殊设计及人性化安全保证；5.适应性强的工艺过程控制。产品描述1）主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理。2）工艺流程：根据客户需求定制，可处理腐蚀、清洗、超声、加热、干燥、上料、喷淋、酸洗、漂洗、下料等工艺；3）控制方式：手动或自动4）材质：根据客户及工艺需求选用，可选PP、PVC、PVDF、石英、不锈钢等材质，保证设备的耐用性；5）槽体的槽底均为倾斜漏斗式结构，便于清洗和排渣； 6）设备设有旋转装置使工件达到更好的清洗效果；7）顶部设有排雾系统结合酸雾塔进行废雾、废水处理避免污染环境；8）PLC控制人机界面操作显示能根据实际情况更改清洗参数。更多的太阳能单晶多晶硅片制绒腐蚀清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网（www.hlcas.com），现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

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晶圆清洗机-CSE

晶圆清洗机设备名称：晶圆清洗机-CSE产品特点：• 针对21英寸外径或15x15英寸的基底• 巨声环境清洗舱（可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气）• 化学注射臂• 带化学喷射的可变速清洗刷• 触屏用户界面• 手动上下载• 安全锁和报警器• 占地尺寸30”D x 26”W 可选配项：• 化学试剂传送单元• 白骨化清洗• 臭氧发生器• 氢化双氧水发生器• 高压双氧单元• 硫酸氢过氧化物• 红外加热• 双氧水循环装置• 机械手上下载单元• 带EFEM和SMIF界面的集群系统清洗功能• 晶圆片• 蓝宝石外延片• 晶圆框架上的芯片• 显示面板• ITO膜显示材料• 有图形掩膜和无图形掩膜• 掩膜坯料• 薄膜式掩膜• 接触式掩膜光刻处理工艺• SPM剥离• 光刻胶涂膜• 光刻胶剥离工艺刻蚀• 金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）白骨化清洗• 在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液• 红外加热• 刷洗• 兆声双氧水清洗• 热氮和甩干去胶/剥离工艺• 带红外加热的NMP滴胶• 刷洗• 兆声双氧水清洗• 热氮和甩干CMP溶液清洗• 用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒• 化学喷射臂• 化学喷射罐• 为前面和背面刷洗设计的特殊托盘• 可调速的PVA清洗刷• 可调的清洗刷/晶圆接触压力• 刷式化学喷射带膜/不带膜式掩膜清洗• 全套清洗（无需更换保护膜）• 全保护膜• 膜式掩膜清洗工艺 1) 掩膜背面清洗后兆声双氧水清洗刷式清洗化学清洗热氮甩干 2)热氮甩干更多半导体设备可以关注华林科纳（江苏）半导体设备官网www.hlkncse.com；现在咨询400-8768-096，18913575037可立即免费获取华林科纳CSE提供的设备相关方案

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无机清洗机-CSE

无机清洗机设备名称：无机清洗机设备型号：CSE-JR11-WJ04整机尺寸(参考)：约2000mmL×1400mmW×2000mmH；硅片尺寸：2寸～6寸工作环境：室内放置；操作形式：手动重量：650Kg( 大约)；苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所合资成立于2008年3月，投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备的研发、技术推广和生产销售。

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硅片清洗机--华林科纳CSE

硅片湿法清洗技术与设备---华林科纳CSE硅片制造过程中，在进行下一步工艺前要获得一个洁净的表面，以保证后道工艺能再一个完全洁净的表面上进行，这就需要对硅片进行清洗。清洗是硅片制造过程中重复次数最多的工艺。目前，在清洗工艺中使用最多的就是湿法清洗技术，华林科纳半导体设备公司的硅片湿法腐蚀清洗机在半导体行业得到了很多客户的认可.1 硅片湿法清洗的种类1.1 刷洗刷洗是去除硅片表面颗粒的一种直接而有效的方法，该清洗技术一般用在切割或抛光后的硅片清洗上，可高效地清除抛光后产生的大量颗粒。刷洗一般有单面或双面两种模式，双面模式可同时清洗硅片的两面。刷洗有时也与超声及去离子水或化学液一起配合使用，以达到更好的清洗效果和更高的清洗效率。1.2 化学清洗1.2.1 RCA 清洗20 世纪 60 年代，由美国无线电公司（RCA）研发了用于硅片清洗的 RCA 清洗技术，这种技术成为后来各种化学清洗技术的基础，现在大多数工厂所使用的清洗技术都是基于最初的 RCA 清洗法。RCA 清洗是按照一定的顺序依次浸入两种标准清洗液(SC-1 和 SC-2)中来完成，这两种清洗液的使用温度一般在 80 ℃以内，有时也需要将溶液冷却到室温以下。1.2.2 改进的 RCA 清洗RCA 清洗一般都需要在高温下进行，并且化学液的浓度很高，这样就造成大量消耗化学液和去离子水的问题。目前，很少有人还按照最初的 RCA化学液配比进行湿法清洗。在 RCA 清洗的基础上，采用稀释化学法，将SC-1、SC-2 稀释到 100 倍以上，也可以达到甚至超过最初的 RCA 清洗效果。改进的 RCA 清洗方法最大的好处是减少了化学液的消耗，可使化学液的消耗量减少 85﹪以上。另外，附加兆声或超声能量后，可大大降低溶液的使用温度和反应时间，提高溶液的使用寿命，大幅度降低了生产成本，同时，低浓度化学液对人体健康和安全方面...

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晶片清洗机-华林科纳CSE

晶片清洗机设备名称:晶片清洗机-华林科纳CSE清洗对象:本设备适用于2″~8″晶片清洗。 ⑴超声清洗,加热清洗为单槽定时控制,到时给予结束提示音。⑵工艺过程:上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下料本设备为柜体式,操作面带有透明门窗。⑴槽体材料为德国进口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德国磁白色PP板,外型美观实用。 ⑵设备超声,加热清洗时间由定时器控制。 ⑶加热槽装有温控表(pompon)和传感器。 ⑷每个清洗槽互不影响,超声、冲洗清洗槽的上给水(冲洗清洗槽配有热水)、下排水为手动方式。 ⑸配有可调节式的排风装置。 ⑹配有美国进口氮气喷枪。 ⑺电控部分采用密封保护方式配有紧急停机及报警装置。更多半导体设备可以关注华林科纳（江苏）半导体设备官网www.hlkncse.com；现在咨询400-8768-096，18913575037可立即免费获取华林科纳CSE提供的设备相关方案

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太阳能硅片制绒腐蚀清洗机-CSE

太阳能硅片制绒腐蚀清洗机-CSE在光伏发电领域，由于多晶硅电池片成本较低，其市场占有率已跃居首位，但相对于单晶硅电池片而言仍存在着反射率较高、电池效率不足的缺陷。为缩小多晶硅太阳能电池片与单晶硅太阳能电池片之间的差距，采用织构化多晶硅表面的方法提高多晶硅片吸光能力是一条行之有效的途径。目前，多晶硅表面织构化的方法主要有机械刻槽、激光刻槽、反应离子体蚀刻、酸腐蚀制绒等，其中各向同性酸腐制绒技术的工艺简单，可以较容易地整合到多晶硅太阳能电池的生产工序中，同时成本最低，因而在大规模的工业生产中得到了广泛的应用。更多的太阳能硅片制绒腐蚀清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网（www.hlkncse.com），现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

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