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湿制程设备制造商


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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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华林科纳CSE硅片有机清洗机 

时间: 2016-03-23
点击次数: 82

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 设备概述

华林科纳CSE硅片有机清洗机,设备设计由华林科纳聘请的从事半导体生产的专家亲自指导,采用国际先进的生产加工工艺,在超净厂房组装测试,有可靠的质量保障。设备由不锈钢骨架,外包10mm厚瓷白防火PP板,洁净美观,耐腐蚀。电控面板置于机台上方,方便操作,并有防腐蚀保护,具有严格的安全防护措置。此设备腐蚀清洗装置主要是浸泡式清洗腐蚀、清洗主体(槽体部分/管路部分等),抽风系统,电控及操作台等部分组成,腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠。适用于4、6、8英寸硅片的清洗处理,腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠。

设备结构
    ※ 此设备腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀、清洗主体(槽体部分/管路部分等),抽风系统,机械臂,电控及操作台等部分组成;
    ※ 设备工艺流程:根据设备所放场地布置要求(与客户沟通确定),设备左进右出,经手动放置上料位→AB清洗槽→AB清洗槽→DI冲水槽→HCL清洗槽→DI溢流槽→下料台,工艺处理合格后经操作人员手动下料;
    ※ 安全门:进口优质透明PVC活动门(左右、上下推拉式),防止有毒气体挥发到室内,保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;
    ※ 提篮设计精巧,槽体间转移时将残留液体降到最低;
    ※ 机械臂采用丝杠平稳控制方式,提篮不会晃动;
    ※ 提升重量不大于15KG;
    ※ 机械臂的定位精度高;
    ※ 机械手单独急停开关、系统急停开关和机械手电机自动过载保护等多重保护,确保操作者的安全。
    ※ 机械臂的横向移动和纵向提升均采用日本进口伺服电机,闭环控制,定位精度≤1.0mm, 可靠性高;采用圆导轨结构及线性模块传动,机械臂升降部及悬臂部均用喷塑及 PP包裹,确保机械臂寿命;


设备主要技术参数
    ※ 设备外形尺寸(参考)3200mm(长) ×1500 mm (宽) ×2000 mm (高)
    ※ 外壳:德国进口10mm磁白色NPP板
    ※ 骨架:50*25 SUS方管,外包3mmNPP板;
    ※ 排风:位于机台后部;
    ※ 管路系统:位于机台后方, DIW管路及构件采用进口clean-PVC管材,满足18MW去离子水水质要求;
    ※ 有机械手自动从上料位抓取花篮,自动完成清洗工艺到下料位,手动取出;
    ※ 防漏装置:具有药液漏夜在线监测装置;
    ※ 电源(用户提供):380VAC±10%频率50HZ±10%;
    ※ 整机额定电功率(参考): 5KW;
    ※ 电气性能:E级,并有良好的接地;
    ※ DI水:压力2-3KG/C㎡,流量2m³/hr(max),电阻率18M;
    ※ 气源:N2(用户提供):0.5~0.7Mpa,流量:200L/MIN;;
    ※ 排气管路:PVDF  Φ150×2  排量30m3/min  负压150Pa  调节风阀 PVDF
    ※ 环境要求:空气温度5—30 ℃ ;相对湿度:80%


电器控制
    ※ 采用优质进口日本欧姆龙PLC可编程控制器控制全操作过程,可手动操作,方便工艺操作时间的修改;
    ※ 人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质进口日本欧姆龙产品;
    ※ 触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;
    ※ 设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;
    ※ 设备的主机、附件及所有附属设施应采取设备安全防护措施,具有防止意外断气、断电后,维持工作构件正确位置等安全保护措施及装置;
    ※ 设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;
    ※ 电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;
    ※ 设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;
    ※ 所有的电控系统均装有漏电保护器件,并有可靠的接地装置及紧急关机和报警系统;
    ※ 设备具有良好的接地装置;
    ※ 配有独立的配电箱,电路方面进行功能分块,强电、弱电分块,以便于维护;


安全防护
    ※ 设备照明:设备配有照明灯;
    ※ 设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电、防火保护和设备漏液、故障等声光报警提示装置,保证性能安全可靠;
    ※ 在设备的适当位置装有急停按钮,按下时各工位停止工作,以满足安全需要;
    ※ 设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;
    ※ 所有的电控系统均装有漏电保护器件,并有可靠的接地装置及紧急关机和报警系统;
    ※ 配有独立的配电箱,电路方面进行功能分块,强电、弱电分块,以便于维护;


技术保障
    ※ 系统结构采用国外典型处理方法,保证系统结构的合理性和适应性;
    ※ 设备禁止在工艺进行时打开安全门,如果安全门打开工艺停止;
    ※ 废气处理不达标或排风达不到设定的排风流量时,药液自动排掉,片子放在DIW水中,防止片子腐蚀过度;
    ※ 设备有故障时,自动停止工艺,等故障排除,工艺重新开始;
    ※ 储液槽液位过低,系统自动报警,提示补液;
    ※ 药液槽液位或配比不能满足工艺要求时,设备报警,并停止工艺,直至达到要求;
    ※ 在设备运行时禁止打开电控柜,防止触电;
    ※ 结构采用洁净化处理技术,可达到国外同类产品水平;
    ※ 采用国外进口元器件及专业厂家产品;
    ※ 国产元器件采用国内专业厂家生产和经证实质量优质的高性能元件;
    ※ 华林科纳设备的设计、生产、制造均采用ISO9001和军工质量管理体系保证;
    ※ 华林科纳设备出厂前都经过严格的渗漏检查。
  

 

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