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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
新闻中心 新闻资讯
2019年上半年接近尾声,华林科纳设备事业部喜讯频频。5月28日再次签下上海12寸晶圆产线晶圆项目的slurry供应系统千万大单,标志着华林科纳Slurry供应系统在大尺寸晶圆项目上取得新的突破。究竟什么是Slurry供应系统?在厂务化学系统中,与CMP制程关系最为密切的就是Slurry化学研磨液供应系统。Slurry供应系统是指无间断(24小时/天,365天/年)为CMP提供制程所需要的化学研磨液的系统。一旦厂务Slurry供应系统出现异常,将使CMP制程造成极为严重的损失,Slurry品质至关重要。这次客户选择华林科纳作为Slurry供应系统项目的合作对象,是对我们产品品质最大的认可。接下来,我们华林科纳也将会以最大能力保障客户Slurry供应系统的稳定性与安全性。
发布时间: 2019 - 05 - 29
浏览次数:56
在华林科纳公司领导和各部门员工的不懈努力下,经过认证机构资深专家的现场审核,华林科纳半导体设备有限公司环境管理体系各方面实施效果均已达到ISO14001:2015标准的要求,顺利通过了ISO14001的认证审核,向华林科纳正式颁发ISO14001:2015环境管理体系认证证书。  作为国内著名的半导体湿制程设备供应商,华林科纳不仅追求在技术、产品质量、服务等各方面领先,而且积极履行对环境保护的社会义务,为全球环境与可持续发展做出贡献。 此次能顺利通过ISO14001:2015环境管理体系认证,是对华林科纳环境体系管理工作的高度肯定,今后将严格按照环境管理体系认证的要求,不断完善优化公司环境管理体系各项工作。
发布时间: 2019 - 04 - 22
浏览次数:42
3月21日,华林科纳半导体与台湾弘塑科技签订战略合作协议。华林科纳、弘塑科技、三菱电机、香港应用科技研究院、文治资本、上海交通大学微电子学院均派出代表出席并见证了签约仪式。根据协议,双方将本着“强强联合、优势互补、合作共赢”的原则,积极推进在半导体湿制程领域的设备研发、制造、售后服务支持等方面合作,促进共同发展。↑ 签约仪式在签约仪式中,双方进行了友好交流。华林科纳半导体作为国内湿制程设备领域的优质供应商,业务范围涵盖了湿法清洗、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛应用于大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、MEMS等领域。弘塑科技股份有限公司作为台湾半导体设备制造的领先品牌,此次与华林科纳半导体签约是双方友好合作的起点,要借此契机从长远性和战略性的高度,深化合作领域,加大8寸及12寸单片旋转清洗设备、电镀设备等高端设备的新产品研发、生产与销售。通过紧密和高效的合作,释放1+12的增值效益,携手探寻半导体设备领域的新发展。↑ 弘塑代表发言↑ 签约仪式现场
发布时间: 2019 - 04 - 18
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新南威尔士大学(The University of New South Wales),澳大利亚一所世界顶尖级研究学府,简称UNSW,创立于1949年,其主校区位于新州首府悉尼。新南威尔士大学素有“南半球的麻省理工”之称,其工程学院是澳大利亚规模最大的工程学院。据澳大利亚公布的最及影响力的百强工程师名单中,近四分之一毕业于新南威尔士大学。
发布时间: 2019 - 04 - 09
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清明节将至,公司举办了节前最后一期专业技术培训会系列学习活动,我们邀请了华林科纳配件合作伙伴刘礼达、尹卫卫先生,为公司同事们全面介绍了设备配件与耗材相关要点,包括PTFE、PFA等材料特性以及阀门配件的选型。参加培训的同事们积极讨论,表示为了能够全面的熟悉设备的每一个环节,以后还应该系统的学习专业知识,做好笔记,把握细节品质。今年是华林科纳树立产品标杆形象的一年,节后还将会有更多的业内专家走进华林科纳,展开相关领域的培训与分享。
发布时间: 2019 - 04 - 09
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SEMICON 展会刚刚结束,华林科纳的同仁们并没有就此可以放松下来。我们邀请了超声设备专家江捍忠先生,为第二期部门同事们提供了全新的超声波技术课程。课程涵盖了4个版块:超声波清洗定义及分类、超声波空化作用、发生器技术、兆声波清洗的原理。版块一:超声波清洗定义及分类在该版块中,超声设备专家江捍忠先生首先分享了工艺流程选择,指出在不同的工艺流程中采用多道超声波清洗,对高品位的磁性材料较为合适,能很好地保证后续的电镀质量。当然,加工企业应根据具体磁性材料和自己的操作条件来选择不同的清洗工艺流程。他提到声波是疏密波,在稀疏区域实际压强小于原来的静压强,在稠密区域实际压强大于原来的静压强,声压的周期性变化可以控制电流的周期性变化。版块二:超声波空化作用清洗效果是随着超声波功率密度增加而提高的。但过高的功率密度会由于空化作用过份强烈而引起被清洗件表面的浸蚀(即所谓空化腐蚀),从而使被清洗件表面受到损伤。这种现象尤其对工件上的各种镀层以及铝合金件更为突出。版块三:发生器技术超声波清洗设备主要由超声波发生器及清洗槽两大部分组成。在被清洗件批量较大的情况下,还附有清洗液循环装置;有时为了实现清洗过程自动化,还附有被清洗件传送装置。一般情况下,超声波发生器和清洗槽是两个结构上互相独立的装置,它们之间仅用一根电缆线连接起来,以传送电功率。但也有的超声波清洗设备是将发生器与清洗槽组合为一体的。版块四:兆...
发布时间: 2019 - 04 - 01
浏览次数:33
3月22日,为期3天的SEMICON China 2019上海电子展正式落下帷幕,展会最后一天,展台内依旧人头攒动,热闹非凡。众多客商对华林科纳的湿制程设备、阀门器件表示出浓厚的兴趣,纷纷驻足观看,交流研究。作为湿制程设备专业制造商,在展会期间,华林科纳吸引了一波又一波的商客前来参观,现场高涨的人气无不在彰显着华林科纳的品牌实力。3月21日,华林科纳在SEMICON China 2019 展会结束之后,在上海世纪皇冠假日酒店举办半导体制造企业沙龙,来自政府、行业协会、业内专家、企业代表、媒体代表近百位嘉宾参加本次会议。本次企业沙龙致力于推动半导体湿制程工艺领域的信息交流与合作,整合创新资源,探索行业管理和科技服务的新模式,进一步促进产业发展与技术进步。现场气氛非常融洽。在会议现场,华林科纳与弘塑科技达成战略合作,双方签署了战略合作框架协议,一致同意就科研项目、科研平台、人才培养等方面实现技术和资源共享,实现互利共赢。非常感谢每一位光临华林科纳展台的业界朋友!感恩有您,携手共进!华林科纳参展SEMICON CHINA 2019完美收官,期待明年与您再次相遇!
发布时间: 2019 - 04 - 01
浏览次数:35
3月21日,华林科纳在SEMICON China 2019 展会结束之后,在上海世纪皇冠假日酒店举办半导体制造企业沙龙,来自政府、行业协会、业内专家、企业代表、媒体代表近百位嘉宾参加本次会议。本次企业沙龙致力于推动半导体湿制程工艺领域的信息交流与合作,整合创新资源,探索行业管理和科技服务的新模式,进一步促进产业发展与技术进步。现场气氛非常融洽。
发布时间: 2019 - 04 - 01
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3月20日,SEMICON China 2019中国半导体展开展第一天,华林科纳展区一经亮相,便圈粉无数。现场快报,带您一起去看看华林科纳的新技术,新产品、新亮点!!感谢各位亲爱的朋友们,第一天就快要把我们的展位挤爆了。大家对我们的湿制程设备、阀门等都非常感兴趣,得到了新老客户的赞誉。赶快来我们的展位  N5-5584 ,从上海新国际展览中心3号门入口可直达5号馆,超大超全的产品展示,恭候您的大驾。今年我们的准备的礼品都非常不错哦,只要拉到最下扫码关注我们,来展会现场出示公众号即可得到,数量有限,要抓紧啦。
发布时间: 2019 - 04 - 01
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2019年3月20-22日SEMICON China 将在上海新国际博览中心举办。25年来,SEMICON China伴随着中国半导体产业的蓬勃发展而成为中国权威的半导体行业盛会之一。展会开始进入倒计时了!我们期待您的大驾光临,在此奉上贴心的《参观指南》。
发布时间: 2019 - 03 - 16
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