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外延片清洗机-CSE

发布时间： 2017 - 12 - 06

在LED外延及芯片制造领域，湿法设备占据约40%以上的工艺，随着工艺技术的不断发展，湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备，如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺，现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为：外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封，具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制，功能强大，操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ；18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网（www.hlkncse.com），现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。

旋转式喷镀台-CSE

发布时间： 2017 - 12 - 06

旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点，在6＂（150mm）晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成，一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、Ｎ２保护单元组成的阴极回转体，二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下：从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出，采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中，阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决，从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式，可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射，实现搅拌功能，消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构，镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行，可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证，镀液入口采用扇形喷咀式结构，可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理，由于结构上的特点，该方法经实验验证具有：①结构简单；②工艺参数控制容易；③有利气泡的消除；④镀制均匀性得到提高；⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺，同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统，目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用，产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标：最大晶...

双腔甩干机

发布时间： 2016 - 06 - 22

双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台，可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下. 2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計，隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子，並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨，並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告，氣體不足，傳動異常警告 5. 電控系統l 控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen，整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...

枚叶式清洗机-华林科纳CSE

发布时间： 2016 - 03 - 07

枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长：单片式清洗装置的优点（与浸渍.槽式比较）1.晶片表面的微粒数非常少（到25nm可对应）例：附着粒子数…10个/W以下（0.08UM以上粒子）（参考）槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…（例）1%DHF的情况 20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size（根据每个客户可以定制）液体溅射（尘埃强制除去）（推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网（www.hlkncas.com），现在热线咨询400-8768-096；18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

自动供酸系统（CDS）-CSE

发布时间： 2016 - 03 - 07

自动供酸系统（CDS）-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统适用对象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送，经管道至设备；具有自动化程度高，配比精确，操作简便等特点；具有良好的耐腐蚀性能。控制模式：手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统（Chemical Dispense System System）简称：CDS2. CDS 将设置于化学房内：酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房；3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材，内部管路及组件采PFA 451 HP 材质；4. 系统为采以化学原液双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点；5. 过滤器：配有10” PFA材质过滤器外壳；6. 供液泵：每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸碱类采用一般型静电容近接开关；8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能：每种化学液体配两个桶（自动切换）、配两台泵（一用一备）、带过滤器；系统控制单元：配带OMRON 8”彩色触摸屏，OMRON品牌PLC系统；2. 操作模式： CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制，操作介面以流程方式执行，兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...

单片清洗机CSE

发布时间： 2018 - 01 - 23

单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗（包括光刻板清洗）刻蚀去胶金属剥离等；可处理晶圆尺寸2'-12'；可处理晶圆材料：硅砷化镓磷化铟氮化镓碳化硅铌酸锂钽酸锂等；主要应用领域：集成电路声表面波器件微波毫米波器件 MEMS 先进封装等设备名称CSE-单片清洗机类型单片式适用领域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清洗方式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量：1L/min/片4、蚀刻均一性良好（SiO₂氧化膜被稀释HF处理）：≤2%5、干燥时间：≤20S6、药液回收率：＞95%单片式优点1、单片处理时间短（相较于槽式清洗机）2、节约成本（药液循环利用，消耗量远低于槽式）3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构，占地面积小更多的单片（枚叶）式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网，关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096，18913575037

氢氟酸HF自动供液系统-CSE

发布时间： 2017 - 12 - 06

氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统适用对象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送，经管道至设备；具有自动化程度高，配比精确，操作简便等特点；具有良好的耐腐蚀性能。控制模式：手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸（HF）供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统（Chemical Dispense System System）简称：CDS2. CDS 将设置于化学房内：酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房；3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材，内部管路及组件采PFA 451 HP 材质；4. 系统为采以化学原液双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点；5. 过滤器：配有10” PFA材质过滤器外壳；6. 供液泵：每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸碱类采用一般型静电容近接开关；8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能：每种化学液体配两个桶（自动切换）、配两台泵（一用一备）、带过滤器；系统控制单元：配带OMRON 8”彩色触摸屏，OMRON品牌PLC系统；2. 操作模式： CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制，操作介面以流程方式执行，兼具自动化与亲和力。在...

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Wet Benches

Wet Benches湿法工作台的用途：Purpose of Wet Benches: Wet Benches are used in a wafer FAB to clean debris and/or to etch away unwanted or no longer needed films from wafers. They are also used to prepare a wafer’s surface for the next step in the overall process. Less sophisticated wet benches are often used in a FAB to clean quartz and other semiconductor equipment parts. 湿法工作台类型：Wet Bench Types:Wet Benches are generally manufactured for compatibility with Acid or Base chemistries. Base chemistry wet benches are often called Solvent Benches. You can recognize a Solvent...

发布时间: 2019 - 08 - 13

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Semi automatic chemical wet bench

Designed and manufactured to support various wet processes and wafer carrier sizes. The stations can be manual, automatic or semi automatic, and are designed for easy maintenance and with small footprints. CSE design the stations according to process requirements and customer needs. CSE’s Semi-Automatic Chemical Wet Bench allows processing Wafers in one process run.The Wafers are installed in a dedicated cassette mounted on an adapter; using a programmable automatic process the adapter is consecutively carried through process baths.A robot transfers the adapter between the different...

发布时间: 2019 - 08 - 13

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Manual wet bench

Designed and manufactured to support various wet processes and wafer carrier sizes. The stations can be manual, automatic or semi automatic, and are designed for easy maintenance and with small footprints. CSE design the stations according to process requirements and customer needs. CSE’s Manual Chemical Wet Bench allows treating parts placed in a designated holder by manually passing the holder along chemical process baths and local sink. The Manual Chemical Wet Bench includes chemical process baths, working surface and local sink. The system is controlled and monitored by a ...

发布时间: 2019 - 08 - 13

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Full automatic chemical wet bench

The Automatic Wet Bench is designed for etching and cleaning Wafer units.A robot moves a cassette containing Wafers between the different chemical baths according to a predetermined recipe.Each bath in the Automatic Wet Bench is operated and controlled via a HMI touch screen that displays its status and enables selecting and setting all the necessary parameters for the operation.Dedicated access doors and panels are provided to facilitate service tasks all around the Wet Bench.The Automatic Wet Bench is a complete self-contained system with extensive reliability and advanced fault analysis and...

发布时间: 2019 - 08 - 13

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Chemical Delivery system

CSE's chemical delivery systems, as all systems, are developed according to our customer's process requirements. The systems are designed to dispense chemicals to the point of consumption from any type of source container and with full redundancy, if required. CSE can offer a turn-key solution if required andhave their own experienced team or approved local contractors to ensure project installation and acceptance deadlines are achieved.CSE have a range of products to suit most applications and can also provide custom built systems for non-stan...

发布时间: 2019 - 08 - 13

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SIC晶片制备工艺

一、主要生产设备二、工艺流程简述晶体、合成莫桑宝石生产工艺流程1、粉料研磨：本项目外购的硅粉有的时候粒径较大，为了后续合成，需利用粉料研磨机将其进行研磨。整个研磨过程全部在密闭仓内进行。由于需要研磨的硅粉一般粒径均较大，因此研磨投料过程中无粉尘产生。研磨好后的细硅粉由密闭输送管道送至塑料包装袋内储存备用，在物料输送至塑料包装袋的过程中可能会有少量硅粉散逸。全部为无组织排放。2、粉料合成：将研磨好的粉料装入 SIC 粉料合成炉配套的石墨堆塌内（每次可投加物料约1公斤）,盖好盖，然后将炉内抽真空至0.5*10-3pa,同时为了进一步防止粉料合成过程中碳粉被氧化，还需通入氧气进行保护。SIC粉料合成炉加热温度约为2000℃，采用电加热，加热时间约20个小时。经粉料合成后的碳粉和硅粉就基本已经成为碳化硅小晶体了，只是晶体粒径较小，完全不能满足客户的需求，还需将小的晶体进一步生长使其成为一块大的碳化硅晶体。该工序污染物主要为粉状物料在使用过程中散逸的少量粉尘。3、晶体生长：品体生长的方法是在高温和真空条件下，在石墨堆塌中心放入一颗很小的籽晶作为种子，然后在籽晶周围放入粉料合成炉合成的小的碳化硅品体。在这种环境下，小的碳化硅晶体会不断生长变大，从而形成成块的碳化硅品体，尺寸约为2英寸、三英寸，厚20mm左右的圆柱体。品体生长所需温度约为2200度，加热采用电加热，真空度...

发布时间: 2021 - 04 - 13

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PVD真空镀膜

一、主要生产设备二、工艺流程简述： PVD真空镀膜生产工艺流程图1.五金配件：项目中的五金配件均为客户提供的已检验合格的产品，在厂区内进行表面镀膜后加工，不产生生产废料。2.人工擦拭：项目的人工擦拭工序为用于擦拭五金配件中的污溃，污渍可直接用手套擦拭，此环节产生的污染物主要为废手套。3.烘烤：项目的烘烤工序所使用的烤箱，工作温度约为200℃，以电为能源，管状的五金配件中空心的地方由于工人操作失误，沾染废机油后，进入烤箱烘烤将废机油烤干，干净的五金配件无需进行烘烤，为防止烘箱的温度太高，需对其进行冷却，项目采用水冷，冷却水循环使用，不外排。5.真空镀膜：项目的真空镀膜工序是指在真空环境中利用粒子轰击靶材（钛块）产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。在真空设备中（立式真空炉）通入惰性气体（氯气、氮气）,在两极加上一定电压使其电离产生等离子体，靶材表面加上一定的负偏压，使得等离子体中的正离子飞速向靶材表面运动，撞击靶材表面使其产生溅射效应产生靶原子，靶材原子在真空室中自由运动，于工件表面沉积，从而形成薄膜。镀膜过程在密闭真空设备内进行，镀膜过程中无气体排放，在下次镀膜之前对溅射腔内沉积靶材进行清理，清理的靶材回收利用。镀膜结束后，用对设备进行降温，此时电源关闭，靶材不再被蒸发产生金属原子。在下次镀膜之前对溅射腔内沉积靶材进行清...

发布时间: 2021 - 04 - 13

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NiCr薄膜的沉积及其湿法刻蚀

一、概述电阻器作为三大被动元器件之一，是电子电路中不可缺少的元件，而传统直插的薄膜电阻器目前已经逐渐的退出了舞台，取而代之的是性能更加稳定的片式薄膜电阻器。ＮiＣr 合金薄膜具有高电阻率、低温飘、高精度、高稳定等优点，因此广泛应用于制作精密薄膜电阻器。目前，行业内ＮiＣr 合金薄膜的沉积主要方法有真空蒸发、气相沉积、磁控溅射与离子溅射等。片式薄膜电阻的制造，是在平面磁控溅射下完成在三氧化二铝陶瓷基片上的ＮiＣr 膜沉积，然后通过光刻工艺来实现电阻图形，因此研究ＮiＣr 薄膜的沉积及湿法刻蚀对于片式薄膜电阻器的加工来说具有重要意义，本文通过使用扫描电子显微镜观察不同溅射功率、溅射时间下的ＮiＣr 膜层形貌，分析了溅射功率、溅射时间对溅射的影响，同时使用湿法刻蚀做出所需要的电阻图形。二、NiCr 薄膜的沉积片式薄膜电阻器的ＮiＣr 薄膜的沉积，采用平面磁控溅射技术，通过机械泵抽低真空，再通过低温泵冷凝表面气体继续抽高真空，最终使得真空室内达到 10-4 帕，充入反映气体，一般使用高纯氩气。在阴极（溅射靶材）和阳极（三氧化二铝陶瓷基片）之间施加一定电压，电子在电场 E 的作用下，会向在阳极的基片运动，在这个运动过程中，电子与氩气发生碰撞，形成辉光放电，从而使其产生 Ar＋和新的电子。Ar＋在电场的作用下加速向在阴极的ＮiＣr 靶材运动，并以高能量撞击ＮiＣr 靶材表面，将一...

发布时间: 2021 - 04 - 13

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MEMS生产介绍

一、主要生产设备二、工艺流程简述 2工艺流程简述(1)清洗工序简述在硅晶圆片加工过程中，几乎每一道工艺进行前或完成后都必须要对硅晶圆片清洗以有效去除前一工序造成的污染，做到表面清洁，为下一工序创造条件。在进行前需预清洗的工艺有：氧化、光刻、扩散、化学气相沉积、溅射等。在完成后需后清洗的工艺有：刻蚀、去胶、划片。芯片清洗是完全清除芯片表面的尘埃颗粒、残留的有机物和吸附在表面的金属离子。本项目采用物理清洗和化学清洗内种方式，同时也结合使用。物理清洗主要是利用去离子水对残留物的物理冲刷作用来清除表面残留物，主要方式有刷洗、淋洗、高压水喷射流动水浸泡、高温蒸汽、低温喷激以及使用超声波等。化学清洗是利用清洗剂与残留物的化学反应，形成易挥发或易溶解的产物来清除污染物，本项目采用的化学清洗介质有无机酸碱清洗液、有机清洗液。对不同的去除对象，典型方式如下：去除有机污染物：H2SO4+H2O2(4:1)、丙酮、异丙醇；去除微尘和一些金属杂质：NH4OH+H2O2+H2O(1:1:5):去除氧化膜：HF+H2O(1:50)去除残留清洗液：纯水、高纯水。芯片最主要的清洗方式是将芯片浸在液体槽内或使用液体喷雾清洗，清洗工艺流程示意见图7。清洗过程中，当高浓度清洗液难以满足使用要求时，作为废液收集处理；低浓度的清洗废水排到废水处理系统；较干净的清洗排水检测回用；部分清洗液挥...

发布时间: 2021 - 04 - 13

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MEMS传感器封装线生产

一、主要生产设备二、工艺流程简述工艺流程简述：(1)清洗外购的硅片（经过拉单品、切割、研磨等）,需先经清洗，除去沾污的硅片表面的金属与油污。清洗的方法是：先用H2S04去除金属杂质，然后用有机溶剂(异丙醇、丙酮）去除油污，再用纯水反复冲洗，以得到洁净的硅片表面。清洗后的硅片用氮气吹干后，送下道工序氧化。清洗工序贯穿于整个生产过程。清洗工艺与LED基片清洗工艺相同。(2)氧化氧化工艺是通过氧气与硅发生反应，在硅片表面生成一层二氧化硅膜。原料硅片经清洗吹干后，放入加热反应炉，在高温条件下，与氧气作用，在上面生长一层Si02氧化层，起到器件保护和隔离、表面纯化、栅氧电介质、掺杂阻挡层等作用。(3)光刻光刻是集成电路芯片制造的核心工艺，光刻的本质是要把临时电路结构复制到以后要进行蚀刻或离子注入的硅片上。光刻工艺按其先后顺序主要分为气相成底膜、匀胶、软烘、曝光、曝光后烘焙、显影、坚膜烘焙、显影检查这八个步骤，以上步骤都将在光刻区内完成。清洗后的硅片先在表面均匀涂上一层光刻胶，光刻胶主要由对光与能量非常敏感的高分子聚合物和有机溶剂组成，前者是光刻胶的主体，主要成分为酚醛树脂、丙二醇愁酯等，后者是光刻胶的介质，主要成分为丙酮、丁酮等，由于光刻胶涂层很薄，为了使涂覆的光刻胶层绝对均匀，涂覆的方法是让硅片旋转，使光刻胶在其表面形成薄层。因而大量的光刻胶被离心力带出...

发布时间: 2021 - 04 - 13

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