欢迎访问南通华林科纳半导体设备技术有限公司官网
手机网站
始于90年代末

湿法制程整体解决方案提供商

--- 全国服务热线 --- 0513-87733829
 
 
 
新闻资讯 新闻中心
0513-87733829
联系电话
联系我们
扫一扫
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推荐产品 / 产品中心
发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
新闻中心 新闻资讯

光学镜片中片清洗

时间: 2021-02-26
点击次数: 4

背景技术

随者数码相机、摄像头等高科技产品的普及,光学镜片在各个领域都得到了迅速

的发展。光学镜片是精密的部件,故在光学镜片的加工制造过程中,有一个很重要的环节就是对镜片进行清洗的工艺,其直接影响到制成镜片的质量。常规的工艺主要包括清洗液清洗、清水清洗等步骤,其清洗效果还有待提高。因此提供一种工艺简单、清洗效果好的光学镜片中片的清洗方法是本发明所要解决的问题。

发明内容

本发明克服了现有技术的不足,提供一种工艺简单、清洗效果好的光学镜片中片的清洗方法。

为达到上述目的,本发明采用的技术方案为:提供了一种光学镜片中片的清洗方法,其特征在于:包括以下步骤:

1)将所要清洗的光学镜片中片浸泡入清水中,超声波振荡3-5min

2)将经过步骤(1)处理的光学镜片中片浸泡入含有溶剂的溶液中,超声波振荡0.5-

1min

3)将经过步骤(2)处理的光学镜片中片浸泡入清洗液中,超声波振荡5-10min

4)将经过步骤(3)处理的光学镜片中片浸泡入天然植物胶溶液中,超声波振荡2-

5min;所述天然植物胶为瓜尔胶、香豆胶、羧甲基罗望子胶、羧甲基决明子的一种;所述天然植物胶溶液的浓度为0.5-2wt%

5)将经过步骤(4)处理的光学镜片中片用清水洗净;

6)将洗净的光学镜片中片放入烘干设备中烘干;

7)在密封干燥器中冷却至常温即可。

作为一种优选方案,所述步骤(1)中的清水的温度控制在35-45℃。

作为一种优选方案,所述步骤(2)中的含有溶剂的溶液为乙醇溶液。

作为一种更优选方案,所述步骤(2)中的乙醇溶液的浓度控制在20-40wt%

作为一种优选方案,所述步骤(3)中的清洗液的温度控制在35-50℃,pH控制在6.8-7.4

作为一种优选方案,所述步骤(4)中的天然植物胶溶液的温度控制在30-40℃。

作为一种优选方案,所述步骤(6)中光学镜片中片放入烘干设备中烘干2-6h,烘干温度控制在85-100℃。

本发明的有益技术效果主要在于:提供了一种工艺简单、清洗效果好的光学镜片中片的清洗方法。本发明采用瓜尔胶等天然植物胶溶液对光学镜片进行处理,天然植物胶溶液均具有一定粘性,可以吸引光学镜片中片表面的污染物;同时瓜尔胶的水溶液具有网络状分子结构大量抱水的同时也可以将污染物包裹,从而能提高光学镜片中片表面的污染物的去除程度。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

实施例1

一种光学镜片中片的清洗方法,包括以下步骤:

1)将所要清洗的光学镜片中片浸泡入35℃的清水中,超声波振荡5min;该步骤为预处理步骤,主要是去除光学镜片中片表面一些比较大的碎屑,灰尘颗粒,提高接下来步骤的处理效果; 升高温度,有利于提高分子活度,从而能提高清洗的效果和效率;

2)将经过步骤(1)处理的光学镜片中片浸泡入40wt%乙醇溶液中,超声波振荡0.5min

该步骤用于去除光学镜片中片上可能存在的油性物质;

3)将经过步骤(2)处理的光学镜片中片浸泡入35℃,pH7.4的清洗液中,超声波振荡10min;清洗液为非离子表面活性剂,可大量去除光学镜片中片表面的污染物;清洗液需控制在中性,以免对光学玻璃产生损伤,同时对清洗液加温,以提高清洗的效率;

4)将经过步骤(3)处理的光学镜片中片浸泡入温度为30℃、浓度为0.5wt%的瓜尔胶溶液中,超声波振荡5min;瓜尔胶的水溶液具有一定粘性,可以吸引光学镜片中片表面的污染物;同时瓜尔胶的水溶液具有网络状分子结构,大量抱水的同时也可以将污染物包裹,从而能提高光学镜片中片表面的污染物的去除程度;适当的加热天然植物胶溶液有利于提高清洗效率,但是温度过高,可能会破坏天然植物胶的结构,从而反而影响了清洗效果;

5)将经过步骤(4)处理的光学镜片中片用清水洗净;

6)将洗净的光学镜片中片放入烘干设备中烘干2h,烘干温度控制在100℃,不采用高温烘干,减少对光学镜片的损害;

7)在密封干燥器中冷却至常温;由于在冷却过程中,光学镜片有可能会吸收空气中的水分而再次潮湿,故需要将光学镜片中片放在密封的干燥器中冷却。

实施例2

一种光学镜片中片的清洗方法,包括以下步骤:

1)将所要清洗的光学镜片中片浸泡入45℃的清水中,超声波振荡3min;该步骤为预处

理步骤,主要是去除光学镜片中片表面一些比较大的碎屑,灰尘颗粒,提高接下来步骤的处

理效果; 升高温度,有利于提高分子活度,从而能提高清洗的效果和效率;

2)将经过步骤(1)处理的光学镜片中片浸泡入20wt%乙醇溶液中,超声波振荡1min;该步骤用于去除光学镜片中片上可能存在的油性物质;

3)将经过步骤(2)处理的光学镜片中片浸泡入50℃,pH7.0的清洗液中,超声波振荡5min;清洗液为非离子表面活性剂,可大量去除光学镜片中片表面的污染物;清洗液需控制在中性,以免对光学玻璃产生损伤,同时对清洗液加温,以提高清洗的效率;

4)将经过步骤(3)处理的光学镜片中片浸泡入温度为35℃、浓度为0.8t%的香豆胶溶液中,超声波振荡3min;香豆胶的水溶液具有一定粘性,可以吸引光学镜片中片表面的污染物;同时香豆胶的水溶液具有网络状分子结构,大量抱水的同时也可以将污染物包裹,从而能提高光学镜片中片表面的污染物的去除程度;适当的加热天然植物胶溶液有利于提高清洗效率,但是温度过高,可能会破坏天然植物胶的结构,从而反而影响了清洗效果;

5)将经过步骤(4)处理的光学镜片中片用清水洗净;

6)将洗净的光学镜片中片放入烘干设备中烘干6h,烘干温度控制在85℃,不采用高温烘干,减少对光学镜片的损害;

7)在密封干燥器中冷却至常温;由于在冷却过程中,光学镜片有可能会吸收空气中的水分而再次潮湿,故需要将光学镜片中片放在密封的干燥器中冷却。

实施例3

一种光学镜片中片的清洗方法,包括以下步骤:

1)将所要清洗的光学镜片中片浸泡入38℃的清水中,超声波振荡4min;该步骤为预处理步骤,主要是去除光学镜片中片表面一些比较大的碎屑,灰尘颗粒,提高接下来步骤的处理效果; 升高温度,有利于提高分子活度,从而能提高清洗的效果和效率;

2)将经过步骤(1)处理的光学镜片中片浸泡入30t%乙醇溶液中,超声波振荡1min;该步骤用于去除光学镜片中片上可能存在的油性物质;

3)将经过步骤(2)处理的光学镜片中片浸泡入40℃,pH6.8的清洗液中,超声波振荡8min;清洗液为非离子表面活性剂,可大量去除光学镜片中片表面的污染物;清洗液需控制在中性,以免对光学玻璃产生损伤,同时对清洗液加温,以提高清洗的效率;

4)将经过步骤(3)处理的光学镜片中片浸泡入温度为40℃、浓度为2wt%的羧甲基罗望子胶中,超声波振荡2min;羧甲基罗望子胶的水溶液具有一定粘性,可以吸引光学镜片中片表面的污染物;同时羧甲基罗望子胶的水溶液具有网络状分子结构,大量抱水的同时也可以将污染物包裹,从而能提高光学镜片中片表面的污染物的去除程度;适当的加热天然植物胶溶液有利于提高清洗效率,但是温度过高,可能会破坏天然植物胶的结构,从而反而影响了清洗效果;

5)将经过步骤(4)处理的光学镜片中片用清水洗净;

6)将洗净的光学镜片中片放入烘干设备中烘干3.5h,烘干温度控制在92℃,不采用高温烘干,减少对光学镜片的损害;

7)在密封干燥器中冷却至常温;由于在冷却过程中,光学镜片有可能会吸收空气中的水分而再次潮湿,故需要将光学镜片中片放在密封的干燥器中冷却。

实施例4

一种光学镜片中片的清洗方法,包括以下步骤:

1)将所要清洗的光学镜片中片浸泡42℃的清水中,超声波振荡3min;该步骤为预处理步骤,主要是去除光学镜片中片表面一些比较大的碎屑,灰尘颗粒,提高接下来步骤的处理效果; 升高温度,有利于提高分子活度,从而能提高清洗的效果和效率;

2)将经过步骤(1)处理的光学镜片中片浸泡入30wt%乙醇溶液中,超声波振荡0.5min

该步骤用于去除光学镜片中片上可能存在的油性物质;

3)将经过步骤(2)处理的光学镜片中片浸泡入50℃,pH7.2的清洗液中,超声波振荡8min;清洗液为非离子表面活性剂,可大量去除光学镜片中片表面的污染物;清洗液需控制在中性,以免对光学玻璃产生损伤,同时对清洗液加温,以提高清洗的效率;

4)将经过步骤(3)处理的光学镜片中片浸泡入温度为35℃、浓度为2wt%的羧甲基决明子溶液中,超声波振荡4min;羧甲基决明子的水溶液具有一定粘性,可以吸引光学镜片中片表面的污染物;同时瓜尔胶及其他天然植物胶的水溶液具有网络状分子结构,大量抱水的同时也可以将污染物包裹,从而能提高光学镜片中片表面的污染物的去除程度;适当的加热天然植物胶溶液有利于提高清洗效率,但是温度过高,可能会破坏天然植物胶的结构,从而反而影响了清洗效果;

5)将经过步骤(4)处理的光学镜片中片用清水洗净;

6)将洗净的光学镜片中片放入烘干设备中烘干3h,烘干温度控制在95℃,不采用高温烘干,减少对光学镜片的损害;

7)在密封干燥器中冷却至常温;由于在冷却过程中,光学镜片有可能会吸收空气中的水分而再次潮湿,故需要将光学镜片中片放在密封的干燥器中冷却。


Copyright ©2005 - 2013 南通华林科纳半导体设备有限公司
犀牛云提供企业云服务
南通华林科纳半导体设备有限公司
地址:中国江苏南通如皋城南街道新桃路90号
电话: 400-876- 8096
传真:0513-87733829
邮编:330520
Email:xzl1019@aliyun.com       www.hlkncse.com


X
3

SKYPE 设置

4

阿里旺旺设置

2

MSN设置

5

电话号码管理

  • 0513-87733829
6

二维码管理

8

邮箱管理

展开