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始于90年代末

湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
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目前在半导体工业生产中,普遍采用RCA清洗技术清洗抛光硅片,今天我们介绍一种溶浸式湿法化学清洗,串联的SC1和兆声去除颗粒,含O3的去离子水工艺形成均匀硅氧化膜,最后用IPA干燥。IPA干燥是利用IPA的低表面张力和易挥发的特性,取代硅片表面的具有较高表面张力的水分,然后用热N2吹干,达到彻底干燥硅片水膜的目的。此种干燥工艺比传统的离心式甩干法、真空干燥法、单纯热N2干燥法在降低金属和颗粒站务的引入及干燥速度方面有较大的有事。但此工艺在有片盒干燥的过程中易产生边缘目检缺陷的缺点。针对这点,我们在生产中总结了一下经验,并通过控制将此缺陷降到可控范围内。1、硅片进入IPA干燥腔后,通过片盒支架的特殊设计,使抛光面自动与片盒脱离接触。这样IPA蒸气可充分分布到抛光面表面,有利于均匀的干燥。2、PFA片盒作为硅片的载体,由于材料微观多孔的特性,经过反复烘干,孔被放大,加上长时间的化学溶浸,少量化学物质吸附在PFA的孔内,烘干后易在硅片上行程边缘缺陷,因此定期处理PFA片盒是很必要的。作为湿制程设备专业制造商,华林科纳(江苏)半导体设备有限公司对IPA干燥系统有丰富的生产经验和产线使用验证,为硅片的清洗、干燥提供有效的保障。 更多清洗相关设备可以关注华林科纳(江苏)半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,18913575037
发布时间: 2019 - 06 - 26
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在半导体行业中,用于硅晶圆片和碳化硅晶圆片批量生产的外延炉的内腔因为耐高温、透光、无物质沾污的需求,基本使用高纯度石英材料制作,除了石英钟罩作为密闭腔体内用途外,为了保证晶体表面生长的气流均匀性和温度一致性,另外还会在腔体内放置各种形状的石英件。石英件的表面在一定次数的外延过程后,表面会沉积多种残留物质。这些残留物质在设备维护保养过程中定期清洗,否则会严重影响硅晶圆片和碳化硅晶圆片的外延层生长质量。华林科纳是国内最早致力于湿法设备的研制单位,多年来与众多的半导体企业密切合作,研制开发适合的半导体清洗机设备。关于钟罩清洗机,其中又有卧式或立式的分别。下图是一个卧式的钟罩清洗机。它的优点是:1.成熟专业的电气设计,友好的人机交互界面,提供更好地操作体验;2.极高的生产效率;3.结合最先进工艺技术,主体材质的整洁可靠,槽体的个性化定制,辅助功能齐全;4.最佳的占地面积,节省空间;5.优越的可靠性;6.独特的模块化结构;7.极其便于后期维修。它的特征是:1.可编制程序使得清洗管旋转,清洗更均匀,更全面;2.配备的PVDF工艺槽,可耐一定浓度的酸碱;3.装有清洗溶剂的储备槽(根据使用化学品的数量)放置在工艺槽的后下方—直接注入且内部进行不断循环,使得清洗更彻底;4.特别的喷淋嘴更益于石英管清洗;5.集成水枪和N2枪,以获得更好的清洗效果,6.单独排液系统,将废弃的药液统一排放到固定的容器内,...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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在光学冷加工中,超声波清洗是如何实现洗净目的的呢?一般来说,清洗工艺主要以干燥的方式命名,如 IPA 工艺,是指利用 IPA(异丙醇)蒸汽进行脱水干燥的清洗工艺,纯水工艺是指利用热纯水慢提拉或冷纯水甩干的方式进行干燥的清洗工艺。当然,还有其他的命名方式。经过不断的变化、发展,光学冷加工中的清洗工艺主要以 IPA 工艺和纯水工艺为主。  IPA干燥  IPA 工艺包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。    因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有先进行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。显然,后者在流程上更流畅、紧凑,对设备要求也简单。经过洗涤后的镜片表面不会有结合牢固的污垢,仅可能有一些清洗剂和松散污垢的混合物。    我们知道,无机光学玻璃是一种过冷的熔融态物质,没有固定的分子结构,它的结构式可描述为二氧化硅和某些金属氧化物形成的网状结构。其骨架结构为键能很大的硅氧共价键,外围是键能小、易断裂的氧与金属离子形成的离子键。在洗涤时,由于超声场和化学洗剂的共同作用,某些硅氧键含量少或者外围键能特别小的的材料易于在清洗过程中发生变化而导致洗涤效果不良。所以,选择性能温和的洗剂、合适的洗剂浓度、温度、超声功率、洗涤时间对保证镜片的清洗质量十分重要。    利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂...
发布时间: 2019 - 06 - 11
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随着我国经济的不断发展,化学包装桶的用量 和清洗回用量一直处于增长状态,华林科纳(江苏)从管理角度我国 包装桶的清洗和再生基本划入危废处理范畴早, 由于包装桶收集、清洗、利用过程涉及化学物质众 多,这些化学物质具有腐蚀性、毒性、易燃性、反 应性,厂区安全生产和环境污条防治晃为重要叽 目前,除个别包装桶清洗企业外,大部分包装 桶清洗再生企业均存在安全隐患和环境污染问题, 大量不规范的企业及个人收集、清洗、出售包装 桶,造成含各种化学品的废水被随意排'放,一些容质量控制及安全生产等众多技术要求和规 范,从包装桶识别、收集、分类存放、余料收集、 分别清洗、废物处理处置,再生加工冬过程开展蔔 装桶清洁星产和污染防治,实现包装桶清洗行业的 源头减排、再利用、资源化和无害化化学包装桶清洗行业生产现状和问题.我国化学包装桶收集、清洗和再生利用行业包 含4类企业,一类是原料和产品生产企业,产品相 对单一,使用包装桶量大,回收自用同类包装桶, 这些企业一般有较完善处理处置设施;其次是具有 危废收集处理资质的大、中型综合包装桶清洗、再 生企业,具有较完善的处理处置设施,但由于包装 桶涉及化学物质复杂,或多或少的存在环境问题; 第三是非法收集和清洗企业,有一定规模,具有流 动性,隐蔽性强的特点,但部分也相对固定,没有 水处理设施或仅有简陋的水池,一般要实施有价余 料收集;此外,非法个人收集和非法...
发布时间: 2020 - 05 - 08
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近年来衍射光栅技术、全息术、傅里叶光学和计算全息等技术推动了衍射光学理论的发展,特别是在衍射光学器件方面的研究已经达到了实用化的水平。衍射光学器件的特点DOE的特点则是具有高衍射效率、独特的色散性能、更多的设计自由度、宽广的材料可选性,并具有特殊的光学性能,因此DOE成为实现离轴照明的理想元件。一般用于光刻系统离轴照明的DOE,其子单元个数需衍射的概念光沿着直线传播,当光穿过一个小孔或经过一个轮廓分明的边缘时,沿小孔边缘产生了干涉图形,结果得到了一个模糊的图像,而不是希望出现在光和阴影之间的清晰边缘,光看上去沿狭缝边缘弯曲了。这种现象被称做衍射。衍射光学器件的主要应用1.光束整形(1)平顶光束整形“ Top-Hat ”或“ Flat-Top ”光束整形是衍射光学器件(DOE),用于将近高斯入射激光束转换为圆形,矩形,正方形,线形或均匀强度(平坦)点或在特定工作平面中具有锋利边缘的其他形状。顶帽(平顶)光束整形器的典型应用包括:激光烧蚀,激光焊接,激光穿孔,激光划线,医疗和美学激光应用。(2)光束扩散器/光束匀质器英文名为BeamHomogenizer / Optical Diffuser,使用匀化镜能把单模或多模的准直输入光束,转换为能量分布高度均匀的光斑。光斑的波长和形状轮廓都可自定义,形状一般为圆形、正方形、直线、长方形、六边形、椭圆形等任意形状。光束均化镜在许多需要明确定义光...
发布时间: 2020 - 04 - 29
浏览次数:85
新冠病毒的来临,让全社会严阵以待。全球不断攀升的确诊人数对半导体市场和供应链都造成了一定压力。然而压力面前,具有前瞻性的企业却不惧疫情影响,逆势而上,增资提产,为今后长期的发展提前做好准备。这些消息释放出来也极大地提振了全行业的士气。形势严峻新冠病毒向行业施压2019年,全球半导体行业进入下行周期,智能手机、PC、笔记本电脑等需求放缓导致了半导体市场的下滑。专家原本预测2020年半导体或将重回上升轨道,5G的部署与AI的需求将成为推动半导体行业复苏的强劲动力。然而,新型冠状病毒肺炎疫情的突然发生,为半导体行业回暖带来不确定性。集邦咨询认为,疫情扩大使得未来终端需求能见度降低,尤以专注于智能手机与消费性电子领域的IC设计业,2020年第二季度营收可能受到较大影响。集邦咨询修改了2020年第一季度智能手机生产总数的预估,下调至2.75亿只,较去年同期衰退约12%,为近5年来新低。疫情带来压力的同时,也推动人们对网络通信给予更多的依赖与重视。市场重新评估数据中心、人工智能的价值。一大批人工智能、5G芯片企业产品加速落地。研究机构预计,2020年我国人工智能市场将再续辉煌,市场规模将达到42.5亿美元,预计年增长率约为51.5%。而在5G通信方面,华为中国运营商业务部副总裁杨涛预测,到2023年,与5G相关的半导体收入将达到208亿美元以上。虽然疫情的爆发带给半导体产业些许冲击,然5G与A...
发布时间: 2020 - 04 - 21
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根据研究数据显示,在大规模量产方面,首屈一指的当然是日本三洋,现有产能1GW,量产效率达23%。除此之外,具有较成熟HIT技术的还有Keneka、Sunpreme、Solarcity、福建均石、晋能、新奥、汉能等企业。  图表:国内外HIT太阳能电池产业化情况(单位:%,MW) 目前HIT产品的量产难点主要包括以下几方面:   (1)高质量硅片:相较常规N型产品,HIT电池对硅片质量有更高的要求,需要谨慎选择硅片供应商。   (2)制绒后硅片表面洁净度的控制:HIT电池对硅片表面洁净度要求非常高,需要平衡硅片清洗洁净程度和相关化学品以及水的消耗。   (3)各工序Q-time控制:HIT电池在完成非晶硅镀膜之前,对硅片暴露在空气中的时间以及环境要求比较严苛,需要注意各工序Q-time的控制。   (4)生产连续性对于TCO镀膜设备的影响:TCO镀膜必须保证连续投料,否则良率和设备状况都会受到影响,尤其在产线刚投产时,保持生产连续性是一大挑战。   (5)高粘度浆料的连续印刷稳定性:在HIT电池制备过程中,浆料粘度大导致的虚印断栅现象较多,需要数倍于常规产线的关注。   (6)焊带拉力的稳定性:拉力稳定的窗口窄,双玻双面发电的组件结构进...
发布时间: 2019 - 05 - 05
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一、无源晶振与有源晶振的对比1. 无源晶振是有2个引脚的无极性元件,需要借助于时钟电路才能产生振荡信号,自身无法振荡起来,无源晶振需要用DSP片内的振荡器,在datasheet上有建议的连接方法。无源晶振没有电压的问题,信号电平是可变的,也就是说是根据起振电路来决定的,同样的晶振可以适用于多种电压,可用于多种不同时钟信号电压要求的DSP,而且价格通常也较低,因此对于一般的应用如果条件许可建议用晶体,这尤其适合于产品线丰富批量大的生产者。2. 有源晶振有4只引脚,是一个完整的振荡器,里面除了石英晶体外,还有晶体管和阻容元件 。有源晶振不需要DSP的内部振荡器,信号质量好,比较稳定,而且连接方式相对简单(主要是做好电源滤波,通常使用一个电容和电感构成的PI型滤波网络,输出端用一个小阻值的电阻过滤信号即可),不需要复杂的配置电路。有源晶振相比于无源晶体通常体积较大,但现在许多有源晶振是表贴的,体积和晶体相当,有的甚至比许多晶体还要小。二、无源晶振与有源晶振的优缺点无源晶振相对于晶振而言其缺陷是信号质量较差,通常需要精确匹配外围电路(用于信号匹配的电容、电感、电阻等),更换不同频率的晶体时周边配置电路需要做相应的调整。使用时建议采用精度较高的石英晶体,尽可能不要采用精度低的陶瓷晶体。相对于无源晶体,有源晶振的缺陷是其信号电平是固定的,需要选择好合适输出电平,灵活性较差,...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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简单介绍一下晶振。“石英晶振”就是用石英材料做成的石英晶振谐振器产生频率的作用,具有稳定,抗干扰性能良好,广泛应用于各种电子产品中。石英晶振是晶振中的一种,晶振的正确分类方法是石英晶振和陶瓷晶振,显而易见石英和陶瓷就是对晶振材质的区分。石英晶振 是一种用于稳定频率和选择频率的电子元件,已被广泛地使用在无线电话、载波通讯、广播电视、卫星通讯、数字仪表、钟表等各种电子设备中。晶体谐振器和晶体振荡器的区别石英晶体谐振器是一种无源晶体,石英晶体振荡器角度来说就是有源晶振。而无源晶体和有源晶振的区别就在于,前者无电压范围,后者有电压;再一个区别就在于后者的价格往往要高于前者价格的几倍。两个名次术语如同双胞胎,仅一字之差。而正是这一字之差使得两者的属性参数在电路板中都有着决然不同的角色。如何正确区分石英晶体谐振器和石英晶体振荡器简而言之即是晶体谐振器和晶体振荡器的差别在哪里,我们先不看它的材质。共同点:1、晶体谐振器和晶体振荡器都有贴片封装和插件封装。2、晶体谐振器和晶体振荡器使用范围都一致。通信,无线,GPS随处可见他们的身影。不同点:1、晶体振荡器价格往往要比晶体谐振器价格高。2、晶体振荡器参数有电压单位,晶体谐振器参数不会有电压单位。3、晶体振荡器脚位均是4脚以上包括4脚,晶体谐振器通常是2脚或者4脚,不会存在4脚以上的晶体谐振器。4、晶体振荡器的高度往往要高于晶体谐振器。5、...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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据中国台湾媒体报道,韩国产业通商资源部昨(20)日宣布,韩国化学大厂SKC目前正对用于半导体制程的光罩基板(Mask Blank)的试作样品展开测试,预计2020年下半年正式展开量产。据报导,韩国的半导体制造中,其光罩基板约90%依赖日本供应,同时光罩基板也是韩国大量进口自日本的20种高科技材料之一,韩国政府希望在20种主要材料、零件、设备,能脱离对日货的倚赖,而光罩基板就名列其中。资料显示,SKC与SK海力士同属于SK集团旗下,自1976年成立以来,在韩国最早开发及生产了不计其数的薄膜、化学、材料领域的产品,其核心部门为薄膜和化学部门。自2018年开始,SKC已投入430亿韩元(约3500万美元)用于建设光罩基板厂,并于2019年建成,SKC不仅计划在2020年内开始光罩基板的量产,同时也计划在2021年量产更高端的产品。2019年7月,日本经济产业省宣布,将对用于智能手机及电视机的半导体等制造过程中需要的三种材料加强对韩国的出口管制,这三种材料分别为用于半导体清洗的氟化氢、用于智能手机显示屏等的氟化聚酰亚胺,以及涂覆在半导体基板上的感光剂“光刻胶”。对此,韩国也出台了相关措施以应对日本针对韩国的出口管制措施。如提出了100大核心战略产品国产化计划,将投入7.8万亿韩元的研发费用,在1至5年内实现核心战略产品国产化,而韩国企业也在加速在该领域的国产化。2019年,外媒曾报道,SK...
发布时间: 2020 - 04 - 21
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