欢迎访问南通华林科纳半导体设备技术有限公司官网
手机网站

湿制程设备制造商


--- 全国服务热线 --- 400-8768-096



新闻信息中心 新闻中心
400-8768-096
联系电话
联系我们
扫一扫
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
推荐产品 / 产品中心
发布时间: 2016 - 03 - 10
太阳能硅片制绒腐蚀清洗机-CSE在光伏发电领域,由于多晶硅电池片成本较低,其 市 场 占有率已跃居首位,但相对于单晶硅电池片而言仍存在着反 射率较高、电池效率不足的缺陷。为缩小多晶硅太阳能电池 片与单晶硅太阳能电池片之间的差距,采用织构化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一条行之有效的途径。目前,多晶硅表面织构化的方法主要有机械刻槽、激光刻槽、反应离子体蚀刻、酸腐蚀制绒等,其中各 向同性酸腐制绒技术的工艺简单,可以较容易地整合到多晶 硅太阳能电池的生产工序中,同时成 本 最 低,因 而 在 大 规 模 的工业生产中得到了广泛的应用。更多的太阳能硅片制绒腐蚀清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 12 - 05
花篮/片盒清洗机-华林科纳CSE 完美适应当前所有型号的花篮和片盒、传输片盒、前端开口片盒(Foup片盒)的清洗和干燥系统优点装载晶圆直径至200mm的花篮和片盒—或不同晶圆尺寸的花篮和片盒,同时可装载晶圆直径至300mm的前端开口片盒(Foup片盒)三种设备尺寸满足客户特殊需求 CleanStep I – 用于4组花篮和片盒加载和清洗能力:每次4组花篮和片盒清洗产能:每小时12组花篮和片盒 CleanStep II – 用于8组花篮和片盒加载和清洗能力:每次8组花篮和片盒清洗产能:每小时24组花篮和片盒 CleanStep III – 用于6组前端开口片盒(Foup)加载和清洗能力:每次6组前端开口片盒(Foup片盒)清洗产能:每小时18组前端开口片盒(Foup片盒) 适用于晶圆直径至200mm的花篮和片盒的标准旋转笼(Cleanstep I/II) 适用于所有片盒一次清洗过程 或是同时4组花篮和片盒,或是12个花篮(Cleanstep I/II) 简单快捷的对不同尺寸的片盒和花篮进行切换 旋转笼内的可旋转载体方便加载或卸载花篮和片盒 通过控制系统对自锁装置的检测,达到安全加载片盒和花篮,及其运行特征和优点可应用不同化学品(稀释剂)来清洗 泵传输清洗液 计量调整可通过软件设置控制操作热水喷淋装置 热水一般由厂务供应 — 标准化 或有一个体积约100升的热水预备槽(循环泵和加热棒用于热水预备槽—选项) 笼子 带有可变速旋转的控制的高扭矩伺服电机(按照加载量和设备配置,最大旋转速度200rpm,) 旋转的不锈钢笼子 会自动停止工作(运行过程中出现失衡状态时)热空气干燥 顶端吹下热空气 采用根据设备待机和工艺运行模式的可调风量的风扇装置 不锈钢架上装有加热器,可以温度控制 软件监控温度 带有反压控制的高效过滤器辅助功能和操作控制 触摸屏安装在前面—标准化 也...
发布时间: 2016 - 03 - 07
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名  称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领  域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括:设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体:设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中;4.骨 架:钢骨架+PP德国劳施领板组合而成,防止外壳锈蚀。5.储物区:位于工作台面左侧,约280mm宽,储物区地板有漏液孔和底部支撑;6.安全门:前侧下开透明安全门,脚踏控制;7.工艺槽:模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险;8.管路系统:位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用白色NPP喷淋管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放;9.电气保护:电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的...
发布时间: 2017 - 12 - 19
片盒清洗机-华林科纳CSE 设备概况:主要功能:本设备主要手动/自动搬运方式,通过对片盒化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:片盒清洗机设备型号:CSE-SC-N259整机尺寸(参考):约1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(该设备非标定制)操作形式:手动 设备组成该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成 设备描述此装置是一个手动的处理设备;设备前上方有各阀门、工艺流程的控制按钮、指示灯、触摸屏(PROFACE/OMRON)、音乐盒等,操作方便;主体材料:德国进口 10mmPP 板,优质不锈钢骨架,外包 3mmPP 板防腐;台面板为德国 10mm PP 板;DIW 管路及构件采用日本进口 clean-PVC 管材,需满足 18MW去离子水水质要求;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明安全考虑:1. 设有 EMO(急停装置)2. 强电弱点隔离3. 所有电磁阀均高于工作槽体工作液面4. 设备排风口加负压检测表5. 设备三层防漏 漏盘倾斜 漏液报警 设备整体置于防漏托盘内 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096 18913575037可立即获取免费的片盒清洗机解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
自动供液系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2016 - 06 - 13
设备名称:晶棒腐蚀机---CSE产品描述:        ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统,抽风系统,电控及操作台等部分组成;         ●进口优质透明PVC活动门(对开/推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;         ●机械臂定位精度高;         ●整体设备腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;         ●设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作.         ●非标设备,根据客户要求具体定制,欢迎详细咨询!更多半导体清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
新闻中心 新闻信息中心
中芯国际今年总销售增长率上看20%,其中先进制程产能扩产与28纳米工艺放量成长,将是主要两大驱动力。中芯国际也将在13日举办专题技术研讨会,全面对客户展现先进工艺制程与物联网平台的完整布局。下面就随半导体小编一起来了解一下相关内容吧。  中芯国际日前预估,2017年相较2016年增长率将上看20%,尽管2017年上半年正在经历季节性调整,但是中芯国际对于下半年业绩抱持乐观展望,很可能展现“先蹲后跳”的实力。  其中,冲刺28纳米最先进制程工艺的布局,进展最快的就是中芯国际。根据统计,2016年中芯国际28纳米晶圆产能全球占比不足1%,与28纳米制程市占率分别为66.7%、16.1%与8.4%的前三大纯晶圆代工厂商台积电、格罗方德、联电仍保持较大的差距。  而28纳米将是2017年中芯主要成长动能之一,预期2017年底28纳米以下制程工艺将占公司营收比重达到7%-9%。并将在2017年底28纳米季度营收占比接近10%。  尽管中芯国际的28纳米制程工艺已在此前量产,但从产品规格来看,多偏向中低端的28纳米Ploy/SiON技术,对于高端的28纳米HKMG制程工艺涉足并不深,今年能否在HKMG制程工艺如期放量成长,乃外界观察指标之一。       今年中芯国际在先进工艺平台有几个重点,一是28纳米放量成长,二是14纳米起步开始有营收贡献,三是7纳...
发布时间: 2017 - 04 - 13
浏览次数:127
湿刻蚀是通过化学刻蚀液和被刻蚀物质之间的化学反应将被刻蚀物质剥离下来的刻蚀方法。大多数湿法刻蚀是不容易控制的各向同性刻蚀。(1) 特点:适应性强,表面均匀性好、对硅片损伤少,几乎适用于所有的金属、玻璃、塑料等材料。(2) 缺点:图形刻蚀保真想过不理想,刻蚀图形的最小线难以掌控。(3) 植入广告!!该公司在这湿蚀刻方面比较优越!!!!!苏州华林科纳,成立于2008年3月,总投资4500万元;目前已形成湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品; 广泛应用于大规模集成电路电力电子器件、光电子器件、MEMS和太阳能电池等领域。 干法刻蚀的刻蚀剂是等离子体,是利用等离子体和表面薄膜反应,形成挥发性物质,或直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。(1) 特点:能实现各向异性刻蚀,从而保证细小图形转移后的保真性。(2) 缺点:造价高。 从所产生通道截面形状分类,刻蚀又可分为两类:各向同性刻蚀和各向异性刻蚀。(1) 各向同性刻蚀:刻蚀剂从基片表面向下腐蚀的速率与在其他各方向大致相同,这种刻蚀成为各向同性刻蚀。例如含氢氟酸的溶液刻蚀玻璃和石英就是各向同性的。(2) 各向异性刻蚀:刻蚀剂在某一方向的刻蚀速率远大于其他方向时,就是各向异性刻蚀。例如用氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属的氢氧化物或季铵盐刻蚀硅片时是各向异性的更多的半导体材料工艺设备相关资讯可以关注华...
发布时间: 2016 - 12 - 28
浏览次数:240
单片清洗机在安装调试的过程中,会遇到一些常见问题,华林科纳CSE的安装技术工程师也整理了如下注意事项,可供大家参考:机械部分1.设备结构主要分为:设备壳体,中间选转部分,四周摆臂部分,后部滚刷部分,设备管路系统,供酸系统;2.中间选转部分在安装时,要保证安装完成后,中间旋转部分的高度可以调节,真空压力要保证好,防止旋转时及进行滚刷时把片子转飞掉,在腐蚀清洗时,要保证有一定的转速,药液从片着四周出去,防止污染片子背面;3.四周摆臂机构,根据工艺要求每个摆臂上面的药液和喷头也不一样,工艺制作时,根据药液来选择摆臂,摆臂设计时,因为有些药液有温度要求,摆臂应该药液预热或者预冷位置,让药液进行预热或者预冷,同时不会喷到片子上面,摆臂还有摆动喷洒药液的供液,摆动的幅度和摆动的范围都是要可以调整的;4.后部滚刷部分,在整个机构组装安装完成之后,摆动的高度也是可以进行上下调整的,滚刷伸出和缩回的距离也应该可以进行设定,因为滚刷的材料是PVA的,用之前是进行真空包装,安装之后,要每隔10秒滚刷进行滚动,滚动同时上面要进行喷水,不然滚刷就会变硬;5.旋转,摆动,滚刷,根据工艺的不同,可以进行选择,然后进行不同的组合。电器部分1.在制作程序时,有要求设定参数时,都应该设有该参数的最大值和最小值,让用户在范围内进行设定,防止发生错误;2.因为单片机的药液温度要求较高,所以制作程序时要考虑药液预热和预冷的...
发布时间: 2018 - 01 - 02
浏览次数:224
凤凰科技讯 据The Investor网站北京时间4月12日报道,三星电子将从7月份开始运营位于韩国京畿道平泽市的新半导体工厂。新设施是全球规模最大的芯片工厂,占地289万平方米。三星将在该工厂量产第四代3D NAND闪存芯片,该芯片垂直堆叠达到64层。据《首尔经济新闻》报道,三星已要求合作伙伴在5月底之前供应必要的芯片制造设备。消息称,一开始,新工厂的产量将较为有限,需要几年时间才能全面运转。三星预计将于今年开始在这一芯片制造综合体运营,但是尚未正式宣布具体时间表。新工厂从2015年开始建造,耗资15.6万亿韩元(约合136亿美元)。平面和垂直NAND闪存芯片的总产能预计将达到每月45万片晶圆,3D NAND闪存芯片将占据一半以上。三星目前是全球最大的NAND闪存芯片制造商。市场研究公司IHS Markit发布的报告显示,三星去年在NAND闪存芯片市场的份额从2015年的32%增长到了36.1%。更多半导体相关新闻信息,可以关注南通华林科纳CSE网站http://www.hlcas.com/
发布时间: 2017 - 04 - 13
浏览次数:72
华林科纳主要通过偏心旋转改善蚀刻均匀度以及斜度,通过精准的温度控制及时间调节定位蚀刻深度更多的相关设备调试视频可以关注华林科纳CSE官网(http://www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2018 - 01 - 02
浏览次数:145
导读: 去年,中国成功发射了全球第一颗量子通信卫星,目前正在按照预期工作。在量子通信方面,中国已经走在世界前列。传统硅基半导体计算机的提升越来越困难,而量子计算机普遍被视为未来的新希望,尤其是美国正全力投入研发,已经有了不少成果。那么中国呢?其实也在悄然进行中。据中科院院长白春礼透露,中科院正在研制中国第一台量子计算机,预计最近几年就有望研制成功。白春礼表示,科学家已经能够对单粒子和量子态进行调控,量子通信、量子计算机等都将产生变革性的突破。那么,量子计算机到底有多厉害?白春礼举了一个形象的例子:如果要求解一个亿亿亿变量的方程组,如果用亿亿次的当今第一超级计算机天河二号计算,需要长达100年,而使用一台万亿次的量子计算机计算,只需区区0.01秒。去年,中国成功发射了全球第一颗量子通信卫星,目前正在按照预期工作。在量子通信方面,中国已经走在世界前列。 更多半导体行业新闻可以关注南通华林科纳网站:http://www.hlkncse.com/
发布时间: 2017 - 04 - 12
浏览次数:121
导读: 随着联电厦门子公司联芯的 28 纳米先进制程计划在今年第二季正式量产,TrendForce 旗下拓墣产业研究院指出,中国本土晶圆代工厂今年将冲刺在 28 纳米最先进制程的布局,进度最快的本土晶圆代工厂为中芯国际与华力微电子...随着联电厦门子公司联芯的 28 纳米先进制程计划在今年第二季正式量产,TrendForce 旗下拓墣产业研究院指出,中国本土晶圆代工厂今年将冲刺在 28 纳米最先进制程的布局,进度最快的本土晶圆代工厂为中芯国际与华力微电子,然而,随着外资纷纷于中国大陆地区设立晶圆厂,本土晶圆代工厂面临技术、人才、市场上的直接竞争压力。拓墣指出,中国大陆地区纯晶圆代工厂商目前最先进的量产制程为 28 纳米,根据统计,中芯国际 28 纳米晶圆产品 2016 年的年晶圆产能全球占比不足 1%,与 28 纳米制程市占率分别为 66.7%、16.1% 与 8.4% 的前三大纯晶圆代工厂商台积电、格罗方德、联电仍有较大差距。不过,根据中芯国际季报显示,2016 年第四季 28 纳米营收占比达到 3.5%。中芯国际首席CEO邱慈云在 2 月 15 日的法说会上表示,28 纳米以下制程会是 2017 年中芯的成长动能之一,预期 2017 年底 28 纳米以下制程,将占公司营收比重达到 7%~9%。甫公布的中芯国际 2016 年业绩报告中,也展望 2017 年底 28 纳米...
发布时间: 2017 - 04 - 11
浏览次数:123
黑硅作为兴起的一种新型硅材料,以其在可见光与近红外波段有极高的光吸收率,使其对光线十分敏感 ,它的光敏感度可以达到传统硅材料的 100 ~ 500 倍。在正常情况下 ,一个光子只能产生一个电子 ,而在黑硅这种材料中 ,由于它具备光电导增益效果,可以由一个光子产生多个电子, 从而使电流增大200 ~ 300 倍 ,使其在微光探测方面的性能较一般材料有着飞跃般的进步 ,并且黑硅的制造工艺可以较容易地嵌入到目前的半导体工艺中, 使其在照相机 、夜视仪等光电探测方面有着广阔的应用前景 。 目前国际上其通用的制备方式主要有两种 :飞秒激光器刻蚀和深反应离子刻蚀(DRIE)。其中 ,飞秒激光器刻蚀是SF6 环境下, 利用飞秒激光器产生的超短脉冲激光对硅片表面进行辐照,其激光脉冲的高能在与硅片表面作用的同时, 在表面附近积聚大量能量 , 能瞬间使背景气体SF6 分解出游离的 F-离子, 并与表面汽化的 Si 原子生成易挥发的 SiF2 和 SiF4 ,使硅片表面不断被刻蚀 ,最终形成准规则排列的微米量级尖锥结构 。这样改造后的硅表面具有极高的光吸收率 , 而反应离子刻蚀(RIE)的原理是利用一定压强下的刻蚀气体在高频电场的作用下 ,通过气体辉光发电产生等离子体(其中包含了大量的分子游离基团), 通过电场加速活性基团对被刻蚀物体进行离子轰击和化学反应 ,生成挥发性气体, 反应产物在低压真...
发布时间: 2016 - 12 - 14
浏览次数:197
半导体新闻    1、力晶合肥12寸厂6月量产 DRAM缺货或持续至明年力晶董事长黄崇仁出席台湾半导体产业协会会员大会,他表示,目前台湾地区旗下所有12寸厂的产能都满载,还把客人赶走了,因为根本就不够用,而新投资的大陆合肥也就是晶合厂预计6月落成量产,初期月产能规划2万片。市场关心存储器产业的发展情况,黄崇仁引用美光执行长杜肯的说法,这一波存储器的热度将会延续到今年底,如果没有新厂盖出来的话,明年会缺货更严重。黄崇仁说,以他对杜肯的认识,他是非常保守的人,这次在法说会上释出如此乐观的讯息,我也认同他的看法。黄崇仁表示,台湾P1、P2、P3厂的产能全部满载,市场需求强劲,现在还把客人赶走,因为产能实在不够用,而且以现在的设备来生产,是非常有竞争力,未来会考虑慢慢扩产,不过大陆合晶晶合厂不会生产存储器。力晶大举投资的大陆12寸晶合厂正在赶工当中,预计最快6月落成投产,初期月产能规划维持2万片不变,先以导入90纳米,并生产面板驱动芯片、传感等为主,据悉已经有不少厂商开始抢先下单,力晶台湾厂也希望产能全满,所以也会把部分产能转移到晶合厂。力晶台湾P3产能由存储器模组大厂金士顿全吃下,以生产DRAM为主,今年将转进2X纳米制程,月产能维持3万片。至于P1与P2厂生产面板驱动芯片、电源管理芯片、CMOS传感器等等,合计月产能约6~7万片。 2、...
发布时间: 2017 - 04 - 10
浏览次数:122
—华林科纳 网络部离子注入出现:随着集成电路集成度的提高,对期间源漏结深的要求,切传统的扩散已无法景尊控制杂质的分布形式以及浓度了。离子束射到固体材料以后,离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用,入射离子逐渐损失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、结构和性能发生变化,这一现象就叫做离子注入。离子束的用途:掺杂、曝光、刻蚀、镀膜、退火、净化等,不同的用途需要不同的离子量。 离子注入系统: 离子注入的特点:(1) 可以独立控制杂质分布和杂质浓度(2) 各向异性掺杂(3) 容易获得高浓度掺杂 离子注入与扩散的比较 离子注入的优缺点:(1) 优点:可控性好,注入温度低,工艺灵活,可以获得任意的掺杂浓度分布,结面比较平坦,均匀性和重复性好,扩大了杂质的选择范围。(2) 缺点:离子注入将在靶中产生大量晶格缺陷,难以获得很深的结深,离子注入的生产效率比扩散低系统复杂安昂贵。更多的半导体湿法腐蚀刻蚀清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 12 - 13
浏览次数:161
Copyright ©2005 - 2013 南通华林科纳半导体设备有限公司
犀牛云提供企业云服务
南通华林科纳半导体设备有限公司
地址:中国江苏南通如皋城南街道新桃路90号
电话: 400-876- 8096
传真:0513-87733829
邮编:330520
Email:xzl1019@aliyun.com       www.hlkncse.com


X
3

SKYPE 设置

4

阿里旺旺设置

2

MSN设置

5

电话号码管理

  • 400-8768-096
6

二维码管理

8

邮箱管理

展开