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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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无机和有机垢的形成及清洗

时间: 2021-02-26
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1前言

众所周知,循环水已用于石油、化工、钢铁等各行各业,在循环水的使用中,由于水质的不同,会形成各种沉积物,这些沉积物以无机盐为主,成为无机垢;而在有机物的使用或生产过程中,由于高温等因素的影响,经常会导致有机垢的形成;在有些地方,则会同时形成无机垢和有机垢。

垢的形成,会给生产和安全带来一系列影响,主要表现四:影响生产的正常运行。严重的污垢沉积,使生产设备的性能下降,甚至不能正常运行;

增加成本。一般地,污垢的形成使热交换率大幅度降低,能耗明显增加;引发各种事故,原材料泄露,引起厂房及工作人员的损伤。影响材料性能和设备寿命,金属的污垢,如吸湿性的尘土和无机盐,容易吸附空气中的腐蚀性气体,如二氧化硫、二氧化碳,硫化氢等,进而腐独金属的表面,使金属失去光泽,产生麻点,强度下降;污垢下会发生腐蚀,缩短设备的寿命。

本文对各种常见无机垢和有机垢的形成机理、清洗方法进行全面评述

2无机盐垢的形成及清洗

2.1碳酸盐垢

2.1.1碳酸钙垢的成因

以碳酸钙和碳酸镁为主要成分,碳酸镁容易水解生成碱式碳酸镁,进而形成溶解度更低的氯氧化误在天然水中,钙的含量夫于镁,所以碳酸盐垢的主要成分为碳酸号,有少量的碳酸钱和氧氧化锁碳酸盐水垢一般为自色片状物当含有金属氧化物时,会带有颜色,如有铁锈时,早粉红色或红褐色它难溶于与冷水,也难溶于热水,但易溶于无机强酸,如盐酸、硝酸和高氯酸等。在工业用水中存在着各种离子,有Ca2+HCO3-Mg2+存在时,在受热条件下发生下列反应:

无机和有机垢的形成及清洗

在碱性条件下:

Ca(HCO3)2+2OH-=CaCO3↓+CO32-+2H20

生成碳酸钙沉积在管壁上形成了碳酸钙垢。

2.1.2 清洗机理及方法

碳酸钙为强碱弱酸盐,易与强酸发生复分解反应而溶解,所以工业上一般采用廉价的盐酸添加缓蚀剂如苯胺、乌洛妥品等清洗碳酸盐垢。发生的主要反应为:

无机和有机垢的形成及清洗

近年来,人们往往将多种技术联合用于工业循环水的清洗,一般采用两个步骤即首先投用杀菌剂剥离粘泥,然后清洗除垢!

2.2硫酸盐垢

2.2.1硫酸盐垢的成因

硫酸盐垢的主要成分是硫酸钙,有时含有少量的硫酸镁和氢氧化镇,硫酸钙在水中的溶解度比较小,但较碳酸钙大的多在40℃以上,其溶解度随温度的升高而略有降低,属于反常溶解度,这一点要特别注意。硫酸钙溶解度与温度的关系见表1

无机和有机垢的形成及清洗

水中含有较高的Ca2+SO42-时,发生下列反应:

Ca2++SO42-=CaSO4

生成的硫酸钙沉积在设备及管道上,就形成了坚硬致密的硫酸钙垢。

2.2.2清洗机理及方法

(1)转化清洗[3]

根据不同沉淀溶度积的不同,在硫酸钙中加入碳酸钠、磷酸钠,使之转化为更易与酸反应的碳酸钙和松软的磷酸钙(称为磷酸钠的剥离作用)。因此,在含有难溶物的溶液中加人适量的沉淀转化剂,使溶液中的某种离子结合成为更难溶的物质。

无机和有机垢的形成及清洗

(2)络合清洗

在水质中加入络合剂,使沉积的硫酸盐垢中的阳离子被络合,从而使沉积物慢慢转移到溶液中,即达到了清洗的目的。常用的络合剂为易溶的乙二按四乙酸二钠盐即EDTA,由于钙、镁离子与EDTA很易形成非常稳定的易溶的络离子:

无机和有机垢的形成及清洗

其中YEDTA的缩写孙纯宾等叫将HEDPEDTA两步络合法,用于清洗电!中压锅炉的硫酸盐垢,清洗结果符合电力部标准的要求

(3)水溶性高分子络合

水溶性高分子化合物的特点是其骨架上带有

极性基团(如羟基、氨基、竣基、黄酸基等),这些极性基团能离解出离子,与溶液中的其它离子进行交换。如磺化交联聚苯乙烯树脂,其骨架上带有磺酸基,在水溶液中能离解出氢离子H+而与水中的Na+Mg2+Ca2+等阳离子进行交换。通过交换降低离,子浓度,减少沉淀的生成。

2.3硅垢和硅酸盐垢

2.3.1硅垢和硅酸盐垢的成因

硅酸钙是灰白色的坚硬的固体,其传热系数很小。当水中二氧化硅的含量比较高且水的硬度较大时,比较容易集结形成硅酸钙和硅酸镁垢。当水的pH值较小时,低硬度水中或水中仅有SiO32-存在时,会产生硅垢,即胶状难溶的化合物SiO2·nH2O。典型的化学反应方程式为:

无机和有机垢的形成及清洗

2.3.2清洗机理及方法

(1)酸洗

用一定浓度的HCI0.5%~10%的氟化物加缓蚀剂进行清洗,反应如下:

无机和有机垢的形成及清洗

(2)碱洗

如果SiO2的含量在70%~80%以上,可以直接用15%NaOH溶液处理,温度为70℃以上,视结垢程度来控制清洗时间。其反应为:

无机和有机垢的形成及清洗

马文静等百对电厂含硅酸盐和铜氧化物的复合垢进行化学清洗,找到了一条碱煮一水冲洗一氧化络合除铜一碱冲洗——酸洗——漂洗氨冲洗钝化的清洗和预膜工艺,取得满意的效果。孙克敏回则采用混酸清洗化肥厂锅炉的硅垢,其配方由主酸、补酸、缓蚀剂、溶垢促进剂、润湿剂和渗透剂构成,成本低廉。

2.4硫垢和硫化物垢

硫垢属于一类特殊的垢,一般只产生在石油或化工装置的含硫尾气的治理部分,主要由硫化氢气体经过氧化而形成:

无机和有机垢的形成及清洗

2.4.1硫垢的清洗

因为碱金属或碱土金属硫化物的溶液能与单质硫发生反应而生成易溶的多硫化物,因此一般采用20g/LNas饱和溶液,加特殊的表面活性剂来溶解硫垢。反应如下:

无机和有机垢的形成及清洗

 

多硫化物的溶液一般显黄色,随着x增加,即硫的含量增加,由黄色变至红色。可根据结垢的程度重复清洗过程。

2.4.2炼油厂硫化物的清洗

在碱性条件下,使硫化物发生氧化作用(用10%NaOH5%KMnO4),使其转化为铁的氢氧化物、硫及MnO2沉淀,再采用10%HCI进行清洗。

为防止清洗过程中产生CI2,需在HCI中加入少量的醋酸[3]

2.5磷酸盐垢

2.5.1磷酸垢的形成

水中所含的磷酸盐浓度很小,然而在工业循环水中,由于使用的水处理药剂中,普遍含有无机磷酸盐,如磷酸钠或六偏磷酸钠、有机磷酸(如HEDPPBTC等)作为缓蚀剂,这些磷酸盐会与水中的钙、镁离子形成磷酸盐垢。磷酸钙垢为灰白色,当设备受腐蚀时,磷酸钙垢中混杂铁的氧化物,使水垢由灰白色变成粉红色、红褐色或黑褐色。其反应为:2Ca2++3PO43-=Ca2(PO4)3

2.5.2磷酸钙垢清洗

磷酸钙垢的清洗通常采用氨基磺酸法。该法所用清洗剂由氨基磺酸、缓蚀剂、表面活性剂和水组成。清洗液为酸性,能与金属氧化物、氢氧化物、碳酸盐反应,生成可溶性盐类,从而可除去水垢和铁锈。化学反应式为181:

Ca3(PO4)2+6NH2SO3H=3Ca(NH2SO3)2+2H3PO4

2.6金属氧化物垢

2.6.1钢铁的锈垢

(1)锈垢的形成

通常,暴露在自然环境中的钢铁表面都有由空气中的水及其电解质形成的电解质溶液,这些电解质溶液与钢材中的铁元素和碳元素形成了无数微型原电池。电化学反应的速度很快,是钢材腐蚀的主要原因;化学腐蚀是次要原因。腐蚀的结果是形成以+2+3价铁的氧化物或氢氧化物为主的复杂的氧化物,有时还有少量铁盐。

(2)锈垢的清洗

钢铁锈垢一般都溶于酸,反应如下:

Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O

2FeO+4H+=Fe3++Fe2++2H2O

Fe3O4+8H+=3Fe2++4H2O

铁锈垢一般用酸洗。可以用无机酸,也可以用有机酸,根据实际情况选择。在清洗的时候要注意加入适当的缓蚀剂和控制清洗时间。

在利用酸洗清洗钢铁垢时,要充分考虑钢材的组成,并考虑不同酸对钢材的溶解能力,以找到合适的清洗剂配方,文献[9]介绍了不同无机和有机酸对钢材铁的溶解能力,对于寻找适宜的清洗剂配方大有益处。尚世海[101介绍了一种用王水都难以清洗的铁垢的三步清洗方法。首先进行热碱(由NaOHKMnO4Na2SiO3,表面活性剂、渗透剂和缓蚀剂组成循环,然后进行酸液(组成为HNO3、尿素和硫脉等)循环,已经清洗掉50%的铁垢,其他铁垢也已松软,最后辅以人工清洗,取得了良好效果。

2.6.2铝及铝合金的锈垢

铝垢的主要成分是组成非常复杂的水合氧化

铝和碱式碳酸铝,主要是由新鲜的铝表面与空气氧化形成的。错垢的清洗方法是由错及其氧化物的两性决定的,一般有酸洗和碱洗两种方法

(1)酸洗

在清洗的时候应尽量采用可以使铝处于钝化状态的一定浓度的氧化性酸,如硝酸,或在清洗液中加人适当的缓蚀剂,以减轻酸对机体的腐蚀。

AL2O3+6H+=2A13++3H2O

(2)碱洗法

采用10%NaOH即可溶解铝表面的氧化物,但时间不宜过长,一般控制在1~2min,以免对基体造成损伤。在碱液中添加20~30g/LNaClNaF,可改善清洗表面的外观,注意在清洗中应加人适当的缓蚀剂。

2.6.3铜及铜合金的锈垢

在潮湿的空气中,铜受氧、水、二氧化碳和氯化物等作用,生成碱式碳酸铜或氯化铜等;当受硫化物和氧作用时,则生成棕色或黑色的硫化物垢铜垢的清洗多采用无机酸洗法,通常采用硝酸、硫酸和盐酸的混合酸。应根据实际情况,采用不同的混酸组合和配比

3有机物类垢的形成及清洗

3.1油垢的形成与清洗

3.1.1油垢类型及成因

型、成因及其清洗方法,见表2。从表2中可以看出,温度是影响油垢类型的主要因素。随着温度升高,油垢类型从清油垢逐渐转化成焦炭垢。焦炭垢一旦形成并彻底炭化,其清洗是非常困难的。因此,对于温度较高的石化设备,要定期清洗,防止垢的炭化。

无机和有机垢的形成及清洗

3.1.2油垢的清洗

碱洗。根据相似相溶原理,油是憎水化合物,因此无法采用水洗的方法。而碱溶液对油污具有较好的亲和性,因此,常用碱性水溶液,有氢氧化钠、碳酸钠、磷酸钠与硅酸钠等清洗油垢,一般总是几种碱组成的碱液清洗剂。但是一般碱性清洗液对动物油起皂化反应清洗能力好,而对矿物油清除能力除硅酸钠外,大多较差,因而常作传统的日用除油剂,工业上仅用于一般脱脂。文献[12]介绍了一种发动机积炭的清洗方法,采用金属清洗剂、焦磷酸钠、苛性钠、碳酸钠、硅氟酸钠、铭酸等药剂构成对积炭渗透能力极强的清洗剂,辅之适当的温度,对发动机积炭具有理想的清洗效果。

酸洗。梁小强[13]绍了一种酸性除油垢方

法。他根据T-roumg方程选择合适的清洗剂,即选用与金属界面张力较低的表面活性剂,而且愈低愈好,通过表面活性剂的润湿力和渗透力把金属表面的油污润湿,使油污松软,达到清洗之目的。据此,设计了一种由磷酸和烷基酰胺构成的油垢清洗剂,对油罐的污垢清洗效果良好。高晶荣等(14)采用复合酸-有机溶剂复合清洗剂,也取得了理想效果

有机溶剂法。常用的有石油类溶剂、卤代炼溶剂、醇类溶剂等,靠对油类较强的溶解反应清除油垢、焦油垢与焦炭垢。焦炭垢一旦形成并沉积于管壁,由于附着力极强,其清洗是非常困难的,对于沉积较厚的焦炭垢,可采用溶剂浸润加机械的办法。此外,近年来开发的超声波等方法具有一定效果,但成本昂贵

表面活性剂法表面活性剂由于具有两亲结构(亲水基和亲油基),因而其低浓度水溶液具有减少表面张力、润湿渗透、乳化分散和增溶等独特作用,故对液态油垢具有良好的去除能力,但对固态油垢去除能力差。

氧化法。选用浓硫酸、硝酸与铭酸等强氧化性酸能较好地清除焦油垢、胶垢与积炭垢,以及含硫化铁的油垢。但这些强氧化型清洗剂,虽在常温下操作,但稍有不慎就会造成事故。铭酸还存在排污公害的问题。

复合法。对于工业油污油垢,很少局限于一种类型,因此,单独采用一种清洗方法往往难以彻底清除油污油垢,这样就需要根据实际情况,联合采用多种方法进行清洗。将络合剂、碱性溶液、表面活性剂等不同物质混合起来,发挥各自的优势,具有更好的除垢能力。

干冰法。唐纯[15]绍了利用干冰清洗导热

油炉的方法。这是一种物理除垢法,其主要原理是利用干冰的低温(-78℃)使灰垢被冷冻至脆化及爆裂,而达到清除积垢的目的,实践证明利用干冰清洗不留死角,清除效率高

3.2糖垢的形成和清洗山

糖垢也称为碳水化合物垢,是由无机物和有机物构成的,通常由蔗糖、蔗蜡、碳酸钙、亚硫酸钙、硅酸钙、草酸钙、蛋白质等组成的,因制糖工艺的不同而有变化在糖什蒸发和浓缩的过程中,在多效蒸发罐的一效蒸发罐壁上首先析出溶解度较小的碳酸镁、碳酸钙、磷酸钙以及焦化物,再析出溶解度较大的硫酸钙、亚硫酸钙、柠撑酸钙和草酸钙等糖汁中可溶的有机和九机钙盐,通过与糖汁中的碳酸离子反应,转化为不溶性的碳酸钙盐沉淀。其中的可溶性无机钙盐,如碳酸钙、亚硫酸钙等受热分解成为难溶的碳酸钙垢。糖汁中的金属氧化物和氢氧化物胶状物,在糖汁的浓缩过程中会析出。酸性的糖汁对设备也会腐蚀,生成金属氧化物垢和盐垢。此外在制糖工艺中加入的一些助剂也会成为糖垢的组成成分。糖垢的清洗方法应根据糖垢的组成采取上述无机垢或油垢的清洗方法。


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