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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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一种低通滤波器件介绍

时间: 2021-03-02
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背景技术

随着经济的发展,电力负荷不断增长,对电网的输送能力提出了更高的要求。尤其是对电力系统潮流控制、电压控制及短路电流控制的需求越来越多,因此柔性交流输电(Flexible AC Transmission SystemsFACTS)装置在电力系统中的应用越来越多。

FACTS根据与电网连接的方式可以分为串联装置、并联装置及串并联装置。

前应用的串联型柔性交流输电装置包括:串联补偿装置和串联谐振型故障电流限制装置,其示意图如图1所示。图中,31为输电线路一侧的母线;36为输电线路另一侧的母线,32为输电线路一侧的线路开关;35为输电线路另一侧的线路开关,33为输电线路,34为所安装的串联型装置。由于装置串联在线路中,故其对地的绝缘要求与线路对地的绝缘要求一致,为降低工程造价,将串联装置安装在钢结构的绝缘平台上,绝缘平台再由支柱绝缘子、斜拉绝缘子固定。故串联装置与地面便不存在电气联系,绝缘要求由支柱绝缘子和斜拉绝缘子来满足,而装置仅需考虑对绝缘平台的绝缘要求,大大降低了串联装置本身的绝缘

水平。

考虑到串联型柔性交流输电装置串联在线路中,为确保主设备正常运行,需要配置过电压保护设备,针对这些一次主设备还需配置相应的二次保护,进而需要采集绝缘平台上对应的电气量,并将这些电气量传递给地面的保护装置,作为保护装置进行逻辑判断的依据。

对于串联补偿装置,其配套的二次保护包括电容器不平衡保护,国内某一串联补偿装置在周边系统增加了直流、SVG后的运行过程中发生了电容器不平衡保护动作,使得串联补偿装置退出。后续故障分析时,并未发现串联补偿装置的电容器单元存在异常的现象,但对录波分析时发现电容器不平衡电流工频分量很小,而高次谐波存在很大的含量。由于该串联补偿装置所配的二次控制保护装置所采用的算法为均方根算法,对高次谐波比较敏感,故造成了保护误动作。考虑到该厂家在国内已经没有售后技术支持,无法通过升级软件消除高次谐波电流对保护的影响,而且以往在电力系统中采用的滤波装置一般是对电压信号进行滤波。

发明内容

本发明的目的是克服上述现有技术的不足,提供一种低通滤波器件。

本发明是通过以下技术方案来实现的:一种低通滤波器件,包括输入端子、电容、输出端子、金属外壳、第一电抗器、第二电抗器和第三电抗器;所述输入端子位于所述金属外壳的一侧,所述输入端子通过导线二次回路相连接有用于采集一次回路电流量的电流互感器;所述输出端子位于所述金属外壳的另一侧,通过导线连接有接收模块;所述第一电抗器一端与一侧输入端子相接,其另一端与所述第二电抗器的一端相接,所述第二电抗器的另一端与该侧的输出端子相接;所述电容通过导线分别接入另一侧输入端子与另一侧输出端子,所述电容与所述第三电抗器的一端连接,所述第三电抗器的另一端接入所述第一电抗器与所述第二电抗器连接线之上;所述电容与所述第一电抗器、第二电抗器、第三电抗器构成低通滤波回路。

第一电抗器构成第一支路,第二电抗器构成第二支路,第三电抗器与电容串联构成第三支路,电抗器与电容构成串并联方式构成低通滤波回路。

所述低通滤波回路采用椭圆函数的低通网络,其截止频率为400Hz

所述低通滤波回路采用串联方式接入采样回路中。低通滤波回路采用串联方式接入,可滤除高次谐波电流。

所述电流互感器采用穿心式电流互感器。

与现有技术对比,本发明的优点在于:本装置通过低通滤波器的滤波性能,消除高次谐波电流对采样的影响,适用于电力系统中的电流采样回路;通过硬件方式滤除高次谐波电流,确保保护采样不受高次谐波电流的影响;对基波电流的大小未产生影响,确保了采样的精度。

附图说明

1为现有串联型柔性交流输电装置接入电力系统的结构示意图;

2为本发明低通滤波器的结构示意图;

3为本发明低通滤波器接入采样回路中的结构示意图。

图中附图标记含义:1、低通滤波器;11、第一电抗器;12、第二电抗器;13、第三电抗器;14、电容;15、输入端子;16、输出端子;17、金属外壳;21、第一电容器组分支;22、第二电容器组分支;23、第一穿心式电流互感器;24、第二穿心式电流互感器;25、采样装置;31、输电线路一侧的母线;32、输电线路一侧的线路开关;33、输电线路;34、所安装的串联型装置;35、输电线路另一侧的线路开关;36、输电线路另一侧的母线。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明的内容做进一步详细说明。

实施例

参照图2,为一种低通滤波器件,包括输入端子15、电容14、输出端子16、金属外壳17、第一电抗器11、第二电抗器12和第三电抗器13;输入端子15位于金属外壳17的一侧,输入端子15通过导线二次回路相连接有用于采集一次回路电流量的电流互感器;输出端子16位于金属外壳17的另一侧,通过导线连接有接收模块;第一电抗器11一端与一侧输入端子15相接,其另一端与第二电抗器12的一端相接,第二电抗器12的另一端与该侧的输出端子16相接;电容14通过导线分别接入另一侧输入端子15与另一侧输出端子16,电容14与第三电抗器13的一端以串联形式连接,第三电抗器13的另一端接入第一电抗器11与第二电抗器12连接线之上;电容14与第一电抗器11、第二电抗器12、第三电抗器13以串并联的方式构成低通滤波回路。

第一电抗器11构成第一支路,第二电抗器12构成第二支路,第三电抗器13与电容14串联构成第三支路,电抗器与电容14构成串并联方式构成低通滤波回路。

低通滤波回路采用椭圆函数的低通网络,其截止频率为400Hz

低通滤波回路采用串联方式接入采样回路中。低通滤波回路采用串联方式接入,可滤除高次谐波电流。所述电流互感器采用穿心式电流互感器。

本实施例中,接收模块为现有通用技术,不做展开分析。

参阅图3,使用时,将低通滤波器1串联接至第一穿心式电流互感器23、第二穿心式电流互感器24的二次端子,将第一电容器组分支21与第一穿心式电流互感器23串联形成第一分支,将第二电容器组分支22与第二穿心式电流互感器24串联形成第二分支,第一分支与第二分支并联;低通滤波器1的另一端连接在采样装置25的采样回路上。当电容14器不平衡电流中出现高次谐波分量时,通过该低通滤波器1便可将高次谐波电流滤除。本应用实例中选取的截止频率为400Hz,即可满足本实例中高次谐波电流的滤波要求。若对截止频率有其他要求,可以通过修改滤波回路的电抗器、电容14实现。

本器件提供的装置,能有效滤除在电容器组内产生的高次谐波电流分量,确保保护采样的准备度,使得串联补偿装置保持正常运行。

一种低通滤波器件介绍 

一种低通滤波器件介绍

一种低通滤波器件介绍


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