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始于90年代末

湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8798-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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炉管清洗机技术方案

时间: 2021-03-03
点击次数: 8

设备规范

1.设备概述

2.清洗槽构成

3.设备构成

4.设备动力条件

5.附加材料

6.其它承诺

7.工艺及安全

8.设备可靠性保障措施

9.设备出厂须经客户检验合格10.安装说明

11.设备主要配置清单

12.类似设备照片

1.概述

1.1设备概要

设备类型:手动

清洗槽:清洗槽两个(水洗与酸洗共用)+配酸槽一个

1.2设备特点:

·清洗能力强,性能稳定,安全可靠;

·设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;

·技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作;

·清洗形式:酸洗时:浸泡+工件自旋转

水洗时:浸泡+溢流+工件自旋转。

·上下料由人工完成

·清洗能力:炉管:2/次;晶舟:1/

1.3本体:

面向设备,靠近操作侧外侧为炉管清洗槽,内侧为配酸槽,左侧为晶舟清洗槽。本体尺寸约为:3400X1800X2100mmxx高),如附图所示

药液、废水分别独立排放

本体为碳钢骨架外包耐腐蚀 PP材料(德国进口聚丙烯)焊接而成,耐强酸碱本体操作侧有透明 PVC门,形式为上下升降式

本体设有手动调节风门,手动调节可锁定

本体内操作侧附近设有水枪与氮气枪各2

本体台面高度约950mm

本体配备防酸日光灯,万向脚轮与调整地脚

2. 清洗槽构成

炉管清洗机技术方案 

炉管清洗机技术方案 

注:当清洗槽注满水时,整个炉管被水完全浸没。

2.1清洗槽(1#):

·内槽尺寸:2300*700*450mm(LXWXHmm)

·槽体材质:10mmPVDF

·清洗液:HCL+HF+DIW/DIW;

·该槽为酸洗与水洗共用槽。

·上液方式:自动/手动;

·时间设定:0~9999sec;

·槽内设有4个液位传感器,1个极限液位,1个低液位,1个高液位,1个注酸液位。高液位用于确定水洗时溢流漂洗水的高度。极限液位用于保护高液位,注酸液位用于确定酸洗时的注酸液位,低液位用于检测清洗液是否排空。

·清洗槽设置溢流漂洗口(DN50)

·槽底设一定倾斜角度,便于排放及清洗缸体,排放口加装过滤网,排放口DN50

·槽内有热氮吹干功能,热氮加热温度最高为60°

·槽内配有工件自旋转机构,每次可两个工件(炉管)在槽内可做连续的旋转运动。转轴间距可调。旋转速度可调,范围是5-10/分钟

·槽盖:配有PP槽盖,防止停机时污染;

·排液方式:重力排放/气动隔膜泵;

·有独立的液位控制(注水、注酸液位可调,配液浓度根据液位传感器刻度尺高度可调节)

2.2配酸槽(2#):

·配酸槽尺寸:2300L*600W*550H

·槽体材质:10mdFPVDF

·该槽主要向清洗槽(1#)与清洗槽(3#)提供所需的化学药液,同时,当清洗槽完成酸洗时,经过滤后收回清洗槽内的化学药液,以便下次清洗时再次利用

·配酸槽配有槽盖,螺丝固定,便于维修。

·配有供酸循环管路,供酸方式为气动隔膜泵

·管路中配有过滤器,过滤精度为pm,材质为PP

·上液方式:手动

·时间设定:0~9999sec;

·槽体底部倾斜;

·排液方式:重力排放;

·槽内设有4个液位传感器,1个高液位,1个低液位,1个注HCL液位,1个注HF液位,1个注水液位。高液位用于确定保护注水液位。两个注酸和一个注水液位用于确定酸液的浓度,低液位用于检测清洗液是否排空。

2.3清洗槽(3#):

·内槽尺寸:700*400*350mm(LXWXHmm)

·槽体材质:10mmPVDF

·清洗液:HCL+HF+DIW/DIW

·该槽为酸洗与水洗共用槽

·上液方式:自动/手动;

时间设定:0~9999sec;

·槽内设有4个液位传感器,1个极限液位,1个低液位,1个高液位,1个注酸液位。高液位用于确定水洗时溢流漂洗水的高度。极限液位用于保护高液位,注酸液位用于确定酸洗时的注酸液位,低液位用于检测清洗液是否排空。

·清洗槽设置溢流漂洗口(DN50)

·槽底设一定倾斜角度,便于排放及清洗缸体,排放口加装过滤网,排放口DN50

·槽内有热氮吹干功能,热氮加热温度最高为60°

·槽盖:配有PP槽盖,防止停机时污染;

·排液方式:重力排放/气动隔膜泵;

·有独立的液位控制(注水、注酸液位可调,配液浓度根据液位传感器刻度尺高度可调节)

3.设备构成:

3.1此设备主要由通过式设备主体、槽体、排风系统、管路系统、电控系统等部分组成。

3.2设备主要配件选材:

炉管清洗机技术方案

3.3.设备各槽段及其他要求:

·设备设计为相对封闭结构,并设有排气口,设备的密封性能及抽风效果保证在使用和非使用情况下,工作环境符合国家有关环保,人身安全等标准要求;

·清洗时间自动控制,时间可调,状态显示;

·设备有紧急和异常报警装置:

·所有阀门上都标有常开、常闭的标识,所有管路上都标有液体流向的箭头;

·设备安装移动脚轮。

·设备安装易拆卸式的防爆LED照明灯18W

·工作流程:人工将炉管放入清洗槽关闭升降门自动从配酸槽将酸液注入清洗槽炉管自旋转酸洗时间到结束自动将清洗槽内的酸液输送回配酸槽清洗槽自动注水水洗时间到结束报警提示打开升降门取出工件

3.4安全门:

进口优质透明PVC外包PP活动门(上下推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;有固定插销装置,防止门出现意外滑落,起固定作用。

3.5设备排风系统

·排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内的挥发气体抽到车间

·排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求);

·排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;

·本体顶部后方设有2个风道口装置,排风口直径大于或等于200mm与本体法兰连接。

·排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;

3.6给排水/废液系统

·给水管路为英制接口,一路去离子水;管路材质:CL-PVC.

·给酸管路为英制接口。一路HCL酸,管路材质:PVDF.一路HF酸,管路材质:PVDF.

·排废液系统为:一路排废稀酸,管路材质PP,一路排废浓酸,管路材质PVDF.

·给排水排废接头均为活性连接;

3.7电器控制系统

·采用台达可编程控制器控制全操作过程,既可全自动操作,也可手动操作;

·设备安装易拆卸式的防爆LED照明灯18W

·人机界面为彩色触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警;

·触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;

·设备的主机、附件及所有附属设施应采取设备安全防护措施,具有防止意外断气、断电后,维持工作构件正确位置等安全保护措施及装置;设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线。

·所有的电控系统均装有漏电保护器接,并有可靠的接地装置及紧急关机和报警系统;

·各个槽体均有计时功能;

·设备具有良好的接地装置;

·配有独立的配电箱,电路方面进行功能分块,强电、弱电分块,以便于维护;

·设备配有漏液检测装置,如有漏液,设备自动报警并关闭水源打开排水。

·设备配有紧急停止装置(EMO)

3.8报警信号定义如下:

·A.红灯(常亮):设备故障;

·B.红光(闪烁):非常规情况;

·C.黄光(常亮):设备闲置;

·D.黄光(闪烁):提醒设备人员有下一步操作;

·E.绿光(常亮):设备运行中;

·F.蜂鸣器(长响):紧急情况,要马上处理;

·G.蜂鸣器(间歇):提醒操作人员下一步动作。

4.设备动力条件:

·电源:单相三线220VAC10%频率.50H2-10%;

·整机额定电功率(参考):1KW;额定电流10A

·电气性能:E级,并有良好的接地,抵抗500MQ以上;

·DI水:压力3-5KGcm2,口径DN25;进水口材质CL-PVC

·进酸:压力2-3KGcm2,口径3/4;进酸口材质PVDF

·压缩空气:0.5~0.7MPa,口径3/8”有可调节气压表,SUS卡套接头

·氮气:0.5~0.7MPa,口径3/8”有可调节气压表,SUS卡套接头

·排废稀酸:DN50;材质PP

·排废浓酸:DN50;材质PVDF

·排风:2-DN200;PVC法兰

·环境要求:空气温度5-40℃;相对湿度:80%;

5.附加材料:

设备交付时,提供操作、调试、维修的全套技术资料,包括操作和维修手册。维修手册中应含电路图、气路图、水管路图,并列出控制设备、控制元件、易耗品以及易磨损的部件名称、型号、规格、制造或供应商,以便用户可以随时修理与维护清洗设备;

6.其它承诺:

6.1安装:

我方向现场施工人员提供关于设备安装所需的所有细节,以便用户准备现场,为设备安装做准备,在用户工厂现场安装调试至设备正常运转后,交付使用;我方负责设备安装调试,用户提供协助;

6.2培训:

在安装期间,卖方在现场为工厂操作工提供培训,培训包括正常操作、维修保养、操作问题的分析和紧急处理程序;

6.3设备交付使用与售后技术服务:

设备交付使用后,一年内提供无偿服务,非人为操作造成的零部件损坏由我方无偿维修。超出质保期产品,视故障情况酌情收费。

7.工艺及安全:

7.1工艺方面:

采购方提供工艺;对涉及的产品制造工艺、设计工艺及用途保密;

7.2安全方面:

设备严格按照国家相关安全生产标准及客户要求生产,保证生产环境及操作人员的安全。

8.设备可靠性保障措施:

·系统结构采用国外典型处理方法,保证系统结构的合理性和适应性;

·结构采用洁净化处理状术,可达到国外同类产品水平;

·采用国外引进元器件及专业厂家产品;

·国产元器件采用国内专业厂家生产和经证实质量优质的高性能元件;

·设备的生产加工除下料、焊接在普通厂房内进行外,装配、调试等工序都在万级超净间内进行;

·所有零部件在进入万级洁净间前均进行清洗;

·设备出厂前都经过严格的渗漏检查;


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