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湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
新闻中心 新闻资讯

太阳能电池片洁净度检测测量三

时间: 2016-03-23
点击次数: 93

 Cost Impact Of Cleanliness Levels 清洁水平的成本对比
• Cleaning cost - directly proportional to level of cleanliness
•         清洁成本-与清洁度水平直接成正比
• Non-conformance level - indirectly Proportional to level of cleanliness
                   不符水平-与清洁度水平间接成比例
• Total cost = cost of cleaning + cost Of non-conformance
                   总成本=清洁成本+不符水平 
 
Selection Criteria - Cleanliness Measuring Methods
选择标准-洁净度检测方法
•         Types of contaminant污染类型
•         Types of substrate基板类型
•         Level of cleanliness洁净水平
•         Measurement speed测量速度
•         Acquisition & operating cost 获得和运行成本
•         Skill level required技术水平要求
• Features of the measurement method
•         测量方法特性
•         Non-contact, non-destructive无接触,无损伤
•         Direct or indirect 直接或间接
 
Suggested Approaches: Defining Acceptable Cleanliness Level
推荐的方法:定义合适的洁净等级
•         Baseline testing基线测试
 
•         Controlled experiment 控制实验
 
Baseline Testing基线检测
•         Measure cleanliness level of the current process当前工艺洁净等级测量
•         Measure non-conformance rate attributed to surface cleanliness表面洁净度属性不符率测量
•         If this measured rate is too high, then improve surface cleanliness process如果测量出的这种比率过高,那么改善表面清洁工艺
•         If this measured rate is acceptable, then cleanliness level of current process becomes acceptable level如果测量出的这种比率合适,那么当前工艺的清洁等级就是合适的等级
•         If this measured rate is too low, then un-improve surface cleanliness process弱国测量出的这种比率过低,那么调低表面清洁工艺
 
 
Controlled Experiment
控制实验
•         Define the desired “success” level定义需求合适等级
•         Prepare parts with varying surface   cleanliness level准备不同表面洁净等级的部件
•         Measure and record surface cleanliness levels测量并记录表面洁净等级
• Perform the next operation
•         执行下一个操作
• Measure the “success” level of the operation
•         测量这个操作的合适等级
• Correlate cleanliness level to “success” level of the operation
•         将这个操作合适等级同洁静等级关联
Example.例子
• Parts are coated with a film.
•         部件用薄膜涂覆
• “Success” = desired adhesion.
•         合适=需要的粘着系数
• “Success” level = minimum adhesion measured as peel strength.
•         合适等级=剥离强度下测量的最小粘着系数
• Establish surface cleanliness limits
•         建立表面洁净度限值
• Limits based on minimum “success” measure desired
•         基于最小“合适”需求的测量限制
• Implement cleanliness measurement method
•         实施清洁度测量方法
• Begin monitoring of cleanliness process to established cleanliness limits
•         从监控清洁工艺至建立洁净度限值
 
Surface Cleanliness Vs.Peel Strength
表面洁净度 Vs 剥离强度
  
 
OSEE Principle
光学受激电子发射原理
– Surface exposed to UV light
–        紫外线光照射表面
– UV light causes surface to emit electrons
–        紫外线光另表面发射电子
– Emitted electrons collected and converted into a voltage signal
–        发射的电子聚集并转化成电压信号
– In general, clean surface gives high emission
–        通常,洁净的表面会有更高的发射
– Surface contamination partially blocks:
–        表面污染部分阻碍:
– The UV light reaching the surface
–        紫外光到达表面
– The flow of electron away from surface
–        电子流离开表面
– Contamination causes a drop in measured signal
–        污染会引起测量信号的一个回落
 
 
How it works
它如何工作
  
 
Cleanliness Monitoring of Solid Rocket Motor (SR, M) Using OSEE
使用光学受激电子发射的Solid Rocket Motor (SRM)洁净监测
• SRM is made up of several segments of D6ACsteel, approx. 13 feet diameter and 10 feet long.
•         固态引擎电机由几段D6AC钢制成,直径约13英尺,长约10英尺
• Segments are mechanically fastened to each other with a groove/ring arrangement.
•         各段用一个凹槽/圈组合固定彼此
• This joint also houses the infamous “O” ring.
•         连接处也覆盖在“O”型圈内
• An asbestos/rubber lining covers the inside surface of SRM including the joints
•         一个石棉/橡胶内衬覆盖固态引擎电机及接头内表面
• Solid propellant is then cast into the SRM
•         然后固体推进剂被掷入固态引擎电机
• During the launch the propellant burns and generates intense heat
•         推进剂燃烧之前期间,产生高强度的热量
• Several approx. 1 square foot sections of D6ACsteel were prepared with varying degree of surface contamination
•         准备几个不同程度表面污染约1平方英尺区域的D6AC钢
• Surface cleanliness of these samples was measured and recorded
•         测量这些样品的表面洁净度并记录
• Next the lining was bonded to these sections
•         内衬边缘与这些区域连接
• Peel tests were performed to measure the adhesion strength of the lining
•         执行剥离实验是为了测量内衬的粘着强度
 
 
  OSEE Vs. Contamination Level
      光学受激电子发射Vs污染等级  
 
  Peel Strength Vs. Contamination Level
      剥离强度Vs污染等级 

Cleanliness Monitoring of Solid Rocket Motor (SRM) Using OSEE
使用光学受激电子发射的Solid Rocket Motor (SRM)洁净监测
• The predominant contaminant is HD2 grease that fluoresces
•         主要的污染是发荧光的HD2油脂
• Prior to the use of OSEE surface cleanliness was checked with black light
•         使用光学受激电子发射表面清洁之前需用黑光检测
• The lowest level of contamination that could be detected was 100mg/ft2
•         可检测的最低等级污染是100mg/ft2 毫克/平方英尺
 
• This level of contamination resulted in an average peel strength of 50 pounds per linear inch (PLI)
•         这种等级的污染导致一个50磅每线性英尺的平均剥离强度
• An acceptable level of 150 PLI was established
•         合格等级150磅/线英寸建立
• This level of peel strength corresponds to an OSEE reading of 900
•         这种剥离强度等级与读取值900的光学受激电子发射相对应
• Currently, in SRM production, this is the minimum acceptable level of OSEE reading
•         当前,在SRM生产中,这是光学受激电子发射读取的最小标准等级
 
Summary总结
•         Why monitor cleanliness 为什么要检测洁净度?
•         Types of contamination 污染类型
•         Types of cleanliness measurement methods洁净度检测方法类型
•         Most common verification/measurement methods最常用的确认/测量方法
•         Criteria for selecting a cleanliness monitoring method选择清洗监测方法标准
•         Cost impact of cleanliness level清洁度水平的成本影响
•  ,        Suggested approaches to defining acceptable limits 推荐的定义合适限值的方法
•         Example of defining acceptable limits定义标准限值示例
•         Summary 总结

 

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