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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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弯道超车现实吗?芯片产业火热背后还需务实前行

时间: 2018-09-01
点击次数: 16

芯片无疑是2018年最火的话题之一。中兴事件之后,更是全民关注、讨论芯片。


不久前,在半导体产业高端论坛上,国家集成电路产业投资基金(下称“大基金”)总裁丁文武称,全国老百姓都知道芯片,即使不知道芯片是什么,也都知道芯片产业差距很大。


有人欣慰这一行业终于引起了大众关注,也有人担心只是表面繁荣、虚火过旺。


仅在最近三个月里,就有多家公司发布AI芯片或模组,不仅有百度,也有寒武纪、云知声、出门问问、Rokid等初创企业。


但芯片从来不是赚快钱的产业,对于AI芯片可实现弯道超车的观点,不少业内人士持怀疑态度。


弯道超车现实吗?芯片产业火热背后还需务实前行


由冷到热


在中国国际智能产业博览会上,第一财经记者看到,一些芯片厂商的展台周围到处都是驻足观察和拍照的观众,展台的讲解员则一一为观众进行科普。


“集成电路的话题越炒越热。”赛迪研究院集成电路产业研究中心总经理韩晓敏告诉记者,“这两年行业发展也好,国内资金支持力度也好,半导体这个行业整体景气度上来了。”


根据赛迪顾问提供的数据,2007年到2017年,中国集成电路产业年均复合增长率为15.8%,远远高于全球半导体市场6.8%的增速。


元禾华创投资管理有限公司执行合伙人刘越对第一财经记者表示,在美国等西方国家芯片已经是一个非常成熟的行业,“20世纪八九十年代,集成电路在硅谷是最火的,大量资本进入集成电路企业”;在中国,目前这一行业仍处于快速发展期。但由于芯片是高投入、高风险、慢回报的行业,中国投资者更偏爱互联网企业。


根据《集成电路设计业的发展思路和投资建议》所述,一款28nm芯片设计的研发投入约为1亿到2亿元,14nm的约为2亿到3亿元,研发周期为1到2年。芯片制造更是资本密集行业,一条28nm工艺的集成电路生产线投资额约为50亿美元,20nm的高达100亿美元,更不用说14nm、10nm和7nm先进制程的投资额度了。


不过,今年在中国,芯片也成为了继区块链之后的又一投资风口。除了中兴事件引发的关注,也离不开最近几年政府的政策支持和大基金的介入。


在今年政府工作报告中,集成电路被放在实体经济发展的显著位置。李克强总理提到,加快制造强国建设。推动集成电路、第五代移动通信、飞机发动机、新能源汽车、新材料等产业发展,实施重大短板装备专项工程,推进智能制造,发展工业互联网平台,创建“中国制造2025”示范区。


2014年国家设立了集成电路产业投资基金。丁文武表示,经过近4年的工作,目前进展顺利,大基金布局了集成电路整个产业链,实现了产业的全覆盖。


目前,包括北京、天津、西安、重庆、成都、武汉、合肥等20多个城市都有芯片产业项目。中芯国际创始人张汝京预测,到2020年,建成的200mm(毫米)和300mm集成电路生产线产能可以达到每月200万片。这一规模比现在至少翻了一倍。


根据SEMI(国际半导体产业协会)数据,预计2017年到2020年间,全球投产的晶圆厂约62座,其中26座位于中国,占全球总数的42%。


这种“集体作战”的模式是一种探索市场的路径,国内如海思、展讯的局部崛起,意味着国产手机正在逐步走出芯片依赖进口的困境。根据市场研究公司IC Insights发布的2017年全球十大IC设计公司排行榜中,华为海思排名第七,比上年营收增长21%;紫光展锐排名第十,同比增加9%。


中科院微电子所所长叶甜春打了个比方,如果把集成电路产业比作金字塔,过去中国连底座都不全,如今高度虽然还和发达国家有差距,但底座已经建立起来,形成了集团军,整个产业有自身发展的能力和后劲。


投资过热与人才缺口


看似繁荣的场景并没有让芯片从业者感到轻松。


一个原因是人才缺口。


“即使是清华大学微电子所毕业的学生都会转金融或从事互联网。做芯片很辛苦,来钱没那么容易”。地平线芯片一位内部人士此前对第一财经记者表示,做芯片等硬件太苦,收益不高,不少优秀学生毕业后选择金融和互联网业。


中国科学技术大学特聘教授、核高基专家陈军宁表示,中国半导体行业的发展速度很快,进步也很快,但总体水平处于中低端。人才作为该行业发展的第一资源,对于产业的发展起着至关重要的作用。他称,“根据国家的产业推进纲要,预计到2030年,我国将需要70万人,这个缺口还有40万。”


另一个原因是对投资过热的隐忧。


地方希望通过项目投资聚集产业,拉动GDP;一些投资人和创业者将此看作一风口,但也有业内人士认为,芯片行业的热闹只是暂时的。


中国工程院院士许居衍近日在一场行业论坛上表示,目前半导体产业实际存在着无效益的繁荣、产品(硬件)难度增大、产品研发费用增高盈利空间下降等三大问题,中国厂商想要突围首先需要反思盈利模式,开启基于硬件的软服务能力,同时提升半定制技术能力。


芯片产业链包括设计、制造和封测。在设计和封测领域,中国与美国等先进企业差距已经逐步缩小。目前,中国有近1400家左右的设计企业,但在芯片设计公司“遍地开花”背后,却隐藏着“整体实力不强”的尴尬,和美国头部芯片企业超过80%的份额相比,我国前十大集成电路设计企业的销售额占比刚刚超过30%。


一名半导体产业人士表示,过热的资本开始干扰到正常的产业投资规律,现在各地的芯片项目未来可能会造成地方沉重的财务负担,依靠借贷来发展半导体的模式能够支撑多久,都是未知数。另一方面,快速投产下的芯片成品是否满足市场需求,低端产品如何盈利,如何解决人才缺口以及研发费用?这些都有待解答。


紫光集团联席总裁刁石京此前对媒体表示,各地争相上马相关项目,如果缺乏有效的统筹,可能会形成恶性竞争。他指出,鼓励市场竞争,但不应一哄而上,最终伤害整个产业。因为集成电路投入非常大,需要技术和人才等多方面的积累。


“集成电路产业从来就不是赚快钱的产业。”北京盛世宏明投资基金管理有限公司高级副总裁罗栋表示,做产业投资还是应该回归到产业本身的发展规律。


弯道超车?


随着新兴产业、技术和产品不断涌现,大数据、云计算、5G通信、人工智能等技术也为芯片提供了巨大的市场。


在中国电子信息产业发展研究院发布《2018年中国集成电路上半年形势分析和下半年的走势判断》中,半导体市场需求依然旺盛,市场的驱动力分化。5G即将到来,5G成为2018年上半年各家企业的关注重点。3月,海思发布全球首款5G芯片“Balong 5G01”;6月,紫光展锐宣布5G芯片将在2019年实现商用。虽然在虚拟货币市场,矿机芯片需求下滑;同时,人工智能概念火爆,AI芯片企业估值大涨。此外,数据中心建设加速,存储器需求主力转变,2018年服务器存储市场增速超过智能手机存储市场,成为全球存储器应用市场增长的主动力。


在CPU、GPU等高端芯片与国际差距较大的情况下,不少人期待通过AI芯片,中国能实现弯道超车,但一些业内人士对此持质疑态度。


“人工智能的发展将带来近百亿美元芯片市场需求。”工信部赛迪研究院赛迪顾问副总裁李珂称。


从去年下半年到今年上半年,不仅国内BAT纷纷布局这一领域,也诞生了寒武纪、地平线等AI芯片公司。一些AI初创企业通过一轮轮融资获得资金后,也纷纷发布自己的AI专用芯片。仅仅最近两三个月,就有多家公司发布AI芯片或模组,云知声推出物联网AI芯片及解决方案;出门问问正式发布了AI语音芯片模组“问芯”;Rokid发布KAMINO18AI语音专用芯片;思必驰也宣布将在下半年推出AI芯片……


AI芯片公司估值也一路飙升。6月20日,寒武纪科技宣布完成B轮融资,公司估值达到25亿美元。深鉴科技估值超过10亿美元。


杭州国芯AI事业部总经理凌云对第一财经记者表示,对于中国而言,AI芯片是一个突破口。在这一领域,中国公司介入较早,改变了此前大部分时候中国芯片追着美国人跑的局面。


这是一个全新的领域和机会,但也有人泼了冷水。


此前,丁文武在上海的一场行业论坛上表示:“中国芯片行业弯道超车的策略不现实,弯道超车的前提是大家在同一起跑线上。”


安芯投资管理有限责任公司常务副总裁王永刚表达了类似的观点,称“这(芯片)一块还是要务实,盖楼一块砖一块砖地砌起来。”


而在Imagination Technologies副总裁、中国区总经理刘国军看来,现在的先进技术都是全球化的运用,不存在谁战胜谁的问题。中国有应用和数据的优势,“可以快速获得运用数据的学习、训练。在美国,数据没有那么容易(获取),本身也没有大的应用场景。但是人工智能不管是哪个领域,(西方的)基础研究比我们深得多。”


在不久前的一次公开场合上,经济学家许小年在谈到企业的技术升级时说,我们追逐新名词,发明新名词的速度,远远快于我们能做到的。“我最反感的一句话就是跨越式发展、弯道超车。我看了多少弯道翻车,我没看到过弯道超车。不老实,投机取巧,这是我们很多企业的毛病。”


来源:第一财经


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