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湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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探讨安防监控和芯片行业近年来发展情况

时间: 2018-09-04
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关于政协十三届全国委员会第一次会议第3208号(财税金融类287号)提案答复的函


《关于支持具有自主知识产权的信息安全和公共安全领域的企业利用资本市场进行发展的提案》收悉。经认真研究并商公安部、工业和信息化部,现答复如下:


一、安防监控和芯片行业近年来发展相关情况


安防监控和芯片产业是关系到国家安全和公共安全的核心产业。随着自主创新国家战略的推进,国家相关部门积极协作,坚决贯彻落实党中央和国务院的战略部署,高度重视具有自主知识产权、符合条件的信息安全和公共安全领域的企业的发展,在产业发展和金融扶持方面给予大力支持,我国安防监控及芯片产业近年发展较为明显。


探讨安防监控和芯片行业近年来发展情况


(一)大力推进我国公共安全视频监控系统建设


公共安全视频监控建设联网应用,是新形势下维护国家安全和社会稳定、预防和打击暴力恐怖犯罪的重要手段,对于提升城乡管理水平和社会治理能力现代化具有重要意义。近年来,我国大力推进公共安全视频监控系统建设。目前政府各部门建设的摄像机超过3000多万台,形成了世界上最大的一张图像传感网。在推进我国公共安全视频监控工作的过程中,最成功的一条经验就是依据具有国内自主知识产权的标准。我国自主知识产权的《公共安全视频监控数字视音频编解码技术要求》(GB/T25724,简称SVAC标准),在公共安全视频监控建设联网应用中处于重要地位,能够全面支持国密算法、加强图像智能化、提升压缩效能和编码效率、支撑大数据等应用方面的功能。工信部、国标委、公安部等部门积极协作,积极推动SVAC标准产业化、配套标准制定以及SVAC标准在相关行业的推动应用,支持广东省开展SVAC国家标准先行示范。目前,我国众多省市采用SVAC标准建设和正在启动的项目有数百个,涉及平安城市、智能交通、监狱、教育、商业地产、园区监控等多个行业领域,一大批试点示范及重点项目均得到成功应用,取得良好的经济效益和社会效益。


(二)积极支持集成电路产业创新发展


一是组织实施“芯火”创新行动,支持集成电路产业创新发展,推动有基础的产业集聚区建立创新资源集聚、产业者培育、创新成果推广应用、创新企业孵化等“双创”平台,支持信息技术双创工作,打造智能新生态。推进电子信息领域制造业创新中心建设,加快共性关键技术研发,推动工程型人才培养,增强产业可持续发展能力。二是通过国家集成电路产业投资基金扶持国内集成电路企业成长壮大,推动产业跨越式发展。截止2017年底,国家基金累计决策67个项目,涉及49家企业,承诺投资约1188亿元,实际出资约848亿元。同时,国家基金充分发挥引导与杠杆作用,推动北京、上海、湖北等地设立地方性基金,引导各类社会资本加大投资力度。


(三)推进资本市场制度创新,支持安防监控和芯片行业企业做大做强


近年来,证监会坚决贯彻落实党中央、国务院的决策部署,稳步推进资本市场改革,不断拓宽资本市场覆盖面。2016年以来,证监会坚决落实依法全面从严监管要求,健全市场约束机制,优化审核流程,实现新股发行常态化,审核周期大幅缩短;支持优秀企业通过并购重组做大做强,创新公司债券品种,助力供给侧改革,提升资本市场服务实体经济的能力。


1、截止2018年6月末,安防监控产业和芯片产业A股上市公司数量分别为38家和50家。2017年,分别有4家安防监控行业公司、10家芯片产业公司通过IPO和再融资在资本市场融资,合计募集资金分别约为9.26亿元、39.37亿元。2018年1至6月,共有4家安防监控行业、6家芯片产业上市公司实施再融资,合计募集资金分别为23.5亿元、38.8亿元。


2、2016年、2017年,包括芯片、安防在内的电子产业企业分别发行公司债券219亿元和193亿元。2017年9月,证监会发布《关于开展创新创业公司债券试点的指导意见》,按照《国务院关于加快培育和发展战略新兴产业的决定》《中国制造2025》等相关规划要求,进一步加大对芯片等关键领域创新企业的支持力度。截至目前共发行创新创业债券65亿元。


3、2017年,互联网安全行业领先企业“360科技”通过重组上市回归并登陆A股市场,实现科技优势与资本优势充分融合。华灿光电收购MEMSIC及下属美新半导体,通富微电收购美国AMD半导体公司下属封装测试工厂通富超威苏州、通富超威槟城,提升技术吸收转化能力,助推自主创新。


4、2018年3月,证监会发布《关于开展创新企业境内发行股票或存托凭证试点的若干意见》(以下简称《若干意见》),针对符合国家战略、具有核心竞争力、市场认可度高、属于互联网、大数据、云计算、人工智能、高端装备制造、集成电路、生物医药等高新技术产业和战略性新兴产业,达到相当规模的创新企业,支持其在境内发行股票或存托凭证。为配合《若干意见》的实施,证监会制定了一系列的配套制度安排。


(四)加强部际协调,深入落实制造强国和网络强国战略


为更好地支持包括自主创新的安防监控和芯片产业企业发展,2017年9月,工业和信息化部与证监会签署《工业和信息化部中国证券监督管理委员会战略合作协议》,协议以资本市场提升服务实体经济能力为主线,以促进改革协调为重点,提出了4个方面、19条合作事项,正式建立两部委的工作协调机制。协议旨在通过健全多层次市场体系、加大股债权融资力度、支持并购重组等政策措施,更好地发挥资本市场功能,服务制造强国和网络强国战略,服务含拥有自主知识产权的重点安防监控企业和芯片企业等在内的各类实体经济企业,促进金融与产业良性互动、协同发展,目前,各项合作内容正在稳步推进。


二、下一步工作安排


党的十九大报告提出,要加快建设创新型国家,坚持总体国家安全观和完善国家安全制度体系,提升国家安全和公共安全。落实十九大报告精神,保障国家安全和国民安全,关键之一就是培育具有自主知识产权的安防监控企业和芯片产业企业。下一步,国家相关部门将继续坚定不移贯彻国家战略,继续支持符合条件的安防监控和芯片产业企业发展,为国家安全战略和现代化国家建设战略的实施保驾护航。


1、进一步完善部际工作协调机制、加强信息交流共享,强化业务对接,稳步推进实施协调机制,确保各项合作落地生根,助力产业集群形成,促进经济增长方式和增长动能的转换,为尽早形成具有我国自主知识产权的视频监控和芯片产业链发挥应有的作用,切实解决行业产业链不够完善、产业支撑力度不足、核心芯片来源不足的突出问题,全面建设社会主义现代化国家。


2、加大对集成电路设计企业的支持力度,积极推动国家基金对集成电路设计企业的支持力度,提升设计环节的投入比例。不断创新方式、方法,优化资源配置,加大协同创新力度,探索揭榜挂帅机制,吸引海外高层次人才回国创新创业。继续推进电子信息领域制造业创新中心等机构建设,抓紧“芯火”双创平台的组织工作,助力企业快速成长,逐步建立和完善产业生态体系,推动芯片产业跨越式发展。


3、持续推动资本市场改革,提高直接融资比重,支持助力实体经济发展的质量变革、效率变革、动力变革。一是继续保持新股发行常态化,提高审核效率和透明度,支持符合条件的安防监控和芯片产业企业上市融资;稳步推进创新企业境内发行股票或存托凭证试点的工作,进一步完善配套制度和监管规则,保障试点工作依法合规进行,促使已在境外上市的优秀企业回归境内资本市场,增强资本市场的包容性,把优秀企业留在境内。二是持续推进并购重组市场化改革,扎实开展“简政放权”和“放管服”改革,支持信息安全和公共安全领域企业利用资本市场实现创新发展,服务实体经济的供给侧改革。三是继续稳步发展公司债券市场,拓宽实体企业融资渠道,继续支持符合条件的芯片、安防等电子产业企业发债融资。

来源:电子发烧友


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