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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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这项技术,中国半导体企业不再是跟随者!

时间: 2018-09-17
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“屏下光学指纹识别技术,是由中国企业抢在苹果、三星之前商用成功的,其过程的辛苦不为人知。我们历经了5年的摸索,中间也有人曾质疑过这项技术是做不到的。做到业界首例对汇顶来说也是一个质的转变,这场仗打下来,大家的信心已完全不同。这也是中国半导体产业的进步,今后大家会更有胆识和信心去创新。”

近日在汇顶科技(Goodix)举办的一场媒体沟通会上,汇顶科技首席技术官(CTO)皮波博士发出这样的感慨。

卧薪尝胆一年,拯救手机界对屏下指纹的信心

上半年,Android阵营指纹识别方案全球第一供应商的汇顶科技,经历了近几年来营利最严重的一次下滑。主要原因是下游手机市场增幅下滑,电容指纹识别市场饱和,3D人脸识别距离量产成熟还有一定距离……但他们这一年对研发的大力投入,却让屏下光学指纹技术成功规模商用,2019年整个终端市场预期出货量达1亿台。

“400多人的研发团队连续几个月工作到深夜三、四点,甚至睡在实验室,我们的工程师大多是80后,他们非常有理想、热情和能力。” 汇顶科技董事长张帆在媒体面前毫不吝惜对研发团队赞美之词,“公司将对他们实施新一轮股权激励,年终奖会有倾斜,公司还会推出特别现金奖给光学团队。”

汇顶5年前开始研究屏下光学指纹,中间做过两代产品,2017年还在MWC展示了DEMO机,但当时觉得成熟度还不够,没有推向市场。然而就在一年前,苹果新机iPhone X采用3D人脸识别后,国内手机业界一度对屏下指纹失去信心,但经过一年的市场验证,vivo来说从年初至今已发布4款搭载屏下光学指纹识别技术的机型,华为、小米的旗舰机型也采用了汇顶方案……

这项技术,中国半导体企业不再是跟随者!

汇顶公司内部的专利墙,其中屏下光学指纹已经申请、获得国际、国内专利270多项

光学 Vs 超声波

目前屏下指纹识别技术主要有超声波和光学两种,目前哪种更具优势呢?汇顶科技生物识别产品开发部副总裁叶金春认为,过去屏下光学指纹的主要瓶颈在于强光环境下的干扰、干手指(有些人天生皮肤干)以及低温环境下的障碍,这些问题汇顶已基本克服。

现在无论是在综合性能上还是成本上,屏下光学都有着优势,主要表现在以下三点:

1、屏下光学的综合体验无论是从识别率还是解锁速度,都已经接近电容指纹识别方案,平均解锁速度可达 0.35秒,并且还有进步空间;

2、屏下光学可以适用于OLED软、硬屏,而超声波不能用于硬屏;

3、汇顶屏下光学做到了屏体分离,不需要像超声波方案那样贴合到屏上,这大大减轻了商用难度,降低了生产和维修成本,非常受终端厂商欢迎。

此外,由于超声波指纹识别是一个全新的技术,目前还没有看到成功商用案例。而且需要全新产线,千万级的出货对于超声波来说可能会是一个大挑战,而屏下光学用的则是完全成熟的产业链。汇顶科技首席财务官(CFO)陈恒真女士表示,目前汇顶的屏下光学方案成本已经做到了8美金以下。

“这一点从手机厂商的选择就能看出,他们会对产品体验做严格的评估,以满足消费者的要求,”皮波博士补充到, “以目前手机厂商的评估和消费者大数据反馈来说,大家都已经对屏下光学指纹有了充分的信心。”

一切为了客户

对于业界比较期待的一些新技术,比如LCD屏下指纹识别、全屏指纹识别等,皮波博士表示,LCD做屏下指纹困难巨大,目前没有明确的办法,但汇顶有信心克服。OLED屏比LCD贵20块美金左右,所以做LCD方案在成本上能够更放开手去做。因为涉及到客户,皮波博士没有透露具体时间。

而全屏指纹识别,或者说多区域屏下识别,技术上都能实现,但成本肯定会更高,全屏指纹识别手机也会卖的更贵。因此手机厂商会从各方面去考量,消费者是否真的期待这项功能,并且能接受价格。

另一个例子是汇顶的全球首创活体指纹识别技术(Live Finger Detection™),将指纹和心率检测集成在一起,能够提供更高的移动支付安全性,这项技术两年前已经实现,并已成功商用于中兴、魅族等品牌的旗舰机型。

“所以说一切新技术能否商用,都是由市场和消费者决定的,”皮波博士补充道,“我们的最终目的是满足客户需求。”

汇顶的屏下光学指纹方案是目前出货量最大、商用机型最多的,CIS采用0.18微米工艺,与多家Foundry都有合作,与下游模组厂也密切合作,力保供应稳定。

3D人脸识别

iPhone X推出后,3D人脸识别并不受用户欢迎,大家普遍想掌握认证的过程,目前根据对生物识别技术的调查,最受欢迎的还是指纹。

因此业界认为多重生物识别组合才是最被认可的手机加密方式,很多手机厂商也将采用“屏下光学指纹+人脸识别”的方案。此前董事长张帆在接受媒体采访时,也表示公司正在研发3D结构光和TOF,并且最快将于今年年底发布第一代产品。

皮波博士认为,未来多生物识别的方案是大趋势,汇顶将为客户提供更多选择。针对目前客户对3D人脸识别反映的“成本高、识别率低、功率消耗大”等问题,汇顶方案都会有所改进。

布局物联网领域

面对600亿台终端的庞大市场,汇顶也在积极布局物联网(IoT)。据介绍,汇顶在美国已经有一个射频(RF)研发团队,日前还收购了一家做协议栈技术的德国公司,这构成了汇顶IoT的核心技术团队。

叶金春表示,汇顶会在IoT领域聚焦终端节点和边缘计算部分,包括:

1、传感器(满足数据感知需求)

2、低功耗无线(满足短距离数据传输需求)

3、MCU的边缘计算

4、安全加密(满足数据安全需求,安全会是未来一个重要考量)。

最后,皮波博士表示,过去电容触控、指纹识别我们是慢慢追赶别人,这一次屏下光学指纹则是名副其实的第一名。当前,中国终端品牌已经越来越了解消费者需求,他们在做产品创新时也更加自信。先入为王,希望中国科技公司更多地进行一线创新,争当先行者(First Mover),而不是国外厂商的跟随者(Follower)。

来源:电工工程专辑



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