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发布时间: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造领域,湿法设备占据约40%以上的工艺,随着工艺技术的不断发展,湿法设备已经成为LED外延及芯片制造领域的关键设备,如SPM酸清洗、有机清洗、显影、去胶、ITO蚀刻、BOE蚀刻、PSS高温侧腐、下蜡、匀胶、甩干、掩膜版清洗等。南通华林科纳CSE深入研究LED生产工艺,现已形成可满足LED产业化项目需求的全自动湿法工艺标准成套设备。 LED 芯片的制造工艺流程为:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P 极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。 CSE-外延片清洗机设备 设备名称南通华林科纳CSE-外延片清洗机设备可处理晶圆尺寸2”-12”可处理晶圆材料硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓、碳化硅、铌酸锂、钽酸锂等应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等专有技术系统洁净性技术均匀性技术晶圆片N2干燥技术模块化系统集成技术自动传输及精确控制技术溶液温度、流量和压力的精确控制技术主要技术特点系统结构紧凑、安全腔体独立密封,具有多种功能可实现晶圆干进干出采用工控机控制,功能强大,操作简便可根据用户要求提供个性化解决方案设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体行业相关清洗设备解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
旋转式喷镀台结合微组装工艺对镀制工艺的小批量、多规格和特殊应用要求等特点,在6" (150mm)晶圆电镀系统中采用了倾斜式旋转喷镀技术倾斜式旋转喷镀单元分由两个部分组成,一为阴极夹具、旋转单元、导线电刷、N2 保护单元组成的阴极回转体,二为三角形槽体、阳极和电力线挡板组成的阳极腔。倾斜旋转喷镀结构示意图如下:从镀制结构方式、镀制工艺应用分析可以看出,采用倾斜式旋转喷镀有以下几种优势。一是这种结构方式易实现槽体密封和附加N2 保护功能。二是在这种镀制工艺中,阴极的旋转运动使槽内电场不均问题得以解决,从而提高了镀制的均匀性。三是呈45°倾斜加阴极旋转的方式,可以较容易的祛除晶圆表面的气泡附着及“产生”气泡的消除。四是采用了多微孔进行镀液喷射,实现搅拌功能,消除局部PH值、温度、离子浓度等不均匀带来的影响。五是采用三角形镀槽设计最大限度的减少了镀液的消耗。六是该镀制结构方式可以满足多品种、小批量、低成本的生产需求。倾斜旋转喷镀技术、工艺优势斜式三角镀槽结构本系统采用倾斜式三角形镀槽结构,镀槽入口溢流口均与三角形斜边平行,可得到稳定且不易积累气泡的流场环境。通过进行相关模拟、仿真和验证,镀液入口采用扇形喷咀式结构,可保证镀液在平行于阴极表面方向上形成均匀而稳定的流场。从而通过改变流场的方法改善了镀层的均匀性。该结构的另一优点可使电镀液的用量减至最少程度。 南通华林科纳CSE采用倾斜旋转喷镀方法进行晶圆电镀工艺处理,由于结构上的特点,该方法经实验验证具有:①结构简单;②工艺参数控制容易;③有利气泡的消除;④镀制均匀性得到提高;⑤镀制溶液用量少。该方法尤其适应于小批量、多规格的电镀工艺,同时可以取得较好的镀制均匀性。图6为我们所研制的150mm晶圆倾斜旋转喷镀系统,目前已批量生产并在工艺线上得到较好的应用,产品已通过技术定型鉴定和用户验收。实现的主要工艺指标:最大晶...
发布时间: 2016 - 06 - 22
双腔甩干机1. 应用范围:l 本機台適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 设备為垂直式雙槽體機台,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 图示 4. 規格l 機台內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
发布时间: 2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2018 - 01 - 23
单片清洗机-华林科纳CSESingle wafer cleaner system南通华林科纳CSE-自动单片式腐蚀清洗机应用于清洗(包括光刻板清洗)刻蚀 去胶 金属剥离等;可处理晶圆尺寸2'-12';可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等;主要应用领域:集成电路   声表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先进封装等  设 备 名 称CSE-单片清洗机类  型单片式适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸设备稳定性1、≥0.2um颗粒少于10颗2、金属附着量:3E10 atoms/ cm²3、纯水消耗量:1L/min/片4、蚀刻均一性良好(SiO₂氧化膜被稀释HF处理):≤2%5、干燥时间:≤20S6、药液回收率:>95%单片式优点1、单片处理时间短(相较于槽式清洗机)2、节约成本(药液循环利用,消耗量远低于槽式)3、良品率高4、有效避免边缘再附着5、立体层叠式结构,占地面积小 更多的单片(枚叶)式清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096,18913575037
发布时间: 2017 - 12 - 06
氢氟酸HF自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-氢氟酸供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式 设备名称南通华林科纳CSE-氢氟酸(HF)供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在...
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绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

时间: 2018-09-17
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9月15日,2018中国(绍兴)首届集成电路产业高峰论坛在绍兴市越城区召开,本次论坛以“融入大湾区,打造‘芯’高地”为主题,集中交流探讨新时期下集成电路产业创新机遇与挑战,把脉未来市场热点与应用,共商绍兴集成电路产业发展大计。

浙江省人民政府副省长高兴夫、工信部电子信息司副司长吴胜武、市委书记马卫光、浙江省半导体行业协会理事长严晓浪、国家集成电路产业投资基金股份有限公司副总裁张春生等致辞,市委副书记、市长盛阅春主持。包括中科院院士杨德仁在内的约200位集成电路产业的专家学者、领军企业代表金融及投资服务机构代表,集成电路专业媒体代表等参加了此次会议。

绍兴集成电路发展早,列入大湾区打造芯高地

绍兴市集成电路的发展起始于华越微电子有限公司(原八七一厂)落户绍兴。八七一厂为原国家集成电路重点发展的五大支柱企业,八七一厂的到来为绍兴带来了当时集成电路产业最前沿的技术,营造了良好的氛围。随后,浙江华越芯装电子股份有限公司、绍兴光大芯业微电子有限公司、绍兴芯谷科技有限公司等一批集成电路产业企业先后成立。

目前,绍兴集成电路产业链已基本完善,涵盖了设计、制造、封装测试、设备等多个领域。据统计,绍兴市共有集成电路产业企业13家,已初具规模,总投资58.8亿元的中芯国际也选择落户绍兴越城,目前已开工建设。2016年,全市集成电路产业主营业务收入13.8亿元,利润总额2.4亿元;2017年,主营业务收入达25亿元,同比增长81.2%;完成利润总额3.81亿元,同比增长59.1%。起步早、基础实、后劲足,绍兴集成电路蓄势待发,已成为绍兴成长性最强的新兴产业之一。

大湾区时代的到来,给绍兴集成电路的发展带来难得机遇。绍兴地处杭州湾南岸,与国家集成电路产业设计基地杭州毗邻,与全国集成电路设计中心上海仅一桥之隔。今年5月底,绍兴滨海新区被列为杭州湾大湾区四大新区之一。6月3日,绍兴发展大会进一步明确绍兴滨海新区的“四片区”,越城片区被定义为“着力打造以集成电路、新一代信息技术为特色的信息高技术产业发展分区”。

论坛上,中共越城区委书记、区长金晓明发布了绍兴集成电路小镇规划,将以集成电路产业为主导,着重引进集成电路设计-制造-封装-测试-装备等全产业链项目形成产业集群,计划通过三到五年努力,到2022年末形成200亿产值,到2025年形成500亿产值,成为国家级集成电路产业园示范区,目前正全力规划建设集成电路小镇。

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

近期,越城区正全力跟进集成电路相关产业项目13个,所涉项目计划总投资超200亿元,意向用地1413亩。在本次论坛集中签约活动上,该区与绍兴集成电路小镇创新综合体项目、新华越IPT项目、北斗导航产业园项目、吉姆西半导体设备项目等8个项目集中签约,协议总投资超150亿元,主要涉及集成电路设计、制造、封装、综合运营、产业基金等领域。

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

现场热议集成电路的趋势与机会

由芯谋市场信息咨询首席分析师顾文军主持了此次会议的主题演讲环节,作为活动的协办方,顾文军表示,绍兴无论从地理位置、产业基础还是政策措施等方面都具备突出的优势,芯谋为绍兴的集成电路发展也提供了专业的规划建议并协助引入企业,相信在集成电路小镇规划出台后必将吸引一批集成电路企业来绍兴落户。

致象尔微电子创始人兼CEO方之煕,中芯国际(绍兴)董事长高永岗、Mentor中国区总经理凌琳、深迪半导体(上海)有限公司创始人/总裁邹波、上创新微总经理秦曦、中科汉天下创始人兼董事长杨清华等业内大咖分享了今后晶圆制造的建厂经营策略、硅基集成电路的生命周期,以及如何为物联网的颠覆式发展做准备,还有半导体协同创新、MEMS智能传感器以及5G到来射频芯片的机会等主题。

致象尔微方之煕分析,每10-15年左右运算平台出现一次变革,新的IT产业链、商业模式、服务模式和技术产品将诞生。回看PC/服务器时代的以X86架构为主导,智能手机时代的ARM,他提出物联网时代开源的RISC-V是否能够成为主流,中国是否有机会呢。他表示致象尔微的规划是2022年起引领IOT上RISC-V架构,全面竞争ARM市场。致象物联网芯片也将由消费类电子向工业控制、汽车电子类转移。

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

绍兴地理位置优越,能够成为中芯国际布局长三角的一个重点据点,同时绍兴市和越城区两级政府在发展集成电路产业方面坚定的决心和高效的执行力,使得中芯国际落户绍兴,在签资合同签署后,8天完成公司设立手续,78后项目开工奠基。工厂建成后,将主要打造8寸线特色工艺,主要覆盖功率器件、MEMS等的生产制造。高永岗表示特色工艺产线的投资一般为100亿人民币左右, 中芯绍兴第一期约为50-60亿,第二期实现共100亿元投资。制造企业一定要在投资与获利能力之间找到平衡。

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

Mentor中国区总经理凌琳分析说,在2015、2016年全球IC收入增长仅为0.4%,2017年由于MOS存储器的高速增长拉抬IC实现22%的增长,预计2018年的增速将回落但仍然增长。并且,实际的并购行动大幅减少,几项大型并购最后并未通过,例如博通收购高通、高通收购NXP。2017年半导体研发经费增长9.8%,高于前三年,谷歌、亚马逊、FACEBOOK、博世等纷纷开始自研芯片,中国投资正从制造业转向设计,人工智能、机器学习、加密数字货、高速通讯等领域成为投资热门。

绍兴重磅发布集成电路规划,中芯国际、韦尔半导体等陆续签约落户

这些特定领域体系结构需要新的设计方法和工具,Mentor作为EDA公司将助力IC设计企业实现产品的低功耗、高性能、低成本并减少设计时间和设计成本。根据总晶体管Compertz曲线,直到2040年前需要替代硅晶体管,距离今天还有20多年时间,特定域架构和学习曲线将持续实现下一波增长。

来源:国际电子商情网



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