湿法制程整体解决方案提供商
IPA干燥设备-华林科纳CSE
华林科纳（江苏）CSE-IPA干燥设备主要用于材料加工 太阳能电池片 分立器件 GPP等行业中晶片的冲洗干燥工艺，单台产量大，效率高
设备名称
华林科纳（江苏）CSE-IPA干燥设备
应用范围
适用于2-8”圆片及方片
动平衡精度高
规格
工艺时间： 一般< 10 分钟，受所选工艺菜单而变化
亲水性晶圆片： ≤10 增加 @ 0.12 μm
疏水性晶圆片： ≤30 增加 @ 0.12 μm
金属含量： 任何金属≤ 1•1010 atoms / cm2 增加
干燥斑点： 干燥后无斑点
IPA 消耗量： ≤ 30 ml / run
设备制造商
华林科纳（江苏）半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ；18913575037
IPA 干燥系统组成:
IPA干燥工艺原理 01:
IPA干燥工艺原理 02:
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IPA 干燥系统
适用于最大尺寸300mm晶圆的干燥技术
优点
NID™干燥系统利用IPA和N2雾化分配，以及晶圆与水脱离时形成了表面张力干燥的技术
●可单台设备或整合在湿法设备中
●最佳的占地
●成熟的工艺
●无水迹
●无碎片
特征和优点
应用
抛光片、集成电路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片
一般特征
●可同时干燥25到50片直径最大为300mm的晶圆
●适用于标准高边或低边花篮