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Products 产品详情
产品名称:

晶圆清洗机-CSE

上市日期: 2018-09-19

晶圆清洗机-CSE

晶圆清洗机


设备名称:晶圆清洗机-CSE


产品特点

• 针对21英寸外径或15x15英寸的基底

• 巨声环境清洗舱(可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气)

• 化学注射臂

• 带化学喷射的可变速清洗刷

• 触屏用户界面

• 手动上下载

• 安全锁和报警器

• 占地尺寸30”D x 26”W 


可选配项

• 化学试剂传送单元

• 白骨化清洗

• 臭氧发生器

• 氢化双氧水发生器

• 高压双氧单元

• 硫酸氢过氧化物

• 红外加热

• 双氧水循环装置

• 机械手上下载单元

• 带EFEM和SMIF界面的 集群系统



清洗功能

• 晶圆片

• 蓝宝石外延片

• 晶圆框架上的芯片

• 显示面板

• ITO膜显示材料

• 有图形掩膜和无图形掩膜

• 掩膜坯料

• 薄膜式掩膜

• 接触式掩膜

光刻处理工艺

• SPM剥离

• 光刻胶涂膜

• 光刻胶剥离工艺

刻蚀• 金属刻蚀(铝,铜,铬,钛)
白骨化清洗

• 在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液

• 红外加热

• 刷洗

• 兆声双氧水清洗

• 热氮和甩干

去胶/剥离工艺

• 带红外加热的NMP滴胶

• 刷洗

• 兆声双氧水清洗

• 热氮和甩干

CMP溶液清洗

• 用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒

• 化学喷射臂

• 化学喷射罐

• 为前面和背面刷洗设计的特殊托盘

• 可调速的PVA清洗刷

• 可调的清洗刷/晶圆接触压力

• 刷式化学喷射

带膜/不带膜式掩膜清洗

• 全套清洗(无需更换保护膜)

• 全保护膜

• 膜式掩膜清洗工艺

 1)  掩膜背面清洗后

 兆声双氧水清洗

 刷式清洗

 化学清洗

 热氮甩干

 2)热氮甩干




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