欢迎访问南通华林科纳半导体设备技术有限公司官网
手机网站

湿制程设备制造商


--- 全国服务热线 --- 400-8768-096
华林科纳产品分类 Products
0513-87733829
联系电话
联系我们
扫一扫
QQ客服
SKYPE客服
旺旺客服
新浪微博
分享到豆瓣
Products 产品详情
产品名称:

石英管道清洗机设备-CSE

上市日期: 2016-12-05

 

管道清洗机设备—华林科纳CSE

半自动石英管清洗设备适用于卧式或立式石英管清洗

34.jpg


优点

石英管清洗:卧式—标准/立式—选项

> 先进的图形化界面

> 极高的生产效率

> 最佳的占地

> 结合最先进工艺技术

> 优越的可靠性

> 独特的模块化结构

> 极其便于维修

35.png



 应用

> 清洗不同尺寸的石英管

36.jpg


一般特征

> 可编程使得清洗管旋转,清洗更干净

> PVDF工艺槽

> 装有清洗溶剂的储备槽(根据使用化学品的数量)放置在工艺槽的后下方 — 直接注入且内 部进行不断循环

> 特别的喷淋嘴更益于石英管清洗

> 集成水枪和N2抢

> 单独排液系统

> 安全盖子

> 易于操作和控制

> 节约用酸系统

> 全自动的清洗工艺步骤

> 备件

> 经济实惠的PP外壳材料—标准


更多的石英管道清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。 

 

1、设备概况:

主要功能:本设备主要采用手动搬运方式,通过对扩散、外延等设备的石英管、碳化硅管腐蚀、漂洗等方式进行处理,从而达到一个用户要求的清洗效果。主体采用德国劳士领 瓷白PP板,骨架采用不锈钢 外包PP 防腐板;

设备名称:半自动石英管清洗机

设备型号:CSE-SC-N401

整机尺寸(参考):4500mm*1500mm*2100mm;

被清洗炉管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物

设备形式:室内放置型;

节拍:约1--12小时(节拍可调根据实际工艺时间而定)

操作形式:半自动

2、设备描述

此装置是一个半自动的处理设备。

PROFACE 8.0英寸大型触摸屏显示 /检测 /操作

清洗工作过程由三菱 / 欧姆龙PLC控制。

3、设备特点:

腐蚀漂洗能力强,稳定,安全;

设备成合理,自动程度高,使成本低;

技术先进,结构合理,宜生产线上大批次操作;

结合华林科纳公司全体同仁之力,年品质保障,使其各分远远领先同类产品;

设备上层电器控制系统及抽风系统,中层工作区,下层为管道安装维修区,主体结构由清洗机主体、酸洗槽、水清洗槽、防漏盘、抽风系统、工件滚动系统、氮气鼓泡系统、支撑及旋转驱动机构、管路部分、电控部分。

本设备装有双防漏盘结构,并有防漏检测报警系统,在整台设备的底部装有接液盘。

设备配有在槽体下方配有倾斜式防漏层。

4、工艺流程:

检查水、电、气正常→启动电源→人工上料→注酸→槽体底部氮气鼓泡→石英管转动(7/min)→进入酸泡程序→自动排酸(到储酸箱)→槽体底部自动注水(同时气动碟阀关闭)→悬浮颗粒物经过溢流坝流出→排水碟阀打开(重颗粒杂质排出)→初级洁净水经过溢流坝溢出→清洗次数重复循环(人工控制)→下料。 

酸洗和水洗在同一槽内完成

1#2#可通过循环泵循环使用

5、设备可靠性保障措施:

系统结构采用国外典型处理方法,保证系统结构的合理性和适应性;

结构采用洁净化处理技术,可达到国外同类产品水平;

采用国外引进元器件及专业厂家产品;

国产元器件采用国内专业厂家生产和经证实质量优质的高性能元件;

设计、生产、制造采用 ISO9001 和军工质量管理体系保证;

设备的生产加工除下料、焊接在普通厂房内进行外,装配、调试等工序都在万级超净间内进行;

所有零部件在进入万级超净间前均进行清洗;

设备出厂前都经过严格的渗漏检查;

 

Hot Products / 热卖产品 More
2016 - 03 - 07
枚叶式清洗机-华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长:单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)(参考)槽式200个/W2.药液纯水的消费量少药液…(例)1%DHF的情况  20L/日纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分3.小装置size(根据每个客户可以定制) 液体溅射(尘埃强制除去)  (推荐)清洗方法单片式装置的Particle再附着问题   更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
2016 - 03 - 07
自动供酸系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内...
2016 - 03 - 08
IPA干燥设备-华林科纳CSE南通华林科纳CSE-IPA干燥设备主要用于材料加工 太阳能电池片 分立器件 GPP等行业中晶片的冲洗干燥工艺,单台产量大,效率高设备名称南通华林科纳CSE-IPA干燥设备应用范围适用于2-8”圆片及方片动平衡精度高规格工艺时间: 一般亲水性晶圆片: ≤10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圆片: ≤30 增加 @ 0.12 μm金属含量: 任何金属≤ 1•1010 atoms / cm2 增加干燥斑点: 干燥后无斑点IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run 设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037IPA 干燥系统组成: IPA干燥工艺原理 01: ...
2016 - 03 - 07
刻蚀方法分为:干法刻蚀和湿法刻蚀,干法刻蚀是以等离子体进行薄膜刻蚀的技术,一般是借助等离子体中产生的粒子轰击刻蚀区,它是各向异性的刻蚀技术,即在被刻蚀的区域内,各个方向上的刻蚀速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金属以及合金材料采用干法刻蚀技术;湿法刻蚀是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术,这是各向同性的刻蚀方法,利用化学反应过程去除待刻蚀区域的薄膜材料,通常SiO2采用湿法刻蚀技术,有时金属铝也采用湿法刻蚀技术,国内的苏州华林科纳CSE在湿法这块做得比较好。下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程:二氧化硅腐蚀:在二氧化硅硅片腐蚀机中进行,国内腐蚀机做的比较好的有苏州华林科纳(打个广告),腐蚀液是由HF、NH4F、与H2O按一定比例配成的缓冲溶液。腐蚀温度一定时,腐蚀速率取决于腐蚀液的配比和SiO2掺杂情况。掺磷浓度越高,腐蚀越快,掺硼则相反。SiO2腐蚀速率对温度最敏感,温度越高,腐蚀越...
Copyright ©2005 - 2013 南通华林科纳半导体设备有限公司
犀牛云提供企业云服务
南通华林科纳半导体设备有限公司
地址:中国江苏南通如皋城南街道新桃路90号
电话: 400-876- 8096
传真:0513-87733829
邮编:330520
Email:xzl1019@aliyun.com       www.hlkncse.com


X
3

SKYPE 设置

4

阿里旺旺设置

2

MSN设置

5

电话号码管理

  • 0513-87733829
6

二维码管理

8

邮箱管理

展开