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产品名称:

全自动制绒清洗机-CSE

上市日期: 2016-06-29

全自动制绒清洗机设备--CSE

华林科纳(江苏)CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展,致力于“设备+工艺”的研发模式,现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。

生产工艺流程为:预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结

太阳能电池片湿法设备主要技术特点:1.独特的双槽制绒工艺槽设计2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制4.机械传动特殊设计及人性化安全保证5.适应性强的工艺过程控制

全自动制绒清洗机-CSE

产品描述

1)主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理。

2)工艺流程:根据客户需求定制,可处理腐蚀、清洗、超声、加热、干燥、上料 、喷淋 、酸洗漂洗下料等工艺;

3)控制方式:手动或自动

4)材质:根据客户及工艺需求选用,可选PP、PVC、PVDF、石英、不锈钢等材质,保证设备的耐用性;

5)槽体的槽底均为倾斜漏斗式结构,便于清洗和排渣;  

6)设备设有旋转装置使工件达到更好的清洗效果;

7)顶部设有排雾系统结合酸雾塔进行废雾、废水处理避免污染环境;

8)PLC控制人机界面操作显示能根据实际情况更改清洗参数。


更多的太阳能单晶多晶硅片制绒腐蚀清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。

 

太阳能单晶硅制绒腐蚀清洗机设备--CSE

华林科纳(江苏)CSE密切跟踪太阳能光伏行业发展,致力于“设备+工艺”的研发模式,现生产的单多晶制绒设备已经形成了良好的客户基础和市场影响。

生产工艺流程为:预清洗→制绒→扩散→刻蚀→去PSG→PECVD→印刷→烧结

太阳能电池片湿法设备主要技术特点:1.独特的双槽制绒工艺槽设计2.分立式加热系统保证溶液均匀性并降低运营成本3.多通道注入结构实现制绒工艺槽溶液均匀性控制4.机械传动特殊设计及人性化安全保证5.适应性强的工艺过程控制

产品描述

1)主要用于对硅材料行业中多晶硅块进行清洗干燥处理。

2)工艺流程:根据客户需求定制,可处理腐蚀、清洗、超声、加热、干燥、上料 、喷淋 、酸洗漂洗下料等工艺;

3)控制方式:手动或自动

4)材质:根据客户及工艺需求选用,可选PP、PVC、PVDF、石英、不锈钢等材质,保证设备的耐用性;

5)槽体的槽底均为倾斜漏斗式结构,便于清洗和排渣;  

6)设备设有旋转装置使工件达到更好的清洗效果;

7)顶部设有排雾系统结合酸雾塔进行废雾、废水处理避免污染环境;

8)PLC控制人机界面操作显示能根据实际情况更改清洗参数。

 

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自动供酸系统(CDS)-华林科纳(江苏)CSEChemical Dispense System System 华林科纳(江苏)半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称华林科纳(江苏)CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10...
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刻蚀方法分为:干法刻蚀和湿法刻蚀,干法刻蚀是以等离子体进行薄膜刻蚀的技术,一般是借助等离子体中产生的粒子轰击刻蚀区,它是各向异性的刻蚀技术,即在被刻蚀的区域内,各个方向上的刻蚀速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金属以及合金材料采用干法刻蚀技术;湿法刻蚀是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术,这是各向同性的刻蚀方法,利用化学反应过程去除待刻蚀区域的薄膜材料,通常SiO2采用湿法刻蚀技术,有时金属铝也采用湿法刻蚀技术。下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程:二氧化硅腐蚀:在二氧化硅硅片腐蚀机中进行,腐蚀液是由HF、NH4F、与H2O按一定比例配成的缓冲溶液。腐蚀温度一定时,腐蚀速率取决于腐蚀液的配比和SiO2掺杂情况。掺磷浓度越高,腐蚀越快,掺硼则相反。SiO2腐蚀速率对温度最敏感,温度越高,腐蚀越快。具体步骤为:1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂(FUJI FILM DRIWEL)中浸泡1...
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