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枚叶式清洗机-华林科纳CSE

上市日期: 2016-03-07

 

枚叶式清洗机-华林科纳CSE

华林科纳(江苏)半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长

单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)

1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)

例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)

(参考)槽式200个/W

2.药液纯水的消费量少

药液…(例)1%DHF的情况  20L/日

纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分

3.小装置size(根据每个客户可以定制)

24.png


 


液体溅射(尘埃强制除去) 

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(推荐)清洗方法


单片式装置的Particle再附着问题

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更多的半导体单片枚叶式湿法腐蚀清洗设备相关信息可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncas.com),现在热线咨询400-8768-096;18913575037可立即获取免费的半导体清洗解决方案。 

 

 

枚叶式清洗机-华林科纳CSE

华林科纳(江苏)半导体CSE-单片枚叶式洗净装置的特长

单片式清洗装置的优点(与浸渍.槽式比较)

1.晶片表面的微粒数非常少(到25nm可对应)

例:附着粒子数…10个/W以下(0.08UM以上粒子)

(参考)槽式200个/W

2.药液纯水的消费量少

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纯水...每处理一枚晶片0.5-1L/分

3.小装置size(根据每个客户可以定制)

 

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2016 - 03 - 07
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自动供酸系统(CDS)-华林科纳(江苏)CSEChemical Dispense System System 华林科纳(江苏)半导体CSE-CDS自动供酸系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称华林科纳(江苏)CSE-CDS自动供酸系统设备型号CSE-CDS-N1507设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10...
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