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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
新闻中心 新闻资讯
一. 硅片的化学清洗工艺原理  硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类:  A. 有机杂质沾污: 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。  B. 颗粒沾污:运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μm颗粒,利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μm颗粒。  C. 金属离子沾污:必须采用化学的方法才能清洗其沾污,硅片表面金属杂质沾污有两大类:     a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。     b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着(尤如“电镀”)到硅片表面。    硅抛光片的化学清洗目的就在于要去除这种沾污,一般可按下述办法进行清洗去除沾污。     a. 使用强氧化剂使“电镀”附着到硅表面的金属离子、氧化成金属,溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。      b. 用无害的小直径强正离子(如H+)来替代吸附在硅片表面的金属离子,使之溶解于清洗液中。     c. 用大量去离水进行超声波清洗,以排除溶液中的金属离子。  自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以RCA...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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一. 硅片的化学清洗工艺原理   硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类:   A. 有机杂质沾污: 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来 去除。   B. 颗粒沾污:运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径 ≥ 0.4 μm颗粒,利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μm颗粒。   C. 金属离子沾污:必须采用化学的方法才能清洗其沾污,硅片表面金属杂质沾污有两大类:   a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。   b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着(尤如“电镀”)到硅片表面。     硅抛光片的化学清洗目的就在于要去除这种沾污,一般可按下述办法进行清洗去除沾污:   A. 使用强氧化剂使“电镀”附着到硅表面的金属离子、氧化成金属,溶解在清洗液中或吸附在硅片表面。   B. 用无害的小直径强正离子(如H+)来替代吸附在硅片表面的金属离子,使之溶解于清洗液中。   C. 用大量去离水进行超声波清洗,以排除溶液...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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1. 触摸屏应用场合及特点  1.1触摸屏应用场合       触摸屏应用范围十分广阔,不仅在工业控制,在其它领域如电信、税务、银行、电力、医院、商场的业务查询;机场、火车站、地铁自动购票;以及办公、军事指挥、电子游戏、点歌点菜、多媒体教学、房地产预售;电梯按钮、旋转门控制等都获得广泛应用,在手机、ipad上应用最普遍。       工业用触摸屏是与PLC配套使用的设备,是替代传统机械按钮和指示灯的智能化显示终端。用触摸屏上的图符替代机械按钮,可以避免触点抖动,机械老化,接触不良,提高系统可靠性。还可通过设置参数,显示数据,以曲线或动画等形式描绘和监控多种被控设备的工作状态和运行参数,实现对系统的自动控制。       当前在一些控制要求较高、参数变化多、硬件接线有变化场合,触摸屏与PLC组合控制形式已占主导地位。   1.2 触摸屏基本工作原理       触摸屏设备由触摸检测装置和触摸屏控制器构成,其中触摸检测装置安装在显示屏幕前面,用于检测触摸面上用户触摸点的位置,并将检...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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日前,在Sematech表面预处理和清洗会议(SPCC, Austin, Texas)上,FSI International(Chaska, Minn.)公布了湿法清洗方法的新进展,可以在清洗碳化的光刻胶时保持超浅结(USJ)。       与瓦立安半导体设备公司(Varian Semiconductor Equipment)展开合作,两家公司研究了等离子浸没式离子注入掺杂(PLAD)、毫秒退火和全湿法光刻胶剥离技术,以从结区去除极少量掺杂的硅。清洗工艺将注入蒸汽引入了硫酸和双氧水的混合液(SPM)中,从而把注入后晶圆光刻胶清洗的时间缩短到5分钟。       FSI的首席技术官(CTO)Jeff Butterbaugh面对SPCC的100多名观众说,明年先进逻辑器件预期达到       碳化已经变成去除注入后光刻胶的最大清洗挑战。无定形碳是“最困难的挑战,”Butterbaugh说,并补充“任何正在开发注入后光刻胶去除工艺的人,都必须确保去掉光刻胶,尤其是在边缘部分。你必须要移出所有的残余光刻胶。”       去除碳化的光刻胶,使得FSI的化...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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政府的太阳能城市计划以及扶持国内供应商的措施,正在促进该市场增长。  据iSuppli公司,在政府刺激政策的推动下,随着使用量越来越多,中国LED驱动器市场预计将在2009年继续增长,并在2013年以前以4.4%的复合年增长率扩张。  在全球经济和电子产业沉陷衰退之际,中国LED驱动器IC市场2009年将仅增长1%,从2008年的1.153亿美元上升到1.165亿美元。但是,2010年增速将会加快到9.6%,规模将达到1.277亿美元。预计2013年中国LED市场将达到1.39亿美元。        图1 所示为iSuppli公司对中国LED驱动器IC市场的预测。  中国政府采取措施刺激国内需求,并鼓励企业向LED产业投资,正在推动该国LED驱动器销售增长。  中国力推LED技术  在中国市场,手机和便携消费电子产品是LED驱动器的主要应用,2009年占总体市场的67%,相当于7800万美元。但是,随着LED在交通信号灯和普通照明等领域的应用增长,上述应用领域的主导地位将在未来五年不断削弱。中国政府推出了数十个项目来推广LED技术,包括“LED城市照明”计划。据中国科技部,在该计划的第一阶段,将在2009年以前在20多个城市安装100万个LED灯用于城市照明,包括路灯以及隧道、地铁、公园和加油站等公共场所的照明灯...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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1.液晶显示器的结构        一般地,TFT-LCD由上基板组件、下基板组件、液晶、驱动电路单元、背光灯模组和其他附件组成,其中:下基板组件主要包括下玻璃基板和TFT阵列,而上基板组件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜结构,液晶填充于上、下基板形成的空隙内。图1.1显示了彩色TFT-LCD的典型结构, 图1.2图进一步显示了背光灯模组与驱动电路单元的结构。        在下玻璃基板的内侧面上,布满了一系列与显示器像素点对应的导电玻璃微板、TFT半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线,它们均由光刻、刻蚀等微电子制造工艺形成,其中每一像素的TFT半导体器件的剖面结构如图1.3所示。        在上玻璃基板的内侧面上,敷有一层透明的导电玻璃板,一般为氧化铟锡(Indium Tin Oxide, 简称ITO)材料制成,它作为公共电极与下基板上的众多导电微板形成一系列电场。如图1.4所示。若LCD为彩色,则在公共导电板与玻璃基板之间布满了三基色(红、绿、蓝)滤光单元和黑点,其中黑点的作用是阻止光线从像素点之间的缝隙泄露,它由不透光材料制成,由于呈矩阵状分布,故称...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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一、外观设计引领潮流  由于受到显像管的限制,传统CRT显示器不可能在个性化外观设计方面取得突破,而采用LCD 面板的液晶显示器显然不存在这一弊端。越来越多的显示器厂商开始在外观设计上大做文章,并且巧妙地将USB Hub、多媒体音箱等实用功能融入其中,在追求个性化的同时更提供一些有趣的功能。同时在机械转动设计上也会花上不少的心思,像下面的Sony HS75P LCD就是一款设计相当突出的产品。   外观设计引领潮流         现代用户特别追求产品的质感,因此塑料几乎从个性化产品中淡出。为了展现高科技的一面,厂商不惜血本地采用金属材料作为边框,此时不仅更为美观,而且对于提高强度也大有裨益。生活化的气息让厂商又看到另一种发展方向,因此各种卡通以及木质造型开始流行无论是天真无暇的卡通形象还是贴近大自然的木质材料都给人亲近的感觉,这也将会是未来个性化LCD的主流发展趋势。   二、 追求高速响应时间         之前LCD显示器虽然有低辐射、文本显示效果极佳等优点,但是由于响应时间的问题,一直使...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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一、生产工艺        1.工艺:      a)清洗:采用超声波清洗pcb或led支架,并烘干。      b)装架:在LED管芯(大圆片)底部电极备上银胶后进行扩张,将扩张后的管芯(大圆片)安置在刺晶台上,在显微镜下用刺晶笔将管芯一个一个安装在PCB或LED支架相应的焊盘上,随后进行烧结使银胶固化。      c)压焊:用铝丝或金丝焊机将电极连接到LED管芯上,以作电流注入的引线。LED直接安装在PCB上的,一般采用铝丝焊机。(制作白光TOP-LED需要金线焊机)      d)封装:通过点胶,用环氧将LED管芯和焊线保护起来。在pcb板上点胶,对固化后胶体形状有严格要求,这直接关系到背光源成品的出光亮度。这道工序还将承担点荧光粉(白光led)的任务。      e)焊接:如果背光源是采用SMD-LED或其它已封装的LED,则在装配工艺之前,需要将LED焊接到PCB板上。      f)切膜:用冲床模切背光源所需的各种扩散膜、反光膜等。      g)装配:根据图纸要求,将背光源的各种材料手工安装正...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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近年来显示技术发展很快,平板显示器以其完全不同的显示和制造技术使之同传统的视频图像显示器有很大的差别。传统的视频图像显示器主要为阴极射线管CRT (Cathode ray tubes) ;而平板显示器与之的主要区别在于重量和体积(厚度) 方面的变化,通常平板显示器的厚度不超过10cm (4in) ,当然还有其他的不同,如显示原理、制造材料、工艺以及视频图像显示驱动方面的各项技术等。       平板显示器具有完全平面化、轻、薄、省电等特点,符合未来图像显示器发展的必然趋势。目前主要的平板显示器包括: PDP ( Plasma display panel)、LCD( Liquid crystal displays) 、FED( Field emission displays)、 OLED ( Organic light-emitting diode displays ) 以及投影显示技术(CRT、LCD、LCOS、DLP)等 。时代先锋-----LCD-TV       LCD 器件是众多平板显示器件中发展最快、技术最成熟、应用面最广、已经产业化并仍在迅猛发展的一种显示器件,随着半导体技术的不断发展,人们已成功地将半导体技术与LCD 技术结合在一起,从而产生了LCD...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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低温多晶硅薄膜晶体管(多晶硅TFT)技术对高清晰度LCD仍抱有希望,但只是工程师们要对工艺结构和驱动方法加以改进才行,当今,韩国的一个公司发明了一种技术,能加快比以往更明亮,分辩率更高的显示器的推出。       在传统的主动矩阵LCD的设计中,薄膜晶体管是由无定形硅(a-Si)形成的。生产出来的晶体管用作各个像素的开关。这些设计都需要能把个人电脑的信号转换成适合于显示器和像素控制的幅度的附加电路。因为传统的晶体管无法用来驱动这些象素开关,厂家必须把客户的IC加到驱动和扫描功能的屏上。无定形硅晶体管的尺寸和功能也限制了每平方英寸能被照明的像素的数量。结果,当今个人电脑用a-Si TFT LCD具有每平方英寸从60-90个像素(PPi)的范围的像素密度。虽然能获得200PPi左右的高分辩率的a-Si TFT-LCD一直没有几个,只要使用了外部驱动IC,就会有生产约束来限制这些显示屏的商用可能性。        另一方面,已能生产出分辩率超过200PPi的低温多晶硅(LTPS)TFT-LCD来。为了进行比较起见,考虑典型的用人眼能分析的最高分辩率是大约350PPI。更好的是因为该工艺可消除掉驱动器IC和显示屏间几千个差带式自动接合,这可减低成本并能提高显示屏...
发布时间: 2016 - 03 - 23
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