花篮/片盒清洗机-华林科纳CSE 完美适应当前所有型号的花篮和片盒、传输片盒、前端开口片盒（Foup片盒）的清洗和干燥系统优点装载晶圆直径至200mm的花篮和片盒—或不同晶圆尺寸的花篮和片盒，同时可装载晶圆直径至300mm的前端开口片盒（Foup片盒）三种设备尺寸满足客户特殊需求 CleanStep I – 用于4组花篮和片盒加载和清洗能力：每次4组花篮和片盒清洗产能：每小时12组花篮和片盒 CleanStep II – 用于8组花篮和片盒加载和清洗能力：每次8组花篮和片盒清洗产能：每小时24组花篮和片盒 CleanStep III – 用于6组前端开口片盒（Foup）加载和清洗能力：每次6组前端开口片盒（Foup片盒）清洗产能：每小时18组前端开口片盒（Foup片盒） 适用于晶圆直径至200mm的花篮和片盒的标准旋转笼(Cleanstep I/II) 适用于所有片盒一次清洗过程 或是同时4组花篮和片盒，或是12个花篮(Cleanstep I/II) 简单快捷的对不同尺寸的片盒和花篮进行切换 旋转笼内的可旋转载体方便加载或卸载花篮和片盒 通过控制系统对自锁装置的检测，达到安全加载片盒和花篮，及其运行特征和优点可应用不同化学品（稀释剂）来清洗 泵传输清洗液 计量调整可通过软件设置控制操作热水喷淋装置 热水一般由厂务供应 — 标准化 或有一个体积约100升的热水预备槽（循环泵和加热棒用于热水预备槽—选项） 笼子 带有可变速旋转的控制的高扭矩伺服电机（按照加载量和设备配置，最大旋转速度200rpm,） 旋转的不锈钢笼子 会自动停止工作（运行过程中出现失衡状态时）热空气干燥 顶端吹下热空气 采用根据设备待机和工艺运行模式的可调风量的风扇装置 不锈钢架上装有加热器，可以温度控制 软件监控温度 带有反压控制的高效过滤器辅助功能和操作控制 触摸屏安装在前面—标准化 也...
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位，多年来与众多的集成电路生产企业密切合作，研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名 称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领 域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括：设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等；并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式，主体使用进口WPP15和10mm厚板材，结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境，坚固耐用，双层防漏，机台底盘采用德国产瓷白PP板，热焊接而成，可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体：设备为半敞开式，主体使用进口WPP15和10mm厚板材，结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境，坚固耐用，双层防漏，机台底盘采用德国产瓷白PP板，热焊接而成，可长期工作在酸碱腐蚀环境中；4.骨 架：钢骨架+PP德国劳施领板组合而成，防止外壳锈蚀。5.储物区：位于工作台面左侧，约280mm宽，储物区地板有漏液孔和底部支撑；6.安全门：前侧下开透明安全门，脚踏控制；7.工艺槽：模组化设计，腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成，杜绝机台的渗漏危险；8.管路系统：位于设备下部，所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明；药液管路采用PFA管，纯水管路采用白色NPP喷淋管，化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放；9.电气保护：电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区，电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠；所有可能与酸雾接触的...
KOH 混液供应系统设备介绍：l 设备形式:室内放置型l 操作形式：自动l 设备名称：KOH混液供应系统l 数量：1（套）；l 设备尺寸：以最终设计图纸为准;l 设备系列型号：CSE-CDS-2020---l 额定功率：220V 3kw 设备构造l 该设备主要由药液放置区、动力供应区、电控部分，操作区组成。l 骨架：SUS304主架；l 主体：德国新美乐12mm象牙白PP；l DI GUN：选用美国 派克 PFA DI水枪，PP 3/8”标准弹簧管；l 支脚：有滑轮装置和固定装置，可调整高度和锁定；l 三色报警等和蜂鸣器；安全保护l 设备采用耐腐蚀导线并通过PE管进行保护，防腐防水；l 电控部分正压空体保护，防水防腐；l 蜂鸣器声鸣提示工作完成，三色报警灯及蜂鸣声光故障报警；l 设有EMO 装置紧急按钮开关；系统原理MIX TANKl 系统设有两套Mix tank，均采用德国劳士领NPP 材质，容积***L（以最终设计为准）；热成型圆桶；TANK底部*******，便于液体排放干净；TANK顶部*******，*******气动阀门自动控制，PLC 一键换液功能（********自动添加新液）；l 液位传感器：TANK上设有********l 配水管路：TANK ******** 进水管路，分别为********；l 供液管路：设有********隔膜泵********设有********阀门，压力传感器、流量计********；l 回液管路：回液管路为********规格，设...
抛光液供液系统//抛光液供酸系统//抛光液供液设备//抛光液供酸设备设备功能1.提供抛光液和表面活性剂供应缓存桶，从而保证设备工艺流量稳定；2.提供温度，PH值控制，以满足抛光设备的工艺需求；3.满足stock slurry循环使用需求；特点：1.所有Tank箱体采用SUS304框架+米黄PVC 保管，需配置排气，排液，排漏以及漏液检测报警。2.Tank材质采用NPP或PVDF以上，管道使用PFA，选用材料对slurry无颗粒和金属污染(包括Pump内部与Slurry接触部分)；3.Stock slurry tank配置chiller(指定ORION CHILLER)和heater，4.Tank内的 Slurry 以及Surfactant处于常时循环状态， 供应设备管路末端有压力表；5.为检测Tank内 Slurry 以及Surfactant的容量(Level)， 配置***个**液位传感器；6.所有Tank配置水枪，同时slurry桶上部能开启，以方便冲洗Tank。7.所有的 Tank内要配置温度和PH sensor，同时需要将数据同步传送给设备主机；8.Tank使用控制面板进行显示和操作控制。 供液泵使用磁力泵或磁浮泵，满足现场实际扬程，流量等能力需求。9. 每个tank外部供应管路配置有自动配送阀并由设备自我控制。更多抛光液供液系统//抛光液供酸系统//抛光液供液设备//抛光液供酸设备可以关注南通华林科纳半导体设备有限公司官网www.hlkncse.com,热线0513-87733829
Marangoni 干燥 Marangoni 马兰戈尼干燥是基于 Marangoni 效应发展起来的干燥技术。典型的 Marangoni 干燥过程如图 4 所示。晶片进入干燥系统后，在水槽内溢流。由氮气携带 IPA 气体充满系统，在水面上形成 IPA 气体环境。随后晶片与水面缓慢脱离（可通过晶片提拉上升或缓慢排水两种方式实现） 由于 IPA 的表面张力比水小得多（25 ℃下，IPA 表面张力为 20.9×10-3 N/m；水的表面张力为 72.8×10-3 N/m），所以会在坡状水流表层形成表面张力梯度，产生 Marangoni 对流，水被“吸回”水面，如下图所示 虽然同样是 IPA 干燥，但是 Marangoni 干燥与 IPA Vapor 干燥有本质的不同，前者是通过表面张力梯度将水拉回水面，后者则是靠水的蒸发。 相比于IPA Vapor 干燥 ，Marangoni 干燥IPA 用量很少，且能够克服深窄沟渠的脱水困难，比较适合直径 150 mm ( 6 英寸) 以上晶片的干燥。Marangoni 干燥存在的问题是晶片易出现水痕缺陷，晶片与晶舟接触处、晶片下方是常见的水痕区域 。为消除水痕缺陷，这类设备中一般配备简易晶舟，以减少晶片与晶舟的接触面积，另外，采用温水浴、超声波震荡 IPA Bub- bler 和变速提拉等也是常用的消除水痕缺陷的手段。Marangoni 干燥(马兰戈尼干燥)受多种因素影响，如晶片的提拉速度，IPA/N2 流量和排风的设置等，因此此种方法技术难度较高。作为湿制程设备制造商，南通华林科...
污染物可导致不合格产品和其他下游问题，但是过滤器能有效地为您解决该问题。如果您的工作需要清除液体或微粒污染物，请使用可靠的可重复使用的过滤器。凝聚-微粒、直通型-微粒、T型微粒、高纯和超高纯过滤器可用于液体和气体系统提供各种过滤器滤芯材料和公称孔尺寸
1.外型结构紧凑美观2.本体重量轻容易安装3.耐腐蚀性能强，应用范围广4.材质卫生无毒5.耐磨损，容易拆卸，维护简单易行。
隔膜阀采用高流量的紧凑型设计，隔膜可使流道内的腐蚀性介质与所有驱动部件处於完全隔离的状态，从而杜绝了通常阀门的“跑、冒、滴、漏”等弊端。由于隔膜阀的流道平滑，流阻小，故而可获得较大的流量。根据流体，可选膜片：EPDM / FPM / PTFE，因此具有优越的耐腐蚀的特点。本阀由阀体、阀盖、隔膜和其它驱动零件等组成。
隔膜阀采用高流量的紧凑型设计，隔膜可使流道内的腐蚀性介质与所有驱动部件处於完全隔离的状态，从而杜绝了通常阀门的“跑、冒、滴、漏”等弊端。由于隔膜阀的流道平滑，流阻小，故而可获得较大的流量。根据流体，可选膜片：EPDM / FPM / PTFE，因此具有优越的耐腐蚀的特点。本阀由阀体、阀盖、隔膜和其它驱动零件等组成。
种植体全自动腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE设备名称种植体全自动腐蚀清洗设备适用领域医疗种植体系统设备用途种植体化学腐蚀和清洗的设备基本介绍主要功能：通过对清洗物腐蚀、喷砂→清洗→酸腐蚀→清洗等方式进行处理，从而达到一个用户要求的效果设备形式：室内放置型操作形式：自动设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 0513-87733829；18051335986 在种植体制造过程中,完成种植体的机械塑形后,需要将种植体浸入酸液里,对表面进行阳极处理,它会使表面形成多个孔洞,增进种植体与病人颌骨之间的紧密结合。经历了酸液的阳极处理后,将会转移到最后一道清洁工序,在清洁槽内通过超声波清洗,形成气泡和水波,轻轻地刷洗种植体,完成种植体的清洁,完成种植体的成品制造。种植体表面腐蚀清洗的主要目的是要让钛更好更快地与人骨结合,在表面进行涂层处理技术后,进行表面粗化技术,以便获得某种粗糙的表面,以增大表面积,这可使颌骨与种植体间的结合面积大大增加。目前,种植体的表面处理工艺较为常见的基本过程为:清洗→喷砂→清洗→酸腐蚀→清洗,多次清洗是为了实现不同的目的。第一次清洗主要是为了在喷砂前清洗除污,第二次清洗则是为了去除喷砂后残留杂质,第三次是为了去除酸腐蚀后的酸液残留。第二步的喷砂加工工艺,是为了进行表面粗化处理,一般喷砂介质为氧化铝砂,粒度根据表面粗化特性来定义。第四步的酸腐蚀加工,酸溶液的选择比较灵活,一般可使用强酸溶液(如硝酸、铬酸等)、强酸混合溶液(如硫酸和盐酸混合溶液)、强酸和中强酸混合溶液(如硝酸和氢氟酸混合溶液)等,使用酸液能够有效地达到粗化目的,又不会在表面上产生有害物质。这与半导体集成电路工艺过程中的刻蚀清洗方式极为相似,作为国内先进的湿制程专业制造商,华林科纳半导体设备有限公司在集成电路...
红外器件清洗机设备名称：红外器件清洗机-CSE产品特点：设备由预洗槽、超声波清洗槽、漂洗槽、超声波电源柜等组成。清洗槽材质为不锈钢，经久耐用。预洗槽底部设置了压力喷嘴，使浸泡过程中静止的液体变为流动的液体，上下翻滚，形成湍流，有效去除散热片狭缝中的污物。超声波清洗槽底部、侧面均设置了换能器，使被清洗的工件表面得到均匀的声强。在超声作用下，采用水剂代替煤油或有机溶剂进行清洗，可显著降低清洗成本。更多半导体设备可以关注南通华林科纳半导体设备官网www.hlkncse.com；现在咨询400-8768-096，18913575037，可立即免费获取华林科纳CSE提供的设备相关方案