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湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
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多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括装置主体、升降机构(2)和清洗机构(9),其特征在于:所述装置主体包括加工箱体(1)、抛光轴(3)、驱动机(4)、转轴(5)、内箱(6)、集水槽(7)、泵体(8)和支腿(10),所述支腿(10)设置在加工箱体(1)下端面,所述驱动机(4)设置在加工箱体(1)顶端面中间位置,所述转轴(5)转动连接在加工箱体(1)内部,且与驱动机(4)的输出端传动连接,所述抛光轴(3)设置在转轴(5)上,所述集水槽(7)设置在加工箱体(1)内部底端面,所述内箱(6)位于集水槽(7)上方;所述升降机构(2)设置在加工箱体(1)内部上侧,所述升降机构(2)包括电机一(21)、滑轮(22)、传动轴(23)和绳索(24),所述传动轴(23)转动连接在加工箱体(1)内部靠上部位,所述滑轮(22)设有两个,两个滑轮(22)对称转动连接在传动轴(23)上,所述滑轮(22)通过绳索(24)与内箱(6)固定连接,所述传动轴(23)与电机一(21)的输出端传动连接;所述清洗机构(9)包括辅助清洁组件(91)和电机二(92),所述电机二(92)设置在加工箱体(1)底端面,所述辅助清洁组件(91)设有两个,两个所述辅助清洁组件(91)对称设置在加工箱体(1)内部,所述辅助清洁组件(91)包括支架(911)、高压喷头(912)、滑块(913)、齿条(914)、齿轮(915)和安装轴(916),所述齿...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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制备绒面的目的:•减少光的反射率,提高短路电流,以致提高光电转换效率•陷光原理•当光入射到一定角度的斜面,光会反射到另一角度的斜面,形成二次或者多次吸收,从而增加吸收率。单晶制绒:单晶制绒流程:预清洗+制绒预清洗目的:通过预清洗去除硅片表面脏污,以及部分损伤层。 单晶制绒:预清洗方法:1、10%NaOH,78oC,50sec;2、①1000gNaOH,65-70oC(超声),3min;②1000gNa2SiO3+4LIPA,65oC,2min。2NaOH+Si+H2O=Na2SiO3+2H2SiO32-+3H2O=H4SiO4+2OH- 预清洗原理:1、10%NaOH,78oC,50sec;利用浓碱液在高温下对硅片进行快速腐蚀。损伤层存在时,采用上述工艺,硅片腐蚀速率可达5μm/min;损伤去除完全后,硅片腐蚀速率约为1.2μm/min。经腐蚀,硅片表面脏污及表面颗粒脱离硅片表面进入溶液,从而完成硅片的表面清洗。经50sec腐蚀处理,硅片单面减薄量约3μm。采用上述配比,不考虑损伤层影响,硅片不同晶面的腐蚀速率比为:(110):(100):(111)=25:15:1,硅片不会因各向异性产生预出绒,从而获得理想的预清洗结果。缺点:油污片处理困难,清洗后表面残留物去除困难。预清洗原理:2、①1000gNaOH,65-70oC(超声),3min;②1000gNa2Si...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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1等离子体刻蚀装备与工艺:图1给出了大连理工大学PEPP-300型等离子体刻蚀/聚合复合加工系统照片。该装置主要包括两组13.56MHz的射频功率源、阻抗匹配源、电感线圈和同轴电缆构成的复合射频源系统、刻蚀/聚合加工室、等离子体诊断系统、供气和真空系统等4部分。两组射频功率源分别为1.5kW和1kW。刻蚀加工样品置于加工室中的样品台上,样品台采用循环水冷,温度控制范围为5~30℃。该装置可以实现等离子体/离子等不同类型的刻蚀工艺。本试验典型的工艺条件:射频源功率分别为200~400W,50~200W,工作气体BCl3,气体流量30~100sccm,工作气压1~10Pa,刻蚀时间3~10min。 图1PEPP-300型等离子体刻蚀/聚合复合加工系统照片2等离子体刻蚀结果:试验研究的Er3+掺杂Al2O3/SiO2/Si平面光波导薄膜,通过热氧化法在Si(100)基片表面制备SiO2薄膜,再采用溶胶—凝胶法在SiO2/Si表面提拉制备Er3+掺杂Al2O3薄膜。Er3+:Al2O3/SiO2/Si平面光波导薄膜制备工艺详见参考文献[6]。图2给出了制备的Er3+:Al2O3/SiO2/Si平面光波导薄膜的扫描电子显微镜(SEM)照片。Si(100)基片上生长的SiO2层厚约为2.5m,提拉获得的Er3+掺杂Al2O3薄膜约为2m。Er3+掺杂Al2O3薄膜致密、连续地覆盖于氧...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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自动炉管清洗机  图1 图2  图3  图4 图1是本发明实施例的供液原理示意图;图2是图1中的清洗装置的结构示意图;图3是图1中的储液装置的结构示意图;图4是图2清洗装置中的旋转装置的结构示意图。 图中:1、储液装置       2、清洗装置            3、供液管路4、废液回收管路   5、气控隔膜阀          6、供液泵7、气动阀         8、废液排放管          9、液位传感器10、控制系统      11、液位传感器      &#...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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制酸干吸的工艺过程。(1)干燥塔将净化后的SO2烟气给予干燥,干燥后的SO2烟气进入转化器将其转化为SO3;(2)因为浓H2SO4有吸收水分这一特性;利用这个原理,干燥塔吸收烟气中的水分,从而使得干燥循环槽H2SO4的浓度降低,干燥循环槽H2SO4的数量增加、液位升高;(3)通过干燥循环槽到中间吸收循环槽窜酸阀和中间吸收循环槽到干燥循环槽窜酸阀,保持干燥循环槽H2SO4浓度和平衡干燥循环槽H2SO4液位;若生产93%H2SO4,可将放酸阀打开,将干燥循环槽中高于循环槽设定点的H2SO4放入计量槽;若生产98%H2SO4,用干燥循环槽到中间吸收循环槽窜酸阀和中间吸收循环槽到干燥循环槽窜酸阀,保持中间吸收循环槽浓度、控制干燥循环槽液位;(4)中间吸收循环槽是将转化器一次转化后的SO3烟气用浓H2SO4给予吸收;因此,中间吸收循环槽H2SO4的浓度在逐渐升高,液位同时也在升高;如要保持中间吸收循环槽H2SO4的浓度,用干燥循环槽的相对低浓度的H2SO4和给中间吸收循环槽加水的方法才能使中间吸收循环槽H2SO4的浓度保持;如果生产98%H2SO4,打开中间吸收循环槽放酸阀将中间吸收循环槽内的98%H2SO4放入计量槽,保持中间吸收循环槽液位,用干燥循环槽到中间吸收循环槽窜酸阀和中间吸收循环槽H2SO4浓度调节阀保持浓度;;如果生产93%H2SO4,则用中间吸收循环槽H2SO4来调节干燥循环...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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1设备的清洗工艺:全自动硅片清洗机主要以超声波清洗为主,以鼓泡和抛动清洗等工艺为辅助手段。利用超声波渗透力强的机械振动冲击硅片表面并结合清洗剂的化学去污作用达到对硅片的清洗,清洗作用力均匀,清洗洁净度高,清洗效果好,可有效去除硅片表面的杂质。工艺流程:上料(浸泡)→超声清洗(摆动+加热+鼓泡)→超声碱洗(摆动+加热)→超声漂洗(摆动+加热)→慢拉脱水槽(加热)→烘干→下料(手动)对工艺过程所作的调整是多种多样的,其中包括机械手传送的速度、超声清洗的时间、氮气鼓泡的气体流量、抛动系统的频率、溶剂的温度、烘干系统的温度等、超声漂洗用水的流量等。对于客户来讲,主要应考虑设备生产硅片的能力,保证能满足生产要求;同时应降低能耗,在保证硅片清洗干净和烘干的前提下,通过温控系统调整溶剂和漂洗水的温度,以及烘干的温度和时间。2设备整体结构:上料台全自动硅片清洗机是按照一定的工艺要求,由机架、悬臂机械手、上料台、各种超声清洗槽、抛动机构、慢提拉系统、烘干系统、抽风系统、温控系统、电控系统等构成一个多功能的完整设备。该设备适用的硅片规格:125mm×125mm,156mm×156mm。如图1所示。2.1机架和槽体的设计:考虑到太阳能硅片清洗时所用的溶剂为碱溶液,为了提高设备的耐腐蚀性,槽体所用的材质为优质不锈钢。机架的整体材质为碳钢,并用瓷白色PP板进行包覆,不仅满足了设备的强度要...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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1 水下激光传输特性:图1是纯净水对不同波长激光吸收的曲线[9]。横坐标为激光的波长,纵坐标为吸收长度,吸收长度即激光被完全吸收所穿过的溶液长度。 当激光射入水中时,水会吸收一部分激光而造成其能量的衰减,这可以由Lambert-Beer定律计算得到[10]:Ix(λ)=I0(λ)exp[-μ(λ)x](1)式中,I0(λ)为传输前的激光初始辐照度,Ix(λ)为在液体中传输路程为x后的激光辐照度;μ(λ)为光束衰减系数,表示激光传输1m距离后能量衰减的对数值(自然对数),单位是m-1。Δ=1/μ(λ),Δ为激光在溶液中的吸收长度,即激光被完全吸收穿过的溶液长度,则Beer-Lambert法则还可写为: (2)由(2)式可以方便地估算出不同水深激光的衰减比例。从图1中可以看出,对不同波长的激光,水的吸收长度Δ不同。对355nm紫外光的吸收长度约为5m,本文中采用的水深为5mm,此时紫外激光被吸收了约0.1%。相对于其它多数波长水对紫外激光的吸收率较小,因此紫外激光较适合做水下激光加工的光源。2 实验研究2.1 实验材料和设备实验中采用的激光加工设备为多功能紫外激光微加工系统。紫外激光加工系统主要由激光器、冷却系统、紫外光学系统、控制系统、CCD定位系统和机械系统构成。激光器是美国OPTOWAVE(光波)公司的AWave355系列355nm三倍频全固态调Q紫外激光器,...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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1.2、异质结电池工艺流程简洁,拥有更高开路电压:异质结的工艺流程更为简洁,独特工艺是非晶硅薄膜沉积和TCO膜沉积。异质结电池全称为本征薄膜异质结电池(HeterojunctionwithIntrinsicThin-layer),又称HIT、HJT或SHJ电池。其工艺流程十分简洁,主要是清洗制绒、非晶硅薄膜沉积、TCO膜沉积以及丝网印刷四道工序。与需要10余项流程的PERC+以及TOPCon相比,HJT工艺流程相当简洁。而且其中清洗制绒和丝网印刷都是传统硅晶电池的工艺,HJT独特的工艺在于非晶硅薄膜沉积以及TCO膜沉积。 从技术原理来看,HIT拥有更低的载流子复合速率和更低的接触阻抗造就了更高的开路电压。获得更高开路电压的两个重要条件是避免少数载流子与多数载流子发生复合,同时还要降低电阻促进多数载流子更有效运输。PERC技术由于其不可避免的开槽工艺造成了多子横向输运损耗,同时在开槽处金属极与Si局域接触仍然有较高的复合。而ITO薄膜(氧化铟锡薄膜,TCO薄膜中性能最好的材料)的特性是载流子复合速率高,但其接触电阻率低,而非晶硅薄膜(a-Si:H)的特性是载流子复合速率低,但接触电阻率高。异质结电池中薄膜沉积的顺序是非晶硅薄膜偏中间而ITO在最外层,这一顺序决定了异质结电池完美地结合了两者的优点。具体而言,非晶硅薄膜在偏中间位置,当光照到电池内时,光生伏特效应下产生了电子-...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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1.清洗机概述在发动机的生产线上,清洗机是非常重要的辅机设备,主要的功能就是清洗发动机的每个零部件。清洗机分为三种,通常分为中间清洗机、CMM清洗机以及最终清洗机。着重分析发动机的缸体缸盖的最终清洗机的相关功能以及作用。下图为一种缸体缸盖清洗机和工序节拍:2.缸体缸盖最终清洗机各个工位的功能及作用2.1浪涌清洗工位工件通过机动滚道进入到本工位的浪涌水箱中,有到位装置被设置在输送装置上,对工件的是否到位进行检测,同时发令,停止滚道的输送,关闭浪涌水箱的插门。有浪涌储水箱被配备在这个工位当中,打开浪涌清洗泵电磁阀之后,供水到浪涌水箱内,在供水工作完毕之后减速机驱动鼓轮回转装置就会旋转工件270度,固定搅水喷嘴就会喷水,通过胶水喷嘴以及工件旋转的搅水,就会让水紊流和翻腾,就可以利用涮洗功能对工件的内表面以及水道腔进行清洗;在完成清洗之后,将排水插门打开,进行防水,对工件不断进行倒水操作,这样就能够让下一个工位的吹干工作更加方便的进行,然后打开出料插门,输送工件到下一个工位上。2.2升降清洗工位在工件完成浪涌清洗工位的清洗之后,就会进入到升降清洗工位当中,到位检测开关检测到工件之后就会停止滚道,同时伸出止回器,根据PLC的指令让喷嘴和水箱进行有规律的升降运动,清洗工件三面的表面和孔隙。为了让清洗效果能够得到保证,水箱会不断的上升和下降来进行清洗的工作。在这样的工作循环过几次之后,就会停止水...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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引线键合工艺MEMS芯片的引线键合的主要技术仍然采用IC芯片的引线键合技术,其主要技术有两种,即热压键合和热超声键合。引线键合基本要求有:(1)首先要对焊盘进行等离子清洗;(2)注意焊盘的大小,选择合适的引线直径;(3)键合时要选好键合点的位置;(4)键合时要注意键合时成球的形状和键合强度;(5)键合时要调整好键合引线的高度和跳线的成线弧度。 常用的引线键合设备有热压键合、超声键合和热超声键合。 (1)热压键合法:热压键合法的机制是低温扩散和塑性流动(PlasticFlow)的结合,使原子发生接触,导致固体扩散键合。键合时承受压力的部位,在一定的时间、温度和压力的周期中,接触的表面就会发生塑性变形(PlasticDeformation)和扩散。塑性变形是破坏任何接触表面所必需的,这样才能使金属的表面之间融合。在键合中,焊丝的变形就是塑性流动。该方法主要用于金丝键合。(2)超声键合法:焊丝超声键合是塑性流动与摩擦的结合。通过石英晶体或磁力控制,把摩擦的动作传送到一个金属传感器(Metal“HORN”)上。当石英晶体上通电时,金属传感器就会伸延;当断开电压时,传感器就会相应收缩。这些动作通过超声发生器发生,振幅一般在4-5个微米。在传感器的末端装上焊具,当焊具随着传感器伸缩前后振动时,焊丝就在键合点上摩擦,通过由上而下的压力发生塑性变形。大部分塑性变形在键合点承受超...
发布时间: 2021 - 04 - 12
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