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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
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目前在半导体工业生产中,普遍采用RCA清洗技术清洗抛光硅片,今天我们介绍一种溶浸式湿法化学清洗,串联的SC1和兆声去除颗粒,含O3的去离子水工艺形成均匀硅氧化膜,最后用IPA干燥。IPA干燥是利用IPA的低表面张力和易挥发的特性,取代硅片表面的具有较高表面张力的水分,然后用热N2吹干,达到彻底干燥硅片水膜的目的。此种干燥工艺比传统的离心式甩干法、真空干燥法、单纯热N2干燥法在降低金属和颗粒站务的引入及干燥速度方面有较大的有事。但此工艺在有片盒干燥的过程中易产生边缘目检缺陷的缺点。针对这点,我们在生产中总结了一下经验,并通过控制将此缺陷降到可控范围内。1、硅片进入IPA干燥腔后,通过片盒支架的特殊设计,使抛光面自动与片盒脱离接触。这样IPA蒸气可充分分布到抛光面表面,有利于均匀的干燥。2、PFA片盒作为硅片的载体,由于材料微观多孔的特性,经过反复烘干,孔被放大,加上长时间的化学溶浸,少量化学物质吸附在PFA的孔内,烘干后易在硅片上行程边缘缺陷,因此定期处理PFA片盒是很必要的。作为湿制程设备专业制造商,南通华林科纳半导体设备有限公司对IPA干燥系统有丰富的生产经验和产线使用验证,为硅片的清洗、干燥提供有效的保障。 更多清洗相关设备可以关注南通华林科纳半导体官网,关注http://www.hlkncse.com ,18913575037
发布时间: 2019 - 06 - 26
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在光学冷加工中,超声波清洗是如何实现洗净目的的呢?一般来说,清洗工艺主要以干燥的方式命名,如 IPA 工艺,是指利用 IPA(异丙醇)蒸汽进行脱水干燥的清洗工艺,纯水工艺是指利用热纯水慢提拉或冷纯水甩干的方式进行干燥的清洗工艺。当然,还有其他的命名方式。经过不断的变化、发展,光学冷加工中的清洗工艺主要以 IPA 工艺和纯水工艺为主。  IPA干燥  IPA 工艺包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。    因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有先进行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。显然,后者在流程上更流畅、紧凑,对设备要求也简单。经过洗涤后的镜片表面不会有结合牢固的污垢,仅可能有一些清洗剂和松散污垢的混合物。    我们知道,无机光学玻璃是一种过冷的熔融态物质,没有固定的分子结构,它的结构式可描述为二氧化硅和某些金属氧化物形成的网状结构。其骨架结构为键能很大的硅氧共价键,外围是键能小、易断裂的氧与金属离子形成的离子键。在洗涤时,由于超声场和化学洗剂的共同作用,某些硅氧键含量少或者外围键能特别小的的材料易于在清洗过程中发生变化而导致洗涤效果不良。所以,选择性能温和的洗剂、合适的洗剂浓度、温度、超声功率、洗涤时间对保证镜片的清洗质量十分重要。    利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂...
发布时间: 2019 - 06 - 11
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近年来衍射光栅技术、全息术、傅里叶光学和计算全息等技术推动了衍射光学理论的发展,特别是在衍射光学器件方面的研究已经达到了实用化的水平。衍射光学器件的特点DOE的特点则是具有高衍射效率、独特的色散性能、更多的设计自由度、宽广的材料可选性,并具有特殊的光学性能,因此DOE成为实现离轴照明的理想元件。一般用于光刻系统离轴照明的DOE,其子单元个数需衍射的概念光沿着直线传播,当光穿过一个小孔或经过一个轮廓分明的边缘时,沿小孔边缘产生了干涉图形,结果得到了一个模糊的图像,而不是希望出现在光和阴影之间的清晰边缘,光看上去沿狭缝边缘弯曲了。这种现象被称做衍射。衍射光学器件的主要应用1.光束整形(1)平顶光束整形“ Top-Hat ”或“ Flat-Top ”光束整形是衍射光学器件(DOE),用于将近高斯入射激光束转换为圆形,矩形,正方形,线形或均匀强度(平坦)点或在特定工作平面中具有锋利边缘的其他形状。顶帽(平顶)光束整形器的典型应用包括:激光烧蚀,激光焊接,激光穿孔,激光划线,医疗和美学激光应用。(2)光束扩散器/光束匀质器英文名为BeamHomogenizer / Optical Diffuser,使用匀化镜能把单模或多模的准直输入光束,转换为能量分布高度均匀的光斑。光斑的波长和形状轮廓都可自定义,形状一般为圆形、正方形、直线、长方形、六边形、椭圆形等任意形状。光束均化镜在许多需要明确定义光...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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一、无源晶振与有源晶振的对比1. 无源晶振是有2个引脚的无极性元件,需要借助于时钟电路才能产生振荡信号,自身无法振荡起来,无源晶振需要用DSP片内的振荡器,在datasheet上有建议的连接方法。无源晶振没有电压的问题,信号电平是可变的,也就是说是根据起振电路来决定的,同样的晶振可以适用于多种电压,可用于多种不同时钟信号电压要求的DSP,而且价格通常也较低,因此对于一般的应用如果条件许可建议用晶体,这尤其适合于产品线丰富批量大的生产者。2. 有源晶振有4只引脚,是一个完整的振荡器,里面除了石英晶体外,还有晶体管和阻容元件 。有源晶振不需要DSP的内部振荡器,信号质量好,比较稳定,而且连接方式相对简单(主要是做好电源滤波,通常使用一个电容和电感构成的PI型滤波网络,输出端用一个小阻值的电阻过滤信号即可),不需要复杂的配置电路。有源晶振相比于无源晶体通常体积较大,但现在许多有源晶振是表贴的,体积和晶体相当,有的甚至比许多晶体还要小。二、无源晶振与有源晶振的优缺点无源晶振相对于晶振而言其缺陷是信号质量较差,通常需要精确匹配外围电路(用于信号匹配的电容、电感、电阻等),更换不同频率的晶体时周边配置电路需要做相应的调整。使用时建议采用精度较高的石英晶体,尽可能不要采用精度低的陶瓷晶体。相对于无源晶体,有源晶振的缺陷是其信号电平是固定的,需要选择好合适输出电平,灵活性较差,...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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微纳光学是目前新型光电子产业的重要发展方向,在光通信、光互联、光存储、半导体器件等诸多领域,发挥了巨大的作用。微纳光学的结构技术是指通过将微纳光学结构引入到相关的材料中,制成新型光学功能器件。微纳光学就是利用微结构材料作为光学元件的光学分支。它的结构的设计和制造是微纳光学技术发展的关键性问题,所以微纳光学成为了新型光电子产业发展的关键性突破。它的主要优点就是能在局域电磁相互作用的基础上实现许多全新的功能,成为21世纪国家不可或缺的关键科学和技术。微纳光学现有技术与特点微纳光学制造技术以LIGA工艺为基础,主要经过光刻、电铸制模和微纳米压印三个主要工艺步骤。(1)光刻光刻是半导体技术中晶圆制造的关键工艺,通过表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去,在晶圆表面留下带有微图形结构的薄膜。这些所有成果都必须建立在一片干净的晶圆上。可想而知,半导体清洗设备就发挥了非常大的作用。国内也是有多家湿法清洗设备厂商,其中熟知的华林科纳就是一家湿制程设备专业制造商,主要从事半导体湿制程设备的设计、研发、生产及销售。目前光刻技术传递图形的尺寸限度缩小到亚微米级,已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术;成为一种精密的微细加工技术。微纳光学制造技术采用光刻技术在激光原版上形成具有微纳尺寸的细微结构,即...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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在许多大学、研究所,研究员在实验室做实验时,往往需要配比很多不同类型的溶液。这些溶液有酸碱液、有机液,人工配液时接触,不仅存在安全隐患,还经常存在配液比例不准确,效率低下的问题。同时,由于人工反复不断的配比,人在疲倦的时候容易出错,还易造成药液的浪费。  华林科纳公司设计的CSE-LIQOUR-II自动配液机,专为解决以上问题而研发,可以适用于各类化学生物制药工艺实验室,是用来满足药液自动配比的设备,通过称重、流量计准确计量、气压输送或注塞抽取等方式将药液按照比例输送,配液精确度能够达到2‰。  该配液机由配液控制单元与配液称量单元两部分组成。配液控制单元由显示操作区域、外接原液桶装置与计算控比装置组成,通过操作区域输入化学药液的浓度、配比比例与需要的药液量,经过计算控比装置的精确计算,将几种药液进行混合配比,从而实现药液的精确配比。同时,配有精确的配液称量单元,最高配液分辨率可达到0.01g。除了可以用量杯进行大规格的调制之外,还可以配备标准试管支架,以用来固定试管,进行精确地试管配比。  该配液机能够达到高精准、高效率的配液,并具有抗腐蚀性、毒性、耐压、防燃防爆等功能,保证操作者安全;通过计算控比单元与机台界面自动化,实现自动控制操作的运转;接触部分与绝大多数化学品(如硫酸H2SO4、硝酸HNO3、磷酸H3PO4、盐酸HCL、氢氟酸HF、缓冲氧化物刻蚀液BOE等酸性溶液;氨水N...
发布时间: 2019 - 06 - 28
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TFT-LCD的制造过程此文件仅供参考学习,勿用于商业用途一、Array制程薄膜黄光蚀刻剥膜二、Cell制程配向膜印刷密封胶涂布喷淋间隔物注入液晶密封组合偏光片贴附三、Module制程COG制程软性电路板压合印刷电路板压合背光模组组装老化测试
发布时间: 2019 - 02 - 12
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低通滤波器低通滤波器(英语:Low-pass filter)容许低频信号通过,但减弱(或减少)频率高于截止频率的信号的通过。对于不同滤波器而言,每个频率的信号的减弱程度不同。当使用在音频应用时,它有时被称为高频剪切滤波器,或高音消除滤波器。高通滤波器则相反,而带通滤波器则是高通滤波器同低通滤波器的组合。低通滤波器概念有许多不同的形式,其中包括电子线路(如音频设备中使用的hiss滤波器、平滑数据的数字算法、音障(acoustic barriers)、图像模糊处理等等)。低通滤波器在信号处理中的作用等同于其它领域如金融领域中移动平均数(moving average)所起的作用;这两个工具都通过剔除短期波动、保留长期发展趋势提供了信号的平滑形式。低通滤波器实例一个固体屏障就是一个声波的低通滤波器。当另外一个房间中播放音乐时,很容易听到音乐的低音,但是高音部分大部分被过滤掉了。类似的情况是一辆小汽车中播放非常大的音乐声,在另外一个车中的人听来却是低音节拍,因为这时封闭的汽车和空气间隔起到了低通滤波器的作用,减弱了所有的高音。电子低通滤波器用来驱动重低音喇叭(subwoofer)和其它类型的扩音器、并且阻塞它们不能有效传播的高音节拍。无线电发射机使用低通滤波器阻塞可能引起与其它通信发生干扰的谐波发射。DSL分离器使用低通和高通滤波器分离共享使用双绞线的DSL和POTS信号。低通滤波器也在如R...
发布时间: 2019 - 01 - 30
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线性滤波器线性滤波器用于时变输入信号的线性运算(en:linear operator)。线性滤波器在电子学和数字信号处理中应用非常普遍(参见电子滤波器中的文章),它们也用于机械工程和其它技术领域。线性滤波器经常用于剔除输入信号中不想要的频率或者从许多频率中选择一个想要的频率。滤波器和滤波器技术类型非常广泛,这篇文章将给出一个总的描述。不论它们是电子的、电力的还是机械的,也不论它们的频率范围或者时间尺度有多大,线性滤波器的数学理论都是通用的。按照传递函数分类:脉冲响应线性滤波器可以分为两类:无限脉冲响应(IIR)和有限脉冲响应(FIR)滤波器。通常,一个窄(compact)频率响应的滤波器有无限脉冲响应,一个窄脉冲响应的滤波器有无限频率响应。直到,人们才能够实现模拟IIR滤波器,但是,如模拟延时线(en:analog delay line)和数字滤波器这样的技术都已经实现了FIR滤波器。频率响应几种常见的线性滤波器:● 允许低频率通过的低通滤波器。● 允许高频率通过的高通滤波器。● 允许一定范围频率通过的带通滤波器。● 阻止一定范围频率通过并且允许其它频率通过的带阻滤波器。● 允许所有频率通过、仅仅改变相位关系的全通滤波器。● 阻止一个狭窄频率范围通过的特殊带阻滤波器陷波滤波器(en:notch filter)。● ...
发布时间: 2019 - 01 - 30
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单晶硅片加工工艺主要为:切断→外径滚圆→切片→倒角→研磨→腐蚀、清洗等。切断:是指在晶体生长完成后, 沿垂直与晶体生长的方向切去晶体硅头尾无用的部分,即头部的籽晶和放肩部分以及尾部的收尾部分。通常利用外圆切割机进行切割。 外圆切割机刀片边缘为金刚石涂层。这种切割机的刀片厚,速度快,操作方便;但是刀缝宽,浪费材料,而且硅片表面机械损伤严重。目前,也有使用带式切割机来割断晶体硅的,尤其适用于大直径的单晶硅。外径滚圆:在直拉单晶硅中,由于晶体生长方时的热振动,热冲击等原因,晶体表面都不是非常平滑的,也就是说整根单晶硅的直径有一定偏差起伏;而且晶体生长完成后的单晶硅棒表面存在扁平的棱线,需要进一步加工,使得整根单晶硅棒的直径达到统一,以便于在后续的材料和加工工艺中操作。切片:在单晶硅滚圆工序完成后,需要对单晶硅棒切片。太阳电池用单晶硅在切片时,对硅片的晶向,平行度和翘曲度等参数要求不高,只需对硅片的厚度进行控制。倒角:将单晶硅棒切割成晶片,晶片锐利边需要休整成圆弧形,主要防止晶片边缘破裂及晶格缺陷产生。研磨:切片后,在硅片的表面产生线痕,需要通过研磨除去切片所造成的锯痕及表面损伤层,有效改善单晶硅的翘曲度、平坦度与平行度,达到一个抛光处理的过程规格。腐蚀、清洗:切片后,硅片表面有机械损伤层,近表面晶体的晶格不完整,而且硅片表面有金属粒子等杂质污染。因此,一般切片后,在制备太阳能电池前,需要...
发布时间: 2019 - 01 - 29
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