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发布时间: 2016 - 03 - 10
PP通风橱---华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE-PP通风柜 专为氢氟酸及硝化类浓酸设计的实验室通风橱,克服了传统通风柜在高温浓酸环境下易生锈、变黄、龟裂等缺陷,具有的耐酸碱性能。适用行业:适用于各类研究实验室---半导体实验室、药物实验室 【产品描述】设备名称南通华林科纳CSE-PP通风柜产品描述【柜体】:采用厚8-12mm瓷白色PP制作,耐酸碱性能优异。经CNC精确裁切加工后,同色同质焊条熔焊修饰处理,表面无锐角。【上部柜体】:排气柜采用顶罩式抽气设计,设计有1个∮250mm排风口。导流板采用同质PP材料制作,耐酸碱性能优异。安装尺寸科学合理,无气流死角,获取最大的废气捕捉性能。【操作台面】:台面采用12mmPP板制作,耐酸碱性能优异。通风柜台面上水槽根据用户要求配置。【下部柜体】:储物柜体,中间加一层隔板。铰链采用黑色塑料铰链,耐腐蚀性能好。拉手采用同质C型PP拉手。【调节门】1. 调节门玻璃:采用厚4mm透明亚克力玻璃制作,耐酸碱性能优异。2.调节门边框:为厚瓷白色PP板c型槽,嵌入式结合,以确保安全及耐用性。  3.调节门悬吊钢索:每台通风柜调节门钢索连接。4.调节门平衡配重:采无段式配重箱设计,其上下行程具静音轨道予以限制避免摇晃碰撞。【电器设备】1.开关:按钮带灯式自锁开关,包含风机开关,照明开关,总电源开关。2.照明设备:采用全罩式三防灯具,灯罩内具220v*20w*23.插座部分:每台通风柜装设带防溅盖220V10A 电源插座2个。设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096;18913575037【详细参数】产品名称PP通风橱产品型号PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸(L×W×H)1200...
发布时间: 2017 - 04 - 06
甩干机—华林科纳CSESpin-dry machine 设备名称CSE-甩干机主要功能晶圆或器件的清洗甩干腔体数量单腔/双腔/四腔尺寸(参考)约L×D×H=面宽480mm×纵深820mm×高度1750mm清洗件规格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圆或器件操作流程人工上货→DI喷洗加转子旋转→HOTN2吹干加转子旋转→加速旋干含舱体加热保温→完成设备预设之制程结束。工作转速300—2400r/min主体构造特点外观材质:本体以W-PP10t板材质组焊组合。设备骨架:SUS25*25*1.2T骨架组合,结构强固。作业视窗:视窗采透明压克力材质,有效掌握作业情况。管路系统:OneChamber模块化。排风系统:间接式抽风设计,有效稳定空气扰流,并同时减低异味。机台支脚:具高低调整及锁定功能。机台正压保护:采N2正压保护。机台微尘控制量:无刷伺服电机去静电  氮气控制单元1)管件阀门:SMC电磁阀、PFA高纯管件、PTFE气动阀门。2)氮气加热功能:不锈钢加热器在线加热3)低压氮气功能:待机时,保持腔内正压,防止污染。DIW控制单元1)采用旋流式冲洗喷嘴。2)排水口安装电阻率探头,对腔体排水水质进行监测。3)冲洗工艺完成后,氮气将残留在冲洗管路内的去离子水吹净。4)待机时,保持回水盒内有水流入且流量可调。电控单元及软件系统1)控制器操作界面:5.7”记忆人机+PLC可程序自动化控制器(人机TouchScreen)。2)软件功能:编辑/储存:制程/维修/警示/编辑/配方/,皆可从操作荧幕上修改。3)储存能力:记忆模块:参数记忆,配方设定。 更多的甩干机清洗相关设备,可以关注http://www.hlkncse.com ,400-8768-096
发布时间: 2016 - 12 - 05
干燥系统-华林科纳CSE适用于最大尺寸300mm晶圆的干燥技术优点NID™干燥系统利用IPA和N2雾化分配,以及晶圆与水脱离时形成了表面张力干燥的技术适用于最大尺寸300mm晶圆的干燥技术 可单台设备或整合在湿法设备中 最佳的占地 成熟的工艺 无水迹 无碎片应用:抛光片、集成电路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征: 可同时干燥25到50片直径最大为300mm的晶圆 适用于标准高边或低边花篮规格:艺时间: 一般亲水性晶圆片: ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圆片: ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金属含量: 任何金属≤ 1•1010 atoms / cm2 增加干燥斑点: 干燥后无斑点IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run去边缘: 3 mm一般安装参数:尺寸: 660 x 1440 x 2200 (长 x 宽 x 高)标准电压: 3 x 400 VAC额定功率: 50 Hz标准电流: 3 x 33 A培训:操作、维护、工艺培训标准: CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性: 平均故障间隔时间 ≥ 800 h 辅助平均间隔时间 ≥ 300 h 可运行时间 ≥ 97 %更多的干燥系统设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 06 - 06
废气处理系统-南通华林科纳CSE南通华林科纳半导体CSE 的废气处理系统可处理气体:酸性气体、碱性气体、其它特殊气体,负压范围为:-500Pa 至 -1500Pa; 设备名称南通华林科纳CSE-废气处理系统系统说明1.可处理气体:酸性气体、碱性气体、其它特殊气体,负压范围为:-500Pa 至 -1500Pa;2.工艺稳定,负压波动在15%.3.电压:380V,三相五线,8KW;4.采用英国废气处理系统工艺,CSE在原工艺上经过升级改造,新的系统推出市场后,客户反映效果较好;系统工作原理为酸性/碱性/其它特殊气体处理系统,主要由以下几大部分组成:负压腔、正压腔、初级锥形喷淋塔、三级喷淋净化塔、高压射流器、抽风孔、负压动力泵、循环喷淋泵、电控系统;废气经过一级锥形喷淋塔进入负压腔内(每个喷淋塔中间为伞装型喷头,对废气层形成水封,瞬间中和废气)、通过射流器产生负压把负压腔内的废气抽入正压腔内中和(在负压腔与正压腔之间设有三级喷淋净化塔,三级喷淋净化塔内配有PP填料,配有喷嘴,再次充分喷淋中和废气)、处理完的气通过正压腔上的排气口排出。成功案例河北普兴电子有限公司上海新傲半导体有限公司上海硅酸盐研究所中试基地苏州纳维科技有限公司设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多半导体行业废气处理系统可以关注南通华林科纳半导体设备官网www.hlkncse.com;现在咨询400-8768-096,18913575037可立即免费获取华林科纳CSE提供的废气处理系统的相关方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
GMP自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-GMP自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-GMP自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形下可...
发布时间: 2017 - 12 - 06
研磨液自动供液系统-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-研磨液自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-研磨液自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形下可...
发布时间: 2016 - 03 - 07
SPM腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备。其中SPM自动清洗系统设备主要用于LED芯片制造过程中硅片表面有机颗粒和部分金属颗粒污染的自动清洗工艺。设 备 名  称南通华林科纳CSE-SPM腐蚀酸洗机适 用 领  域LED外延及芯片制造设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备基 本 介 绍主要功能:通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果可处理晶圆材料:硅 砷化镓 磷化铟 氮化镓 碳化硅 铌酸锂 钽酸锂等被清洗硅片尺寸:2-8寸(25片/蓝)设备形式:室内放置型操作形式:自动设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096;18913575037更多的全自动半导体SPM腐蚀清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8798-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
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随着我国经济的不断发展,化学包装桶的用量 和清洗回用量一直处于增长状态,南通华林科纳从管理角度我国 包装桶的清洗和再生基本划入危废处理范畴早, 由于包装桶收集、清洗、利用过程涉及化学物质众 多,这些化学物质具有腐蚀性、毒性、易燃性、反 应性,厂区安全生产和环境污条防治晃为重要叽 目前,除个别包装桶清洗企业外,大部分包装 桶清洗再生企业均存在安全隐患和环境污染问题, 大量不规范的企业及个人收集、清洗、出售包装 桶,造成含各种化学品的废水被随意排'放,一些容质量控制及安全生产等众多技术要求和规 范,从包装桶识别、收集、分类存放、余料收集、 分别清洗、废物处理处置,再生加工冬过程开展蔔 装桶清洁星产和污染防治,实现包装桶清洗行业的 源头减排、再利用、资源化和无害化化学包装桶清洗行业生产现状和问题.我国化学包装桶收集、清洗和再生利用行业包 含4类企业,一类是原料和产品生产企业,产品相 对单一,使用包装桶量大,回收自用同类包装桶, 这些企业一般有较完善处理处置设施;其次是具有 危废收集处理资质的大、中型综合包装桶清洗、再 生企业,具有较完善的处理处置设施,但由于包装 桶涉及化学物质复杂,或多或少的存在环境问题; 第三是非法收集和清洗企业,有一定规模,具有流 动性,隐蔽性强的特点,但部分也相对固定,没有 水处理设施或仅有简陋的水池,一般要实施有价余 料收集;此外,非法个人收集和非法企业...
发布时间: 2020 - 05 - 08
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简单介绍一下晶振。“石英晶振”就是用石英材料做成的石英晶振谐振器产生频率的作用,具有稳定,抗干扰性能良好,广泛应用于各种电子产品中。石英晶振是晶振中的一种,晶振的正确分类方法是石英晶振和陶瓷晶振,显而易见石英和陶瓷就是对晶振材质的区分。石英晶振 是一种用于稳定频率和选择频率的电子元件,已被广泛地使用在无线电话、载波通讯、广播电视、卫星通讯、数字仪表、钟表等各种电子设备中。晶体谐振器和晶体振荡器的区别石英晶体谐振器是一种无源晶体,石英晶体振荡器角度来说就是有源晶振。而无源晶体和有源晶振的区别就在于,前者无电压范围,后者有电压;再一个区别就在于后者的价格往往要高于前者价格的几倍。两个名次术语如同双胞胎,仅一字之差。而正是这一字之差使得两者的属性参数在电路板中都有着决然不同的角色。如何正确区分石英晶体谐振器和石英晶体振荡器简而言之即是晶体谐振器和晶体振荡器的差别在哪里,我们先不看它的材质。共同点:1、晶体谐振器和晶体振荡器都有贴片封装和插件封装。2、晶体谐振器和晶体振荡器使用范围都一致。通信,无线,GPS随处可见他们的身影。不同点:1、晶体振荡器价格往往要比晶体谐振器价格高。2、晶体振荡器参数有电压单位,晶体谐振器参数不会有电压单位。3、晶体振荡器脚位均是4脚以上包括4脚,晶体谐振器通常是2脚或者4脚,不会存在4脚以上的晶体谐振器。4、晶体振荡器的高度往往要高于晶体谐振器。5、...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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AR光波导随着光纤通信的飞速发展,作为光纤传输的理论基础—光波导理论也趋于完善与系统化。光波导,因其轻薄和外界光线的高穿透特性而被认为是消费级AR眼镜的必选光学方案,又因其价格高和技术门槛高让人望而却步。随着主流AR设备微软HoloLens2、Magic Leap One等对光波导技术的采用和设备量产,以及AR光学模组厂商DigiLens、耐德佳、灵犀微光等近期融资消息的频繁披露,导致光波导的讨论热度也持续增加了不少。光波导是如何工作的其实,波导技术并不是什么新发明,我们熟悉的光通信系统中,用来传输信号的光纤组成了无数条连接大洋彼岸的海底光缆,就是波导的一种,只不过传输的是我们看不见的红外波段的光。 光波导是集成光学重要的基础性部件,它能将光波束缚在光波长量级(微米纳料级)尺寸的介质中,目前硅基/石英基沉积二氧化硅光波导晶圆是应用最广泛的,虽然各种光波导晶圆工艺过程较为简单,没有半导体晶圆的套刻多层等工艺,但光波导晶圆由于要将光在波导中传播,任何细小的微变都是使光传播出现变化,目前国内外光波导晶圆生产都集中在生产四寸或六寸,这是由于晶圆越大,应力分布产生的翘曲使晶圆的良率不高从而无法进行生产,但是晶圆无论大小,生产过程的工艺步骤基本差不多,但单片大尺寸的晶圆的芯片颗粒大大多于单片小尺寸晶圆颗粒,所以大尺寸晶圆成本优势明显,用大尺寸晶圆生产的芯片成本是小尺寸晶圆生产的芯片成...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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2019年上半年接近尾声,华林科纳设备事业部喜讯频频。5月28日再次签下上海12寸晶圆产线晶圆项目的slurry供应系统千万大单,标志着华林科纳Slurry供应系统在大尺寸晶圆项目上取得新的突破。究竟什么是Slurry供应系统?在厂务化学系统中,与CMP制程关系最为密切的就是Slurry化学研磨液供应系统。Slurry供应系统是指无间断(24小时/天,365天/年)为CMP提供制程所需要的化学研磨液的系统。一旦厂务Slurry供应系统出现异常,将使CMP制程造成极为严重的损失,Slurry品质至关重要。这次客户选择华林科纳作为Slurry供应系统项目的合作对象,是对我们产品品质最大的认可。接下来,我们华林科纳也将会以最大能力保障客户Slurry供应系统的稳定性与安全性。
发布时间: 2019 - 05 - 29
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在华林科纳公司领导和各部门员工的不懈努力下,经过认证机构资深专家的现场审核,华林科纳半导体设备有限公司环境管理体系各方面实施效果均已达到ISO14001:2015标准的要求,顺利通过了ISO14001的认证审核,向华林科纳正式颁发ISO14001:2015环境管理体系认证证书。  作为国内著名的半导体湿制程设备供应商,华林科纳不仅追求在技术、产品质量、服务等各方面领先,而且积极履行对环境保护的社会义务,为全球环境与可持续发展做出贡献。 此次能顺利通过ISO14001:2015环境管理体系认证,是对华林科纳环境体系管理工作的高度肯定,今后将严格按照环境管理体系认证的要求,不断完善优化公司环境管理体系各项工作。
发布时间: 2019 - 04 - 22
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3月21日,华林科纳半导体与台湾弘塑科技签订战略合作协议。华林科纳、弘塑科技、三菱电机、香港应用科技研究院、文治资本、上海交通大学微电子学院均派出代表出席并见证了签约仪式。根据协议,双方将本着“强强联合、优势互补、合作共赢”的原则,积极推进在半导体湿制程领域的设备研发、制造、售后服务支持等方面合作,促进共同发展。↑ 签约仪式在签约仪式中,双方进行了友好交流。华林科纳半导体作为国内湿制程设备领域的优质供应商,业务范围涵盖了湿法清洗、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛应用于大规模集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、MEMS等领域。弘塑科技股份有限公司作为台湾半导体设备制造的领先品牌,此次与华林科纳半导体签约是双方友好合作的起点,要借此契机从长远性和战略性的高度,深化合作领域,加大8寸及12寸单片旋转清洗设备、电镀设备等高端设备的新产品研发、生产与销售。通过紧密和高效的合作,释放1+12的增值效益,携手探寻半导体设备领域的新发展。↑ 弘塑代表发言↑ 签约仪式现场
发布时间: 2019 - 04 - 18
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新南威尔士大学(The University of New South Wales),澳大利亚一所世界顶尖级研究学府,简称UNSW,创立于1949年,其主校区位于新州首府悉尼。新南威尔士大学素有“南半球的麻省理工”之称,其工程学院是澳大利亚规模最大的工程学院。据澳大利亚公布的最及影响力的百强工程师名单中,近四分之一毕业于新南威尔士大学。
发布时间: 2019 - 04 - 09
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清明节将至,公司举办了节前最后一期专业技术培训会系列学习活动,我们邀请了华林科纳配件合作伙伴刘礼达、尹卫卫先生,为公司同事们全面介绍了设备配件与耗材相关要点,包括PTFE、PFA等材料特性以及阀门配件的选型。参加培训的同事们积极讨论,表示为了能够全面的熟悉设备的每一个环节,以后还应该系统的学习专业知识,做好笔记,把握细节品质。今年是华林科纳树立产品标杆形象的一年,节后还将会有更多的业内专家走进华林科纳,展开相关领域的培训与分享。
发布时间: 2019 - 04 - 09
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SEMICON 展会刚刚结束,华林科纳的同仁们并没有就此可以放松下来。我们邀请了超声设备专家江捍忠先生,为第二期部门同事们提供了全新的超声波技术课程。课程涵盖了4个版块:超声波清洗定义及分类、超声波空化作用、发生器技术、兆声波清洗的原理。版块一:超声波清洗定义及分类在该版块中,超声设备专家江捍忠先生首先分享了工艺流程选择,指出在不同的工艺流程中采用多道超声波清洗,对高品位的磁性材料较为合适,能很好地保证后续的电镀质量。当然,加工企业应根据具体磁性材料和自己的操作条件来选择不同的清洗工艺流程。他提到声波是疏密波,在稀疏区域实际压强小于原来的静压强,在稠密区域实际压强大于原来的静压强,声压的周期性变化可以控制电流的周期性变化。版块二:超声波空化作用清洗效果是随着超声波功率密度增加而提高的。但过高的功率密度会由于空化作用过份强烈而引起被清洗件表面的浸蚀(即所谓空化腐蚀),从而使被清洗件表面受到损伤。这种现象尤其对工件上的各种镀层以及铝合金件更为突出。版块三:发生器技术超声波清洗设备主要由超声波发生器及清洗槽两大部分组成。在被清洗件批量较大的情况下,还附有清洗液循环装置;有时为了实现清洗过程自动化,还附有被清洗件传送装置。一般情况下,超声波发生器和清洗槽是两个结构上互相独立的装置,它们之间仅用一根电缆线连接起来,以传送电功率。但也有的超声波清洗设备是将发生器与清洗槽组合为一体的。版块四:兆...
发布时间: 2019 - 04 - 01
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3月22日,为期3天的SEMICON China 2019上海电子展正式落下帷幕,展会最后一天,展台内依旧人头攒动,热闹非凡。众多客商对华林科纳的湿制程设备、阀门器件表示出浓厚的兴趣,纷纷驻足观看,交流研究。作为湿制程设备专业制造商,在展会期间,华林科纳吸引了一波又一波的商客前来参观,现场高涨的人气无不在彰显着华林科纳的品牌实力。3月21日,华林科纳在SEMICON China 2019 展会结束之后,在上海世纪皇冠假日酒店举办半导体制造企业沙龙,来自政府、行业协会、业内专家、企业代表、媒体代表近百位嘉宾参加本次会议。本次企业沙龙致力于推动半导体湿制程工艺领域的信息交流与合作,整合创新资源,探索行业管理和科技服务的新模式,进一步促进产业发展与技术进步。现场气氛非常融洽。在会议现场,华林科纳与弘塑科技达成战略合作,双方签署了战略合作框架协议,一致同意就科研项目、科研平台、人才培养等方面实现技术和资源共享,实现互利共赢。非常感谢每一位光临华林科纳展台的业界朋友!感恩有您,携手共进!华林科纳参展SEMICON CHINA 2019完美收官,期待明年与您再次相遇!
发布时间: 2019 - 04 - 01
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