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发布时间: 2016 - 11 - 02
全自动湿法去胶清洗机-南通华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备 设备名称南通华林科纳CSE-全自动湿法去胶清洗机设备设备概况尺寸(参考):约3500(L)*1500(W)*2000(H)(具体尺寸根据实际图纸确定)清洗件规格:一次性可装8寸晶片25pcs典型生产节拍:5~10min/篮(清洗节拍连续可调)门:不锈钢合页门+PVC视窗主题构造特点设备由于是在一个腐蚀的环境,我们设备的排风方式,台面下抽风,每套工艺清洗槽都有自动开闭的槽盖,槽盖下有单独的抽风装置。设备结构外型,整机主要由机架、工艺槽体、机械手传输系统、排风系统、电控系统、水路系统及气路系统等组成。由于工艺槽内药液腐蚀性强,设备需要做防腐处理:(1)设备机架采用钢结构骨架包塑;(2)壳体采用镜面SUS316L不锈钢焊接,制程区由耐腐蚀的SUS316L板材组合焊接而成:(3)电气区设置在设备后上部,与湿区和管路区完全隔离;(4)槽体材料选用耐相应溶液腐蚀的材料;(5)机械手探人湿区部分的零部件表面喷氟或套PFA管处理。应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多全自动湿法去胶清洗机设备可以关注南通华林科纳半导体设备官网www.hlkncse.com;现在咨询400-8768-096,18913575037可立即免费获取华林科纳CSE提供的全自动湿法去胶清洗机设备的相关方案
发布时间: 2017 - 12 - 07
金属剥离清洗机-南通华林科纳CSE微机电系统(MEMS)是指用微机械加工技术制作的包括传感器/微致动器/微能源/等微机械基本部分以及高性能的电子集成线路组成的微机电器件与装置。其典型的生产工艺流程为:成膜工艺(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:溅射/电镀/掺杂:扩散 注入 退火)→光刻图形(旋涂/光刻/显影)→干法/湿法/ 刻蚀(湿法刻蚀/硅刻蚀/SiO₂刻蚀/去胶清洗/金属刻蚀/金属剥离/RCA清洗)设备名称南通华林科纳CSE-金属剥离清洗机设备系列CSE-CX13系列设备概况尺寸(参考):机台尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH(具体尺寸根据实际图纸确定)清洗量:6寸25装花篮2篮;重量:500Kg( 大约);工作环境:室内放置;主体构造特点外 壳:不锈钢304 板组合焊接而成。安全门:无安全门,采用敞开式设计;管路系统:药液管路采用不锈钢管,纯水管路采用CL-PVC管;阀门:药液管路阀门采用不锈钢电磁阀门;排 风:后下抽风,动力抽风法兰位于机台上部;水汽枪:配有水气枪各2把,分置于两侧;隔板:药液槽之间配有隔离板,防止药液交叉污染;照明:机台上方配照明(与工作区隔离);机台支脚:有滑轮装置及固定装置,并且有高低调整及锁定功能。三色警示灯置于机台上方明显处。工作槽参数剥离洗槽槽体:不锈钢316,有效尺寸405×220×260mm;化学药品:剥离洗液;药液供液:人工手动加入;工作温度:60℃并可调;温度可调;加热方式:五面体贴膜加热/投入式加热器加入热;液位控制:采用N2背压数位检测; 计时功能:工艺时间可设定,并可调,到设定时间后声鸣提示,点击按钮后开始倒序计时;批次记忆:药液使用次数可记忆,药液供入时间可记忆,设定次数和设定时间到后更换药液;排液:排液管道材质为不锈钢管,按钮控制;槽盖:配有手动槽盖;IPA槽槽体:不...
发布时间: 2016 - 12 - 05
管道清洗机设备—华林科纳CSE半自动石英管清洗设备适用于卧式或立式石英管清洗优点石英管清洗:卧式—标准/立式—选项 先进的图形化界面 极高的生产效率 最佳的占地 结合最先进工艺技术 优越的可靠性 独特的模块化结构 极其便于维修 应用 清洗不同尺寸的石英管一般特征 可编程使得清洗管旋转,清洗更干净 PVDF工艺槽 装有清洗溶剂的储备槽(根据使用化学品的数量)放置在工艺槽的后下方 — 直接注入且内部进行不断循环 特别的喷淋嘴更益于石英管清洗 集成水枪和N2抢 单独排液系统 安全盖子 易于操作和控制 节约用酸系统 全自动的清洗工艺步骤 备件 经济实惠的PP外壳材料—标准更多的石英管道清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
1、设备概况:主要功能:本设备主要采用手动搬运方式,通过对扩散、外延等设备的石英管、碳化硅管腐蚀、漂洗等方式进行处理,从而达到一个用户要求的清洗效果。主体采用德国劳士领 瓷白PP板,骨架采用不锈钢 外包PP 防腐板;设备名称:半自动石英管清洗机设备型号:CSE-SC-N401整机尺寸(参考):4500mm*1500mm*2100mm;被清洗炉管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物设备形式:室内放置型;节拍:约1--12小时(节拍可调根据实际工艺时间而定)      操作形式:半自动2、设备描述:此装置是一个半自动的处理设备。PROFACE 8.0英寸大型触摸屏显示 / 检测 / 操作清洗工作过程由三菱 / 欧姆龙PLC控制。3、设备特点: 腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作;结合华林科纳公司全体同仁之力,多年品质保障,使其各部分远远领先同类产品;设备上层电器控制系统及抽风系统,中层工作区,下层为管道安装维修区,主体结构由清洗机主体、酸洗槽、水清洗槽、防漏盘、抽风系统、工件滚动系统、氮气鼓泡系统、支撑及旋转驱动机构、管路部分、电控部分。本设备装有双防漏盘结构,并有防漏检测报警系统,在整台设备的底部装有接液盘。设备配有在槽体下方配有倾斜式防漏层。4、工艺流程:检查水、电、气正常→启动电源→人工上料→注酸→槽体底部氮气鼓泡→石英管转动(7转/min)→进入酸泡程序→自动排酸(到储酸箱)→槽体底部自动注水(同时气动碟阀关闭)→悬浮颗粒物经过溢流坝流出→排水碟阀打开(重颗粒杂质排出)→初级洁净水经过溢流坝溢出→清洗次数重复循环(人工控制)→下料。 酸洗和水洗在同一槽内完成1#,2#可通过循环泵循环使用...
发布时间: 2017 - 12 - 08
KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE  provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...
发布时间: 2017 - 12 - 08
WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...
发布时间: 2018 - 01 - 02
Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...
新闻中心 新闻资讯
2019年3月20-22日 ,SEMICON China 2019展览会将在上海新国际博览中心盛大开幕。在这一年一度的半导体行业盛会上,我们将展示最新的产品及最前沿的技术,并期待与业界专家交流市场商机,洽谈合作机会。在此,华林科纳诚挚邀请您莅临我们的展位!华林科纳展位号 【5584】▲华林科纳展位号  5584重点主推产品湿法清洗系统、刻蚀系统、CDS系统、尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品时间:2019年3月20-22日地址:上海新国际博览中心N5华林科纳展位号:5584与 您 不 见 不 散 !
发布时间: 2019 - 01 - 07
浏览次数:420
实验室常用的改进的RCA 清洗工艺1.水中超声清洗:灰尘、残余物去除2.浓硫酸、浓硫酸+双氧水:表面污染(有机物、重金属、微粒)      BHF去除氧化层 (to 疏水性)3.碱洗(双氧水、氨水、水):颗粒、有机物去除      BHF去除氧化层 (to 疏水性)4.酸洗(双氧水、盐酸、水):微粒、金属去除      BHF去除氧化层 (to 疏水性)5.超纯水淋洗:去除离子设备组成:  中央控制系统及晶圆输入端  串联式化学酸槽、碱槽及洗涤槽  检测系统,包括流量监测,温度检测,酸槽化学浓度校准  旋转、干燥设备南通华林科纳专业生产半导体湿法清洗设备包括RCA清洗设备,兆声清洗设备,超声清洗设备,更多详情可以关注http://www.hlkncse.com/ ,400-8768-096
发布时间: 2018 - 07 - 05
浏览次数:389
RCA清洗工艺是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,是去除硅片表面各类玷污的有效方法。南通华林科纳的工程师在本文中简单介绍了RCA清洗工艺的原理及应用。 随着半导体技术的发展,半导体器件和集成电路内各元件及连线越来越微细,因此制造过程中,尘粒、金属等的污染,对晶片内电路功能的损坏影响越来越大。因此在制作过程中除了要排除外界的污染源外,集成电路制造工艺过程中均需要对硅片表面进行清洗,以有效地使用化学溶液清除残留在硅片表面上的各种杂质。 硅片是半导体器件和集成电路中使用最广泛的基底材料,对其表面的清洗是整个硅片制造工艺中极为重要的环节之一。半导体领域中的湿式清洗技术是伴随设备的微小化及对产品质量要求的不断提高而提高的,是以 RCA 清洗技术为基本的框架,经过多年的不断发展形成。完全清洁的基片表面是实现高性能处理的第一步。如果基底表面不完全清洁,其他处理无论如何控制也达不到高质量的要求。 目前在国内,对硅片表面进行化学清洗的设备比较多,但大多属于手动设备,在实际应用过程中存在工艺一致性差、效率低下、无法适应大批量生产等缺点。国外进口的全自动 RCA 清洗机虽然性能优越,但售价非常昂贵,使众多半导体生产厂家望而却步。鉴于此,南通华林科纳CSE自主独立开发了全自动半导体RCA 清洗机,经过试验和用户使用验证,完全能达到用户的使用要求。&#...
发布时间: 2018 - 07 - 06
浏览次数:373
一.简介  兆声清洗是运用在半导体清洗设备中的一种比较新颖清洗技术,它不仅保存了超声波清洗的优点,而且克服了它的不足,它是由高频(900khz 可根据实际使用来定)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时,由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动,最大瞬时速度可达到30cm/s。因此,形成不了超声波清洗那样的气泡,而只能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。 二.作用兆声波清洗可去掉硅片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。目前兆声波清洗方法已成为抛光片清洗的一种有效方法。 三.结构兆声波清洗的结构主要可以分为放着清洗晶片的石英槽体、保证在清洗过程温度稳定的溢流外槽、产生兆声波的兆声振盒及其发生器、保证清洗槽体内温度的在线加热和根据设备使用中是否需要的自动供酸系统,是否有其他结构可根据实际使用来进行添加。 四.使用原理  兆声波清洗机是用在硅片清洗中的一种清洗技术,使用时首先要把清洗槽体和在线加热内注入适当的清洗的液体,注入的的方法可根据厂方的注液方式分为手动上液和自动上液,上液完成之后打开在线加热,使温度达到使用温度,温度达到时...
发布时间: 2018 - 07 - 03
浏览次数:402
湿法腐蚀清洗设备是集成电路、LED、太阳能、MEMS等芯片制造中必不可少的工艺设备,而为了更好的达到腐蚀效果,在各种腐蚀工艺中往往要配合药液的循环完成,从而达到更好的腐蚀均匀性。南通华林科纳半导体CSE工程师介绍了几种常用的腐蚀工艺循环原理及在湿法腐蚀清洗设备的典型应用。 关键词:工艺槽循环过滤; 湿法腐蚀清洗; 硅腐蚀;随着芯片制造特征尺寸的缩小,工艺水平的不断提高,对晶片腐蚀的均匀性,晶片表面颗粒及金属污染等洁净度指标提出了更高的要求,因此,湿法腐蚀清洗设备在采用晶片旋转、抖动、超声清洗、兆声清洗等的同时,业内普遍采用工艺槽循环过滤方式,来净化槽内药液,同时均匀流场保证药液浓度和温度的均匀性。1 湿法腐蚀的关键问题硅的湿法腐蚀在选择腐蚀工艺和腐蚀剂时,需考虑诸多因素影响(如浓度、时间、温度、搅拌等)的同时,需考虑以下几方面的问题:(1)腐蚀速率。较高的腐蚀速率将有效的缩短腐蚀时间,但所得到的腐蚀表面较粗糙。腐蚀液的浓度与腐蚀速率及腐蚀表面质量有关,当腐蚀液浓度较小时,腐蚀速率较大。(2)腐蚀选择性。选择性是指要腐蚀材料的腐蚀速率与不希望腐蚀的材料(如掩模)的腐蚀速率的比率。一般地,选择比越大越好。(3)腐蚀均匀性。在硅腐蚀表面各处,腐蚀速率常常不相等,造成腐蚀表面出现起伏等,腐蚀尺寸比较大时表现尤为明显。这与腐蚀液浓度有关,反应槽中腐蚀液的浓度一直...
发布时间: 2018 - 01 - 11
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在太阳能电池生产中,制绒是晶硅电池的第 一道工艺。华林科纳CSE的工程师提到对于单晶硅来说,制绒的目的就是延长 光在电池表面的传播路径,从而提高太阳能电池对光的吸收效率。单晶硅制绒的主要方法是用碱 (NaOH、KOH)对硅片表面进行腐蚀。由于硅片的 内部结构不同,各向异性的碱液制绒主要是使晶 向分布均匀的单晶硅表面形成类似“金字塔”状的 绒面,有效地增强硅片对入射太阳光的吸收,从而 提高光生电流密度。对于既可获得低的表面反射 率,又有利于太阳能电池的后续制作工艺的绒面, 应该是金字塔大小均匀,单体尺寸在 2~10 μm 之间,相邻金字塔之间没有空隙,即覆盖率达到 100%。理想质量绒面的形成,受到了诸多因素的 影响,如硅片被腐蚀前的表面状态、制绒液的组 成、各组分的含量、温度、反应时间等。而在工业生 产中,对这一工艺过程的影响因素更加复杂,例如 加工硅片的数量、醇类的挥发、反应产物在溶液中 的积聚、制绒液中各组分的变化等。为了维持生产 良好的可重复性,并获得高的生产效率。就要比较 透彻地了解金字塔绒面的形成机理,控制对制绒 过程中影响较大的因素,在较短的时间内形成质 量较好的金字塔绒面。单晶制绒的工艺比较复杂,不同公司有各自 独特的制绒方法。一般碱制绒有以下几种方法: NaOH+IPA、NaOH+IPA+NaSiO3、NaOH+CH3CH2OH 等。一般使用到的化学添加剂有两种,一...
发布时间: 2018 - 07 - 02
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集成电路湿法工艺的目的半导体集成电路制程主要以20世纪50年代以后发明的四项基础工艺(离子注入、扩散、外延生长及光刻)为基础逐渐发展起来,由于集成电路内各元件及连线相当微细,因此制造过程中,如果遭到尘粒、金属的污染,很容易造成晶片内电路功能的损坏,形成短路或断路等,导致集成电路的失效以及影响几何特征的形成。湿法工艺作用是在不破坏晶圆表面特性及电特性的前提下,有效地使用化学药液清除残留在晶圆上之微尘、金属离子、自然氧化层及有机物之杂质。  批处理清洗设备                         单晶圆清洗设备 集成电路工艺过程IC芯片主要工艺过程 湿法设备的应用湿法设备在8寸IC芯片制造过程中的应用集成电路湿法工艺IC芯片清洗工艺分类1. 前段灰化后清洗 35%     -硫酸过氧化混合液清洗(SPM Clean) 2.   热氧化前预清洗      &#...
发布时间: 2018 - 06 - 11
浏览次数:525
中国政府“十三五“规划草案,经济发展目标包括半导体等先进产业及在晶片材料、机器人、航空设备和卫星的次世代领域成为世界领先,研发经费将达GDP2.5%。那么半导体是怎么制造出来的?这里我们并不是探究从沙子到芯片的过程,而是聚焦于半导体生产制造的环境和生产设备。半导体芯片的生产通常要经历以下过程:半导体芯片生产工序这些高端精细的制备过程对芯片的生产环境和设备要求是极高的,这些机器设备会令硅芯片(如英特尔硅芯片)遭受超强真空处理、「化学浴」浸泡、高能等离子体加工、紫外光照射等一系列步骤,同时还要使硅芯片经过数百个制造阶段,从而将它们变成CPU、存储器片、图形处理器等。我们以美国应用材料公司的梅坦技术中心半导体生产环境和制备设备为例。 1.无尘室在进入研究中心以前,必须穿上防护服,戴上面具、护目镜、两幅手套以及将鞋完全套住的塑胶袋。这里不是生产车间,相反,这个无尘室只是模拟了晶圆厂的环境,应用材料公司的设备将在这种环境下使用,以便公司及其客户可以测试新技术和新工艺,然后真正将它们推向生产线。2.玻璃光掩膜 芯片制造的核心技术是平版印刷(光刻),这种技术就像是丝网印刷,只不过不是通过丝制模板将墨滚压至棉T恤上,而是通过玻璃光掩膜,使紫外光照射表面涂有光刻胶(一种有机化合物)的硅衬底上。在紫外光照射穿透的地方,光刻胶的化学特性会被削弱,使硅芯片表面留下图案。接着,硅芯片会被...
发布时间: 2018 - 06 - 09
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SEMICON China是中国首屈一指的半导体旗舰展览,每年吸引全球高数量和高质量的观众到场参观,包括企业高层领导人、采购商和投资人、技术工程师、中央及产业发展热点地区政府官员,是业界公认的会见新老供应商,洽谈生意,获取最新产品、技术和解决方案的首要平台。华林科纳CSE再次参加了2018年SEMICON China展会,展会期间参展了公司四大系列产品,其产品优势吸引了众多知名企业领导莅临参观,其中CSE单片清洗机、甩干机、自动供液系统以及黑硅制绒设备的技术方案在同行里优势凸显,多家企业意向预约前往公司生产基地参观。此次参展的圆满成功离不开合作伙伴和公司小伙伴们的支持,再次表示感谢,同时也邀请大家参加公司明年的展会,欢迎大家莅临参观指导。
发布时间: 2018 - 03 - 20
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长期以来,多晶太阳电池表面反射率较高的难题一直得不到有效解决,制约了电池效率的进一步提升。湿法黑硅技术成功解决了这一难题,该技术将来势必成为多晶电池的标配技术。         多晶电池效率的提升受制于表面反射率的降低。常规多晶主要采用酸制绒,形成蠕虫状的坑洞;而单晶采用碱制绒,形成金字塔结构的绒面。相比单晶电池,常规多晶电池的表面反射率高3%~5%(绝对值)。降低表面反射率是提高多晶电池效率的关键。成本方面,单晶硅片受益于金刚线切割工艺的推广,成本大幅下降;而多晶硅片金刚线线切的推广受制于电池制绒工艺的匹配,具体讲,金刚线线切多晶硅片使用常规制绒工艺后,反射率更高并有明显的线痕等外观缺陷,严重降低电池效率。南通华林科纳CSE开发的湿法黑硅制绒技术完美的解决以上问题,既能提升电池效率又能降低电池成本,是多晶电池继续进步的必由之路。 更过太阳能电池片湿法黑硅制绒机设备可以关注南通华林科纳半导体CSE网站:www.hlkncse.com
发布时间: 2017 - 05 - 24
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