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发布时间: 2016 - 03 - 10
太阳能硅片制绒腐蚀清洗机-CSE在光伏发电领域,由于多晶硅电池片成本较低,其 市 场 占有率已跃居首位,但相对于单晶硅电池片而言仍存在着反 射率较高、电池效率不足的缺陷。为缩小多晶硅太阳能电池 片与单晶硅太阳能电池片之间的差距,采用织构化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一条行之有效的途径。目前,多晶硅表面织构化的方法主要有机械刻槽、激光刻槽、反应离子体蚀刻、酸腐蚀制绒等,其中各 向同性酸腐制绒技术的工艺简单,可以较容易地整合到多晶 硅太阳能电池的生产工序中,同时成 本 最 低,因 而 在 大 规 模 的工业生产中得到了广泛的应用。更多的太阳能硅片制绒腐蚀清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 12 - 05
花篮/片盒清洗机-华林科纳CSE 完美适应当前所有型号的花篮和片盒、传输片盒、前端开口片盒(Foup片盒)的清洗和干燥系统优点装载晶圆直径至200mm的花篮和片盒—或不同晶圆尺寸的花篮和片盒,同时可装载晶圆直径至300mm的前端开口片盒(Foup片盒)三种设备尺寸满足客户特殊需求 CleanStep I – 用于4组花篮和片盒加载和清洗能力:每次4组花篮和片盒清洗产能:每小时12组花篮和片盒 CleanStep II – 用于8组花篮和片盒加载和清洗能力:每次8组花篮和片盒清洗产能:每小时24组花篮和片盒 CleanStep III – 用于6组前端开口片盒(Foup)加载和清洗能力:每次6组前端开口片盒(Foup片盒)清洗产能:每小时18组前端开口片盒(Foup片盒) 适用于晶圆直径至200mm的花篮和片盒的标准旋转笼(Cleanstep I/II) 适用于所有片盒一次清洗过程 或是同时4组花篮和片盒,或是12个花篮(Cleanstep I/II) 简单快捷的对不同尺寸的片盒和花篮进行切换 旋转笼内的可旋转载体方便加载或卸载花篮和片盒 通过控制系统对自锁装置的检测,达到安全加载片盒和花篮,及其运行特征和优点可应用不同化学品(稀释剂)来清洗 泵传输清洗液 计量调整可通过软件设置控制操作热水喷淋装置 热水一般由厂务供应 — 标准化 或有一个体积约100升的热水预备槽(循环泵和加热棒用于热水预备槽—选项) 笼子 带有可变速旋转的控制的高扭矩伺服电机(按照加载量和设备配置,最大旋转速度200rpm,) 旋转的不锈钢笼子 会自动停止工作(运行过程中出现失衡状态时)热空气干燥 顶端吹下热空气 采用根据设备待机和工艺运行模式的可调风量的风扇装置 不锈钢架上装有加热器,可以温度控制 软件监控温度 带有反压控制的高效过滤器辅助功能和操作控制 触摸屏安装在前面—标准化 也...
发布时间: 2016 - 03 - 07
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名  称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领  域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括:设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体:设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中;4.骨 架:钢骨架+PP德国劳施领板组合而成,防止外壳锈蚀。5.储物区:位于工作台面左侧,约280mm宽,储物区地板有漏液孔和底部支撑;6.安全门:前侧下开透明安全门,脚踏控制;7.工艺槽:模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险;8.管路系统:位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用白色NPP喷淋管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放;9.电气保护:电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的...
发布时间: 2017 - 12 - 19
片盒清洗机-华林科纳CSE 设备概况:主要功能:本设备主要手动/自动搬运方式,通过对片盒化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:片盒清洗机设备型号:CSE-SC-N259整机尺寸(参考):约1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(该设备非标定制)操作形式:手动 设备组成该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成 设备描述此装置是一个手动的处理设备;设备前上方有各阀门、工艺流程的控制按钮、指示灯、触摸屏(PROFACE/OMRON)、音乐盒等,操作方便;主体材料:德国进口 10mmPP 板,优质不锈钢骨架,外包 3mmPP 板防腐;台面板为德国 10mm PP 板;DIW 管路及构件采用日本进口 clean-PVC 管材,需满足 18MW去离子水水质要求;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明安全考虑:1. 设有 EMO(急停装置)2. 强电弱点隔离3. 所有电磁阀均高于工作槽体工作液面4. 设备排风口加负压检测表5. 设备三层防漏 漏盘倾斜 漏液报警 设备整体置于防漏托盘内 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096 18913575037可立即获取免费的片盒清洗机解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
自动供液系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2016 - 06 - 13
设备名称:晶棒腐蚀机---CSE产品描述:        ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统,抽风系统,电控及操作台等部分组成;         ●进口优质透明PVC活动门(对开/推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;         ●机械臂定位精度高;         ●整体设备腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;         ●设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作.         ●非标设备,根据客户要求具体定制,欢迎详细咨询!更多半导体清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
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清洗设备专业生产厂家华林科纳浅谈PP、PE废旧薄膜破碎清洗生产线 苏州华林科纳(CSE)PP、PE废旧薄膜破碎清洗回收生产线主要由:输送带,破碎机,磨擦清洗机、沉淀漂洗池、螺旋提升机、脱水机,风管干燥系统、料仓、控制面板等组成的。 PP、PE废旧薄膜破碎清洗回收生产线是通过引进、消化吸收国际同行业的先进理念和技术、并结合当今发展的需求和废塑料二次应用的特性研制开发而成的。是可以满足国内外对废塑料再生处理的环保要求。主要处理的料物是为PE/PP塑料,PE/PP塑料垃圾混杂物,废旧PP编织袋、、塑料袋,生活垃圾塑料、废旧农膜地膜。整条生产线从开始作业到成品、是可以非常容易的清洗废塑料制品。废脏农用薄膜、废包装材料或者硬塑料在这里一步步得到处理。整条生产线简洁而有效的设计使得流水线在国内外大受欢迎的。 严格按照CE认证要求的生产工艺使得机器的质量、安全性更加的可靠。PP、PE薄膜清洗设备产量:100—1000kg/h。 PP、PE废旧薄膜破碎清洗回收生产线、PP、PE薄膜破碎清洗设备、废旧薄膜清洗回收设备、废旧农膜地膜清洗设备、废旧塑料清洗设备、废旧塑料清洗生产线、废旧塑料清洗流水线专业生产厂家。
发布时间: 2016 - 05 - 31
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作为中国光伏行业主流媒体的MPV《现代光伏》杂志和全球太阳能光伏网在金秋欲交给行业一份不同的答卷。“PV TOP 50”自2010年开展以来,一直得到业内的积极参与和支持,已经成功地举办了四届。2014年度评选最终榜单于2014年12月18日发布,并举行颁奖典礼。活动始终坚持公开、公正、公平的评选原则,评审组委会成员来自国家政府、权威光伏行业学、协会的专家学者。为了提高活动的透明度和规范性,评选设置了公众投票和专家评审环节,整合参选标准、提高评选奖项含金量。多家行业媒体对此次评选进行全面报道,多方位的报道和推广了CSE苏州华林科纳半导体设备技术有限公司。
发布时间: 2016 - 05 - 31
浏览次数:151
---华林科纳CSE 小编随着超大规模集成电路的发展、集成度的不断提高、线宽的不断减小,对硅片表面的洁净度及表面态的要求也越来越高。要得到高质量的半导体器件,仅仅除去硅片表面的沾污已不再是最终的要求。在清洗过程中造成的表面化学态、氧化膜厚度、表面粗糙度等已成为同样重要的参数。目前,通常应用的清洗方法是湿式化学清洗法,苏州华林科纳半导体设备技术有限公司(CSE)多年经验专注于半导体湿式清洗工艺解决方案。即利用有机溶剂、碱性溶液、酸性溶液、表面活性剂等化学试剂,配合兆声、超声、加热等物理措施,使有机物、颗粒、金属等沾污脱离硅片表面,然后用大量的去离子水冲洗,获得洁净的硅片表面的清洗方法。沉积在硅片表面的粒子、金属、有机物、湿气分子和自然氧化膜的一种或几种而形成了硅片表面沾污;因为有机物会遮盖部分硅片表面,使氧化层和与之相关的沾污难以去除。 在湿式清洗工艺中,硅片表面都有一层化学氧化膜,这层氧化膜是主要的沾污源。如果没有这层氧化膜可大大降低金属、有机物等沾污。可用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗,可通过降低与周围环境的接触来获得一个理想的钝化表面,减少颗粒吸附在敏感的疏水性表面上。这就对清洗工艺设备提出了多方面的要求。目前华林科纳半导体设备公司(CSE)的清洗设备,则是将所有的清洗工艺步骤(清洗和干燥)结合在一个工艺槽中,大大地减少了硅片与空气的接触。将HF作为最后一道清...
发布时间: 2016 - 06 - 23
浏览次数:118
华林科纳针对所有客户提供专业、周到、全面的售后服务,销售人员不仅经常与客户电话联系,还会不定期上门回访客户。公司对每个销售人员都有规定,每成交一个客户都要定期的联系回访,以下是华林科纳销售人员近期对上海复旦大学的回访情况。      在回访过程中,回访人员必须做到以下两点:第一:将清洗设备经常碰到的一些问题以及注意事项都提前告知客户,并且讲解处理方法,避免客户在清洗产品的过程中遇到类似的情况不知如何处理,避免客户遇到问题时手忙脚乱,同时能减小对工作进度的影响,也可以确保设备的稳定性。  第二:回访客户时,回访人员在生产现场,可以仔细检查设备的现场运行情况,同时可以根据产品的清洗效果,分析设备是否运行良好,若清洗效果不达标,则可以现场分析原因,并制定合理的解决方案交予客户。通过现场回访,华林科纳可以真正地帮客户解决实际问题,保证了售后服务的效率和质量,华林科纳这样的售后服务得到了所有客户的一致认可。有些我们在生产现场无法解决的问题,我们回访的业务人员能第一时间的把这些问题详细记录下来带回公司认真研究及派专业的技术人员处理解决。
发布时间: 2013 - 11 - 29
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“水桶理论”已是老生常谈。企业要想做好、做强,必须从产品设计、价格政策、渠道建设、品牌培植、技术开发、财务监控、队伍培育、文化理念、战略定位等各方面一一做到位才行。任何一个环节太薄弱都有可能导致企业的最终失败。企业核心竞争力的大小往往取决于企业要素中最薄弱的环节。 在中国进入市场经济的最初阶段,市场还非常幼稚,竞争对手都非常幼嫩,不少企业借助某一个环节的运作特色,攻城掠地,不断取得骄人的战绩,这就使得不少企业和企业经营者产生一种错觉,认为某一环节的优势可以控制整个企业的命运。也就是说,很多人把企业经营管理中的必要条件看成是企业成功的充分条件了。 把必须做好的一部分当成整个经营管理系统的全部,势必造成其中诸多环节被忽视、被省略,至少很多重要环节的方方面面做不细、做不透。这是指导思想上的错误造成的细节差距。 比尔·盖茨常常说,微软距离破产永远只有18个月。从企业需要强调和重视管理细节的角度,我觉得企业稍大一点就存在此类风险。韩国的大宇700亿美元不能说不大,但说倒闭也就倒闭了。因为企业大,所以小事没有人做;因为事情不大,所以小事做不透。我愿意把工作中小事的失误比作一只有危害的老鼠,老鼠多了,破坏力巨大。中国的老鼠数量据说是人口的3倍,1990年的数据:吃掉的粮食30亿公斤,咬毁300万亩森林和3亿亩草原,咬伤至少10万人;在东海让海军的舰载导弹发...
发布时间: 2013 - 11 - 29
浏览次数:177
华林科纳FPD设备项目负责人—李丰博士表示,华林科纳已经具备了FPD设备与工艺整线配套能力,并与国内某知名企业签定战略合作协议。近两年,项目组在平板显示行业光电方面进行了显示方案、光电控制、光电测量、光学镀膜、光学胶合、器件产品、工艺工装、工程试验等产业化研究,掌握了其核心技术,并取得多项相关专利,其中包括大尺寸LED背光模组和新型彩色滤光片,这两个器件模组是液晶显示面板部件及材料成本的60%左右。华林科纳愿做FPD显示设备国产化的领路人,不断创新,积极进取,为客户提供一流的设备,先进的工艺和完善的服务。
发布时间: 2013 - 11 - 29
浏览次数:238
苏州华林科纳半导体技术设备有限公司(简称CSE),坐落于苏州工业园区,公司主要从事半导体、平板显示、太阳能光伏领域湿法制程设备的研发、生产与销售,产品性能居国际先进水平。公司以打造拥有独立自主知识产权的民族高科技企业为已任,以创建国际一流企业为愿景。现拥有南通研发生产制造基地及待建二期15300多平米制造基地。CSE拥有10多位技术研发人员、20多名机械设计人员以及10余名售后人员组成的高素质专业团队。作为国内高端湿法制程设备供应商,我们严格按照国际质量管理体系标准进行全员、全方位、全过程的运作,并于2008年通过了ISO9001:2000质量体系认证。CSE注重持续创新和技术改进,目前已成功申请十几项国家科研专利。作为一家快速崛起的电子设备制造商,CSE公司依托本地化的制造基础和便捷服务、国际化的经营理念和人才团队、先进的工艺试验条件和畅通的零部件供应渠道,使CSE核心竞争力不断加强。
发布时间: 2013 - 11 - 29
浏览次数:242
—来自华林科纳 网络部刻蚀的目的是把经曝光、显影后光刻胶微图形中下层材料的裸露部分去掉,即在下层材料上重现与光刻胶相同的图形。刻蚀方法分为:干法刻蚀和湿法刻蚀,干法刻蚀是以等离子体进行薄膜刻蚀的技术,一般是借助等离子体中产生的粒子轰击刻蚀区,它是各向异性的刻蚀技术,即在被刻蚀的区域内,各个方向上的刻蚀速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金属以及合金材料采用干法刻蚀技术;湿法刻蚀是将被刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术,这是各向同性的刻蚀方法,利用化学反应过程去除待刻蚀区域的薄膜材料,通常SiO2采用湿法刻蚀技术,有时金属铝也采用湿法刻蚀技术,国内的苏州华林科纳在湿法这块做得比较好。下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程:二氧化硅腐蚀:在二氧化硅硅片腐蚀机中进行,现在国内该设备(腐蚀机)做的比较好的是苏州华林科纳,它通过与国际上知名公司的广泛合作,目前已形成湿法清洗系统 刻蚀系统CDS系统 尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,腐蚀液是由HF、NH4F、与H2O按一定比例配成的缓冲溶液。腐蚀温度一定时,腐蚀速率取决于腐蚀液的配比和SiO2掺杂情况。掺磷浓度越高,腐蚀越快,掺硼则相反。SiO2腐蚀速率对温度最敏感,温度越高,腐蚀越快。具体步骤为:1、将装有待腐蚀硅片的片架放入浸润剂(FUJI FILM DRIWEL)中浸泡10—15S,上下晃动,浸润剂(FUJI FILM DRIWEL)...
发布时间: 2016 - 06 - 27
浏览次数:323
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