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发布时间: 2016 - 03 - 07
RCA湿法腐蚀清洗机设备——华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备设 备 名  称南通华林科纳CSE-RCA湿法腐蚀清洗机使 用 对 象硅晶片2-12inch适 用 领  域半导体、太阳能、液晶、MEMS等设 备 用 途硅晶片化学腐蚀和清洗的设备主体构造特点1. 设备包括:设备主体、电气控制部分、化学工艺槽、纯水清洗槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。2.设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中3.主体:设备为半敞开式,主体使用进口WPP15和10mm厚板材,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境,坚固耐用,双层防漏,机台底盘采用德国产瓷白PP板,热焊接而成,可长期工作在酸碱腐蚀环境中;4.骨 架:钢骨架+PP德国劳施领板组合而成,防止外壳锈蚀。5.储物区:位于工作台面左侧,约280mm宽,储物区地板有漏液孔和底部支撑;6.安全门:前侧下开透明安全门,脚踏控制;7.工艺槽:模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险;8.管路系统:位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用白色NPP喷淋管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过专用管道排放;9.电气保护:电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在机台顶部电控区,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的...
发布时间: 2017 - 12 - 19
片盒清洗机-华林科纳CSE 设备概况:主要功能:本设备主要手动/自动搬运方式,通过对片盒化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:片盒清洗机设备型号:CSE-SC-N259整机尺寸(参考):约1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(该设备非标定制)操作形式:手动 设备组成该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成 设备描述此装置是一个手动的处理设备;设备前上方有各阀门、工艺流程的控制按钮、指示灯、触摸屏(PROFACE/OMRON)、音乐盒等,操作方便;主体材料:德国进口 10mmPP 板,优质不锈钢骨架,外包 3mmPP 板防腐;台面板为德国 10mm PP 板;DIW 管路及构件采用日本进口 clean-PVC 管材,需满足 18MW去离子水水质要求;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明安全考虑:1. 设有 EMO(急停装置)2. 强电弱点隔离3. 所有电磁阀均高于工作槽体工作液面4. 设备排风口加负压检测表5. 设备三层防漏 漏盘倾斜 漏液报警 设备整体置于防漏托盘内 更多的花篮和片盒清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096 18913575037可立即获取免费的片盒清洗机解决方案。
发布时间: 2017 - 12 - 06
自动供液系统(CDS)-南通华林科纳CSEChemical Dispense System System 南通华林科纳半导体CSE-CDS自动供液系统 适用对象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本设备主要用于湿法刻蚀清洗等制程工程工序需要的刻蚀液集中进行配送,经管道至设备;具有自动化程度高,配比精确,操作简便等特点;具有良好的耐腐蚀性能。控制模式:手动控制模式、自动控制模式设备名称南通华林科纳CSE-CDS自动供液系统设备型号CSE-CDS-N2601设计基准1.供液系统(Chemical Dispense System System)简称:CDS2. CDS 将设置于化学房内:酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房;3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材,内部管路及组件采PFA 451 HP 材质;4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点;5. 过滤器:配有10” PFA材质过滤器外壳;6. 供液泵:每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸碱类采用一般型静电容近接开关;8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。CDS系统设备规格 1. 系统主要功能概述设备主要功能:每种化学液体配两个桶(自动切换)、配两台泵(一用一备)、带过滤器;系统控制单元:配带OMRON 8”彩色触摸屏,OMRON品牌PLC系统;2. 操作模式: CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制,操作介面以流程方式执行,兼具自动化与亲和力。在自动模式情形...
发布时间: 2016 - 06 - 13
设备名称:晶棒腐蚀机---CSE产品描述:        ●此设备自动化程度高,腐蚀清洗装置主要由水平通过式腐蚀清洗主体(槽体部分/管路部分等),移动机械传送装置,CDS系统,抽风系统,电控及操作台等部分组成;         ●进口优质透明PVC活动门(对开/推拉式),保证设备外部环境符合劳动保护的相关标准,以保证设备操作人员及其周围工作人员的身体健康;         ●机械臂定位精度高;         ●整体设备腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;         ●设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作.         ●非标设备,根据客户要求具体定制,欢迎详细咨询!更多半导体清洗设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlcas.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
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9月8日,2018年“未来科学大奖”揭晓。李家洋、袁隆平、张启发三人因水稻新品种方面的贡献摘得“生命科学家”;马大为、冯小明、周其林三人因新催化剂和新反应方面的创造性贡献摘得“物质科学奖”;台积电传奇林本坚因持续扩展纳米级集成电路制造摘得“数学与计算机科学奖”。每项奖的奖金总额为100万美元。▲首位台湾得主这个由民间科学公益组织未来论坛发起、12位知名企业家和投资者捐赠的中国民间科学大奖已走到第三届。它的宗旨是奖励在大中华地区做出具有国际影响力的原创科研工作的科学家。美国Scripps 研究所化学系教授余金权表示,人才储备是中国的一个优势,现在也有很多鼓励外国优秀人才来华的措施。未来科学大奖本质上是为了奖励科学,“不管你是哪里人,只要是在中国作出了科学贡献,都有机会拿这个奖。”本届未来科学大奖出现了首位来自中国台湾的获奖者。在现场电话连线时,曾为台积电研发副总裁的林本坚说道:“我本来以为,大陆比较不知道这件事,现在我知道,大陆也很清楚我在半导体、电子上做的一点小小的贡献。”其实,林本坚所做的确实是“小小的贡献”:他开拓了浸润式微影系统方法,持续扩展纳米级集成电路制造,将摩尔定律延伸多代。所谓摩尔定律,由英特尔的创始人之一戈登·摩尔提出。其内容为:当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件数目,约每隔18-24个月便会增加一倍。从笨重的大型电脑到掌上轻巧的智能手机,摩尔定律的魔...
发布时间: 2018 - 09 - 10
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参考消息网9月10日报道 台媒称,大陆半导体产业尽管在尖端制程技术还与发达国家有一段差距,但近几年来的快速发展仍有目共睹。据恒大研究院最新发表的研究报告指出,大陆集成电路的产销金额年增率近25%,半导体产业发展迅猛,第三次产业转移的趋势正在向大陆靠拢。据台湾《旺报》9月7日报道,恒大研究院指出,就现阶段的半导体产业发展来看,2017年全球半导体市场销售额达4122亿美元,年增21.6%,其中集成电路年增率高达83.25%,几乎等同领跑整个半导体业。第三次产业转移 结构迈向高端化报道称,从产业链观察,上游设备材料消耗以韩国(年增31.71%)居首,其次是则台湾地区的21.9%,大陆则排第三。但在供应商方面,前10名厂商被美国、日本、韩国、台湾地区垄断,合计市场占有率达90%,无一是大陆厂商。不过,大陆的半导体业在上述统计数字中虽然暂居劣势,但这个态势在未来或将改变。报告指出,从历史进程看,全球范围完成两次明显的半导体产业转移:第一次为19世纪70年代从美国转向日本,第二次则从80年代转向韩国与台湾地区,而目前,这个产业转移正逐渐转向大陆。报道称,恒大研究院经济学家连一席指出,大陆的集成电路发展在近年的趋势相当迅猛,第三次产业转移正趋向大陆。据资料统计,2017年大陆集成电路产业销售额达5411.3亿人民币,年增24.81%。产业结构更从“大封测─中制造─小设计”向“大设计─中封测─中...
发布时间: 2018 - 09 - 10
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集成电路产业大多环节需要十年以上的积累方显成效,涌入的资金并不能在短期内全面提升行业的技术、产业竞争力,相反,越来越多的企业开始感受到资本“过热”带来的煎熬。在“风口”上站了接近三年之后,中国集成电路产业依然受资本热捧。并且,中兴事件之后,越来越多的地方政府、社会资本介入集成电路产业。2018年两会之后,国内提出发展集成电路产业的主要城市已经达到30个,其中多地政府成立了集成电路产业发展基金,预计募集基金规模已经超过3000亿元。但是,集成电路产业大多环节需要十年以上的积累方显成效,涌入的资金并不能在短期内全面提升行业的技术、产业竞争力,相反,越来越多的企业开始感受到资本“过热”带来的煎熬。“很多新公司成立、有积累的公司也要扩张,高价挖人随处可见。”在近日召开的2018集微半导体峰会上,多家集成电路企业人士告诉21世纪经济报道记者,“突然之间就感受到了人才成本的快速上涨,尤其是关键人才,都在抢。大陆半导体的人才成本已经超过了台湾地区,而上海半导体人才的薪水已经快逼近硅谷。”长期的落后使得中国集成电路一直维持着相对分散的格局,产业集中度远远落后于美国、中国台湾地区。引导人才、资本、技术、市场份额向优势企业集中是国内集成电路产业发展的必经之路,但现在,陆续涌入但相对分散的资本已经渐渐偏离了主航道。“一哄而上”的资源错配根据中国半导体协会数据,2017年,中国前十大集成电路设计公司总收入...
发布时间: 2018 - 09 - 08
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新华社北京9月6日电(记者胡喆)记者从科技部公布的信息了解到,近日科技部高新司在北京组织召开“十二五”期间863计划重点支持的“第三代半导体器件制备及评价技术”项目验收会。项目重点围绕第三代半导体技术中的关键材料、关键器件以及关键工艺进行研究,开发出基于新型基板的第三代半导体器件封装技术,并实现智能家居演示系统的试制。专家介绍,以氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)为代表的第三代半导体材料,具备高击穿电场、高热导率、高电子饱和速率及抗强辐射能力等优异性能,更适合于制作高温、高频、抗辐射及大功率电子器件,在光电子和微电子领域具有重要的应用价值。据悉,项目为满足对应高性能封装和低成本消费级封装的需求,研制出高带宽氮化镓发光器件及基于发光器件的可见光通信技术,并实现智能家居演示系统的试制;开展第三代半导体封装和系统可靠性研究,形成相关标准或技术规范;制备出高性能碳化硅基氮化镓器件。通过项目的实施,我国在第三代半导体关键的碳化硅和氮化镓材料、功率器件、高性能封装以及可见光通信等领域取得突破,自主发展出相关材料与器件的关键技术,有助于支撑我国在节能减排、现代信息工程、现代国防建设上的重大需求。来源:新华网延展阅读★华林科纳公司简介★华林科纳行业新闻★华林科纳产品中心★华林科纳人才招聘★半导体小课堂
发布时间: 2018 - 09 - 08
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今年是集成电路(IC)发明60周年,过去60年来,装载着IC的电脑、笔电、手机与网路,让资讯运算能力大幅提升,也大大改变了人类的生活模式。人类生活模式的改变,特别是沟通与接收讯息方式,又进一步迫使IC运算能力必须相对提升。集成电路的发展速度飞快,20多年前,一颗IC的尺寸是1微米,几乎是现今的100倍,储存容量相差达万倍以上。过去,一台电脑几乎要一个房间才能容纳得下,如今,一支小小手机上的芯片功能就已超越过去电脑的运算能力。虽然每隔1~1.5年,半导体芯片功能可强大两倍的摩尔定律,在未来十年内仍然有效,不过,也有很多人担心尽头即将到来。当传统硅芯片透过曝光、显影等制程技术而来到极限时,下一步,人类该如何让半导体芯片功能继续强大呢?透过异构整合技术的非传统芯片,成了市场开始思考的解决出路。异构整合,指的是将不同芯片透过封装或其他技术放在一起,使芯片功能更强大。不只符合半导体产业对缩小体积的追求,将不同功能的IC透过封装与半导体制程,整合到另外一片硅晶圆或其他半导体材料上,可提高设计开发的效率,还能突破硅物理限制,将硅材料应用到不同领域。例如,过去存储器与中央处理器的芯片是分开的,如今,两者整合已成为趋势。不仅如此,包括把传感器与非硅材如LED或通讯芯片等结合在一起,也是现在半导体产业的热门方向。一般说来,异质整合具备两大优势:第一,在进行IC设计时,不需要把所有功能设计在同一个芯片上...
发布时间: 2018 - 09 - 07
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2017年以来,受存储器价格上涨等因素支撑,全球半导体经历了一轮高增长的景气周期。可是,进入2018年下半年业界对市场的未来走势开始出现分歧,部分业者谨慎看待后市,半导体市场2018年下半年及2019年恐将面临减速,甚至是遇上“乱流”。景气周期峰值已过,下半年将减速?2017年全球半导体市场同比增长21.6%,市场规模达到4122亿美元,成为近段时期少见的高增长。受此趋势带动,今年年初之际,各个分析机构对于2018年市况均给予了相对乐观的预测:IC Insights预测,2018年全球半导体销售收入可达5091亿美元,同比增长14.00%;Gartner预测,销售收入4510亿美元,同比增长7.6%;SIA预测,销售收入4634亿美元,同比增长12.4%。而2018年上半年的走势也大体印证了这一判断。根据SIA公布的数字,受益于DRAM价格继续维持相对高位,2018年第二季度全球半导体销售额达到1179亿美元,同比增长20.4%,较2018年第一季度环比增长6.00%。然而进入下半年后,业界对市场未来走势开始出现不同声音。摩根士丹利在报告中警告,芯片厂商的库存逼近十年的最高水平,行业已出现过热迹象。设备业是半导体业的“晴雨表”。全球最大的半导体设备公司应用材料公司股价由2018年3月时的62美元,至8月时为43美元,下跌近30%,表明公司今年的业绩不容乐观。SEMI公布的最新Bil...
发布时间: 2018 - 09 - 07
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晶圆代工业者陆续释出今年第3季旺季不旺讯息,国际半导体产业协会(SEMI)公布最新半导体设备出货报告,6月北美半导体设备制造商出货金额为24.8亿美元,比5月下滑8%,虽比去年同期成长8.1%,却是今年首见出货下滑,反映半导体厂下半年资本支出趋保守。SEMI表示,整体来看今年每月出货金额仍优于去年同期,还是对今年半导体市场景气表示乐观。整体销售还将增长国际半导体产业协会(SEMI)日前发布年中预测报告,表示2018年全球半导体设备销售金额将成长10.8%,达 627亿美元,超越去年所创下566亿美元的历史高点。2019年全球半导体设备市场销售金额可望续创新高,预计将成长7.7%,达到676亿美元。SEMI年中预测报告指出,2018年“晶圆处理设备”预计将成长11.7%,达到508亿美元。“其他前端设备”,包括晶圆厂设备、晶圆制造,以及光罩/倍缩光罩设备,预计将成长12.3%,达到28亿美元。2018年“封装设备”预计将成长8.0%,达到42亿美元,“半导体测试设备”今年预计成长3.5%,达到49亿美元。以各区域市场来看,2018年韩国将连续第二年蝉联全球最大设备市场,中国今年首次位居第二,台湾第三。在成长率部分,SEMI台湾区总裁曹世纶表示,中国市场在外资企业的积极投资下,今年的成长幅度最大(43.5%),其次分别为日本(32.1%)、东南亚(19.3%)、欧洲(11.6%)、北美...
发布时间: 2018 - 09 - 06
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上一期给大家讲解了关于半导体硅片清洗设备及装置,接下来我相信大家也很想了解一下关于,半导体晶圆自动清洗设备的主要部件的设计:晶圆清洗主要去除吸附在晶圆表面的各种杂质粒子,如微粒、有机物、无机金属离子等,使晶圆的表面洁净度达到 ULSI 工艺要求。 湿法晶圆清洗的原理是使用各种化学药液与晶圆表面各种杂质粒子发生化学反应,生成溶于水的物质,再用高纯水冲洗,依次去除晶圆表面各杂质。一、加热酸槽设计在半导体清洗工艺中,有些化学试剂在处理晶圆时,对温度有要求,通常,需要进行加热,如SC1、SC2 在 RAC 清洗工艺中就要求温度在 70~80 ℃ 。我们在选择这些加热酸槽材质时,一般选用石英材质。加热酸槽一般由石英槽体、加热器、液位保护装置、温度检测装置、排放装置及电气控制装置等主要部分组成。由于我们所设计的加热器是内置投放式,故对所选加热器的要求比较高,不仅能耐酸,而且还要求能耐高温。 我们所选加热器所有的加热丝及其导线都是用 PFA 包裹起来的, 而且外包的 PFA 材质十分洁净,不会对酸液有所污染。 加热器的加热功率根据槽体的容积选取。由于加热器是置于槽体底部,所以,液位保护装置优为重要。 液位保护装置主要用于检测石英槽内是否有酸液,防止加热器在没有酸液的情况下工作而发生危险。 温度检测装置主要用于检测石英槽内酸液的温度, 将检测的温度信号反馈给温度器,由温控器实现温度控制。...
发布时间: 2018 - 09 - 05
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我国是全球第二大经济体,经济发展已经迈上高质量发展阶段。提高关键核心技术创新能力,关乎经济高质量发展和国家民族未来。中兴事件的兴起,中美贸易事件的发酵,反面折射出了半导体等核心零部件技术的薄弱,一时引起了社会尤其中国科技界的深思。要想摆脱“卡脖子”的残酷命运,我国高端核心技术的发展还需要更多自主创新。材料强国是科技强国的基础,第三代半导体材料扮演着愈发关键的角色,也正日益成为国际、国内科技和产业竞争的核心领域之一。基于高击穿电场、高热导率、高电子饱和速率及抗强辐射能力等优异性能,第三代半导体材料更适合于制作高温、高频、抗辐射及大功率电子器件。在移动通讯、能源互联网、新能源汽车、轨道交通、以至国防军备等产业,日逐成为美、欧、日各国竞相布局的重要领域。目前,我国第三代半导体已列入2030年国家新材料重大项目七大方向之一,正处于研发及产业化发展的关键期。打破垄断、提高国产化率生产,力争实现半导体设备自主可控。为此,《“十三五”材料领域科技创新专项规划》、《半导体照明节能产业发展意见》、《半导体照明节能产业规划》、《半导体管特性图示仪校准仪校准规范》、《半导体照明设备和系统的光辐射安全测试方法》等国家政策、方法标准密集发布,在促进半导体产业发展方面成效显著。近日,863计划“第三代半导体器件制备及评价技术”项目通过验收。项目开发出基于新型基板的第三代半导体器件封装技术;开展第三代半导体封装...
发布时间: 2018 - 09 - 05
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国产化率低、政策大力支持发展半导体设备链是支撑半导体行业的上游基础子产业,投资价值巨大,按生产工艺流程可分为前段硅片制备、中段晶圆加工、后段封装测试。硅片制备需要设备为减薄机、单晶炉、研磨机等;晶圆加工环节则需要热处理设备、光刻机、刻蚀机、离子注入设备、CVD/PVD设备、清洗设备等;在封装测试环节需要切割机、装片机、键合机、测试机、分选机、探针台等设备;此外,还需要洁净室等设备作为辅助设备。从品类上看,半导体设备则可分为晶圆处理设备、封装设备、测试设备和其他设备,其他设备包括硅片制造设备、洁静设备、光罩等。这些设备分别对应集成电路制造、封装、测试和硅片制造等工序,分别用在集成电路生产工艺的不同工序里。由于国际巨头垄断着全球高端设备市场,目前,我国半导体设备普遍国产化率很低,如光刻机、离子注入设备、氧化扩散设备国产化率均低于10%,刻蚀机约10%,CVD/PVD设备约10%-15%,封测设备国产化率普遍小于20%。为此,打破垄断、提高国产化率是当务之急,力争实现半导体设备自主可控。在此背景下,国家产业政策大力支持,出台了02专项,即国家“极大规模集成电路制:造技术及成套工艺”项目,在“十二五”期间着重进行了45-22纳米关键制造装备攻关,开发32-22纳米互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺、90-65纳米特色工艺,开展22-14纳米前瞻性研究,形成65-45纳米装备、材料、工艺配...
发布时间: 2018 - 09 - 05
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