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发布时间: 2016 - 11 - 02
全自动湿法去胶清洗机-南通华林科纳CSE华林科纳CSE湿法处理设备是国内最早致力于集成电路湿法设备的研制单位,多年来与众多的集成电路生产企业密切合作,研制开发出适合于4吋-8吋的全自动系列湿法处理设备 设备名称南通华林科纳CSE-全自动湿法去胶清洗机设备设备概况尺寸(参考):约3500(L)*1500(W)*2000(H)(具体尺寸根据实际图纸确定)清洗件规格:一次性可装8寸晶片25pcs典型生产节拍:5~10min/篮(清洗节拍连续可调)门:不锈钢合页门+PVC视窗主题构造特点设备由于是在一个腐蚀的环境,我们设备的排风方式,台面下抽风,每套工艺清洗槽都有自动开闭的槽盖,槽盖下有单独的抽风装置。设备结构外型,整机主要由机架、工艺槽体、机械手传输系统、排风系统、电控系统、水路系统及气路系统等组成。由于工艺槽内药液腐蚀性强,设备需要做防腐处理:(1)设备机架采用钢结构骨架包塑;(2)壳体采用镜面SUS316L不锈钢焊接,制程区由耐腐蚀的SUS316L板材组合焊接而成:(3)电气区设置在设备后上部,与湿区和管路区完全隔离;(4)槽体材料选用耐相应溶液腐蚀的材料;(5)机械手探人湿区部分的零部件表面喷氟或套PFA管处理。应用领域集成电路、声表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先进封装等设备制造商南通华林科纳半导体设备有限公司 www.hlkncse.com 400-8768-096 ;18913575037更多全自动湿法去胶清洗机设备可以关注南通华林科纳半导体设备官网www.hlkncse.com;现在咨询400-8768-096,18913575037可立即免费获取华林科纳CSE提供的全自动湿法去胶清洗机设备的相关方案
发布时间: 2017 - 12 - 07
金属剥离清洗机-南通华林科纳CSE微机电系统(MEMS)是指用微机械加工技术制作的包括传感器/微致动器/微能源/等微机械基本部分以及高性能的电子集成线路组成的微机电器件与装置。其典型的生产工艺流程为:成膜工艺(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:溅射/电镀/掺杂:扩散 注入 退火)→光刻图形(旋涂/光刻/显影)→干法/湿法/ 刻蚀(湿法刻蚀/硅刻蚀/SiO₂刻蚀/去胶清洗/金属刻蚀/金属剥离/RCA清洗)设备名称南通华林科纳CSE-金属剥离清洗机设备系列CSE-CX13系列设备概况尺寸(参考):机台尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH(具体尺寸根据实际图纸确定)清洗量:6寸25装花篮2篮;重量:500Kg( 大约);工作环境:室内放置;主体构造特点外 壳:不锈钢304 板组合焊接而成。安全门:无安全门,采用敞开式设计;管路系统:药液管路采用不锈钢管,纯水管路采用CL-PVC管;阀门:药液管路阀门采用不锈钢电磁阀门;排 风:后下抽风,动力抽风法兰位于机台上部;水汽枪:配有水气枪各2把,分置于两侧;隔板:药液槽之间配有隔离板,防止药液交叉污染;照明:机台上方配照明(与工作区隔离);机台支脚:有滑轮装置及固定装置,并且有高低调整及锁定功能。三色警示灯置于机台上方明显处。工作槽参数剥离洗槽槽体:不锈钢316,有效尺寸405×220×260mm;化学药品:剥离洗液;药液供液:人工手动加入;工作温度:60℃并可调;温度可调;加热方式:五面体贴膜加热/投入式加热器加入热;液位控制:采用N2背压数位检测; 计时功能:工艺时间可设定,并可调,到设定时间后声鸣提示,点击按钮后开始倒序计时;批次记忆:药液使用次数可记忆,药液供入时间可记忆,设定次数和设定时间到后更换药液;排液:排液管道材质为不锈钢管,按钮控制;槽盖:配有手动槽盖;IPA槽槽体:不...
发布时间: 2016 - 12 - 05
管道清洗机设备—华林科纳CSE半自动石英管清洗设备适用于卧式或立式石英管清洗优点石英管清洗:卧式—标准/立式—选项 先进的图形化界面 极高的生产效率 最佳的占地 结合最先进工艺技术 优越的可靠性 独特的模块化结构 极其便于维修 应用 清洗不同尺寸的石英管一般特征 可编程使得清洗管旋转,清洗更干净 PVDF工艺槽 装有清洗溶剂的储备槽(根据使用化学品的数量)放置在工艺槽的后下方 — 直接注入且内部进行不断循环 特别的喷淋嘴更益于石英管清洗 集成水枪和N2抢 单独排液系统 安全盖子 易于操作和控制 节约用酸系统 全自动的清洗工艺步骤 备件 经济实惠的PP外壳材料—标准更多的石英管道清洗机设备相关资讯可以关注华林科纳CSE官网(www.hlkncse.com),现在热线咨询400-8768-096可立即获取免费的半导体清洗解决方案。
发布时间: 2016 - 03 - 14
1、设备概况:主要功能:本设备主要采用手动搬运方式,通过对扩散、外延等设备的石英管、碳化硅管腐蚀、漂洗等方式进行处理,从而达到一个用户要求的清洗效果。主体采用德国劳士领 瓷白PP板,骨架采用不锈钢 外包PP 防腐板;设备名称:半自动石英管清洗机设备型号:CSE-SC-N401整机尺寸(参考):4500mm*1500mm*2100mm;被清洗炉管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物设备形式:室内放置型;节拍:约1--12小时(节拍可调根据实际工艺时间而定)      操作形式:半自动2、设备描述:此装置是一个半自动的处理设备。PROFACE 8.0英寸大型触摸屏显示 / 检测 / 操作清洗工作过程由三菱 / 欧姆龙PLC控制。3、设备特点: 腐蚀漂洗能力强,性能稳定,安全可靠;设备成本合理,自动化程度高,使用成本低;技术先进,结构合理,适宜生产线上大批次操作;结合华林科纳公司全体同仁之力,多年品质保障,使其各部分远远领先同类产品;设备上层电器控制系统及抽风系统,中层工作区,下层为管道安装维修区,主体结构由清洗机主体、酸洗槽、水清洗槽、防漏盘、抽风系统、工件滚动系统、氮气鼓泡系统、支撑及旋转驱动机构、管路部分、电控部分。本设备装有双防漏盘结构,并有防漏检测报警系统,在整台设备的底部装有接液盘。设备配有在槽体下方配有倾斜式防漏层。4、工艺流程:检查水、电、气正常→启动电源→人工上料→注酸→槽体底部氮气鼓泡→石英管转动(7转/min)→进入酸泡程序→自动排酸(到储酸箱)→槽体底部自动注水(同时气动碟阀关闭)→悬浮颗粒物经过溢流坝流出→排水碟阀打开(重颗粒杂质排出)→初级洁净水经过溢流坝溢出→清洗次数重复循环(人工控制)→下料。 酸洗和水洗在同一槽内完成1#,2#可通过循环泵循环使用...
发布时间: 2017 - 12 - 08
KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE  provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...
发布时间: 2017 - 12 - 08
WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...
发布时间: 2018 - 01 - 02
Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...
新闻中心 新闻资讯
简单介绍一下晶振。“石英晶振”就是用石英材料做成的石英晶振谐振器产生频率的作用,具有稳定,抗干扰性能良好,广泛应用于各种电子产品中。石英晶振是晶振中的一种,晶振的正确分类方法是石英晶振和陶瓷晶振,显而易见石英和陶瓷就是对晶振材质的区分。石英晶振 是一种用于稳定频率和选择频率的电子元件,已被广泛地使用在无线电话、载波通讯、广播电视、卫星通讯、数字仪表、钟表等各种电子设备中。晶体谐振器和晶体振荡器的区别石英晶体谐振器是一种无源晶体,石英晶体振荡器角度来说就是有源晶振。而无源晶体和有源晶振的区别就在于,前者无电压范围,后者有电压;再一个区别就在于后者的价格往往要高于前者价格的几倍。两个名次术语如同双胞胎,仅一字之差。而正是这一字之差使得两者的属性参数在电路板中都有着决然不同的角色。如何正确区分石英晶体谐振器和石英晶体振荡器简而言之即是晶体谐振器和晶体振荡器的差别在哪里,我们先不看它的材质。共同点:1、晶体谐振器和晶体振荡器都有贴片封装和插件封装。2、晶体谐振器和晶体振荡器使用范围都一致。通信,无线,GPS随处可见他们的身影。不同点:1、晶体振荡器价格往往要比晶体谐振器价格高。2、晶体振荡器参数有电压单位,晶体谐振器参数不会有电压单位。3、晶体振荡器脚位均是4脚以上包括4脚,晶体谐振器通常是2脚或者4脚,不会存在4脚以上的晶体谐振器。4、晶体振荡器的高度往往要高于晶体谐振器。5、...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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据中国台湾媒体报道,韩国产业通商资源部昨(20)日宣布,韩国化学大厂SKC目前正对用于半导体制程的光罩基板(Mask Blank)的试作样品展开测试,预计2020年下半年正式展开量产。据报导,韩国的半导体制造中,其光罩基板约90%依赖日本供应,同时光罩基板也是韩国大量进口自日本的20种高科技材料之一,韩国政府希望在20种主要材料、零件、设备,能脱离对日货的倚赖,而光罩基板就名列其中。资料显示,SKC与SK海力士同属于SK集团旗下,自1976年成立以来,在韩国最早开发及生产了不计其数的薄膜、化学、材料领域的产品,其核心部门为薄膜和化学部门。自2018年开始,SKC已投入430亿韩元(约3500万美元)用于建设光罩基板厂,并于2019年建成,SKC不仅计划在2020年内开始光罩基板的量产,同时也计划在2021年量产更高端的产品。2019年7月,日本经济产业省宣布,将对用于智能手机及电视机的半导体等制造过程中需要的三种材料加强对韩国的出口管制,这三种材料分别为用于半导体清洗的氟化氢、用于智能手机显示屏等的氟化聚酰亚胺,以及涂覆在半导体基板上的感光剂“光刻胶”。对此,韩国也出台了相关措施以应对日本针对韩国的出口管制措施。如提出了100大核心战略产品国产化计划,将投入7.8万亿韩元的研发费用,在1至5年内实现核心战略产品国产化,而韩国企业也在加速在该领域的国产化。2019年,外媒曾报道,SK...
发布时间: 2020 - 04 - 21
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HIT电池具有发电量高、度电成本低的优势,具体特点如下:(1)低温工艺HIT电池结合了薄膜太阳能电池低温(900℃)扩散工艺来获得p-n结。这种技术不仅节约了能源,而且低温环境使得a_Si:H基薄膜掺杂、禁带宽度和厚度等可以较精确控制,工艺上也易于优化器件特性;低温沉积过程中,单品硅片弯曲变形小,因而其厚度可采用本底光吸收材料所要求的最低值(约80μm);同时低温过程消除了硅衬底在高温处理中的性能退化,从而允许采用“低品质”的晶体硅甚至多晶硅来作衬底。 高温环境下发电量高,在一天的中午时分,HIT电池的发电量比一般晶体硅太阳电池高出8-10%,双玻HIT组件的发电量高出20%以上,具有更高的用户附加值。(2)双面电池HIT是非常好的双面电池,正面和背面基本无颜色差异,且双面率(指电池背面效率与正面效率之比)可达到90%以上,最高可达96%,背面发电的优势明显。(3)高效率HIT电池独有的带本征薄层的异质结结构,在p-n结成结的同时完成了单晶硅的表面钝化,大大降低了表面、界面漏电流,提高了电池效率。目前HIT电池的实验室效率已达到23%,市售200W组件的电池效率达到19.5%。(4)高稳定性HIT电池的光照稳定性好,理论研究表明非品硅薄膜/晶态硅异质结中的非晶硅薄膜没有发现Staebler-Wronski效应,从而不会出现类似非晶硅太阳能电池转换效率因光照而衰退的现象;H...
发布时间: 2019 - 05 - 05
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微纳光学是目前新型光电子产业的重要发展方向,在光通信、光互联、光存储、半导体器件等诸多领域,发挥了巨大的作用。微纳光学的结构技术是指通过将微纳光学结构引入到相关的材料中,制成新型光学功能器件。微纳光学就是利用微结构材料作为光学元件的光学分支。它的结构的设计和制造是微纳光学技术发展的关键性问题,所以微纳光学成为了新型光电子产业发展的关键性突破。它的主要优点就是能在局域电磁相互作用的基础上实现许多全新的功能,成为21世纪国家不可或缺的关键科学和技术。微纳光学现有技术与特点微纳光学制造技术以LIGA工艺为基础,主要经过光刻、电铸制模和微纳米压印三个主要工艺步骤。(1)光刻光刻是半导体技术中晶圆制造的关键工艺,通过表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去,在晶圆表面留下带有微图形结构的薄膜。这些所有成果都必须建立在一片干净的晶圆上。可想而知,半导体清洗设备就发挥了非常大的作用。国内也是有多家湿法清洗设备厂商,其中熟知的华林科纳就是一家湿制程设备专业制造商,主要从事半导体湿制程设备的设计、研发、生产及销售。目前光刻技术传递图形的尺寸限度缩小到亚微米级,已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术;成为一种精密的微细加工技术。微纳光学制造技术采用光刻技术在激光原版上形成具有微纳尺寸的细微结构,即...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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“芯片之城”地标产业来了!日前,江北新区举行“芯片之城”地标产业签约仪式。市委常委、江北新区党工委专职副书记罗群,新区管委会副主任陈潺嵋,东南大学首席教授、南京集成电路产业服务中心主任时龙兴,金雨茂物投资管理股份有限公司董事长段小光, 南京中安半导体责任有限公司董事长曾安,江苏超芯星半导体有限公司董事长刘欣宇出席活动。活动中,超芯星半导体项目和中安半导体项目与新区签约,未来都将落户新区研创园。据了解,江苏超芯星半导体有限公司主要从事6-8英寸SiC碳化硅芯片衬底研发及产业化,是国内领先的碳化硅材料供应商,碳化硅作为三代半导体材料,将在轨道交通、5G、新能源汽车等领域有广泛的应用前景。目前公司已推出大尺寸碳化硅扩径晶体,实现厚度突破,属于技术领先的三代半产品。总部迁入研创园后将推动上市计划,项目规划三年实现6英寸碳化硅衬底年产3万片,未来还将在SiC衬底产品的基础上,将进一步研发SiC切磨抛工艺,打造国内SiC行业标杆企业。另外,中安半导体作为先进的半导体材料检测设备研发商,拥有国内领先的检测设备研发能力。项目团队拥有硅片检测核心技术,并且具备工程应用、生产管理以及销售服务等各方面的管理经验以及多年所累积的市场资源。此次项目主要是开发半导体硅片平整度和三维形貌检测设备,从事开发200mm和300mm硅片平整度和三维形貌检测设备,目前已获得金茂资本首期风险投资,未来将通过开发拥有独立知...
发布时间: 2020 - 04 - 20
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2、HIT电池工艺流程HIT电池的一大优势在于工艺步骤相对简单,总共分为四个步骤:制绒清洗、非晶硅薄膜沉积、TCO制备、电极制备。    图表2:HIT太阳能电池工艺流程制备的核心工艺是非晶硅薄膜的沉积,其对工艺清洁度要求极高,量产过程中可靠性和可重复性是一大挑战,目前通常用PECVD法制备。 HIT电池的制备工艺步骤简单,且工艺温度低,可避免高温工艺对硅片的损伤,并有效降低排放,但是工艺难度大,且产线与传统电池不兼容,设备资产投资较大。
发布时间: 2019 - 05 - 05
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AR光波导随着光纤通信的飞速发展,作为光纤传输的理论基础—光波导理论也趋于完善与系统化。光波导,因其轻薄和外界光线的高穿透特性而被认为是消费级AR眼镜的必选光学方案,又因其价格高和技术门槛高让人望而却步。随着主流AR设备微软HoloLens2、Magic Leap One等对光波导技术的采用和设备量产,以及AR光学模组厂商DigiLens、耐德佳、灵犀微光等近期融资消息的频繁披露,导致光波导的讨论热度也持续增加了不少。光波导是如何工作的其实,波导技术并不是什么新发明,我们熟悉的光通信系统中,用来传输信号的光纤组成了无数条连接大洋彼岸的海底光缆,就是波导的一种,只不过传输的是我们看不见的红外波段的光。 光波导是集成光学重要的基础性部件,它能将光波束缚在光波长量级(微米纳料级)尺寸的介质中,目前硅基/石英基沉积二氧化硅光波导晶圆是应用最广泛的,虽然各种光波导晶圆工艺过程较为简单,没有半导体晶圆的套刻多层等工艺,但光波导晶圆由于要将光在波导中传播,任何细小的微变都是使光传播出现变化,目前国内外光波导晶圆生产都集中在生产四寸或六寸,这是由于晶圆越大,应力分布产生的翘曲使晶圆的良率不高从而无法进行生产,但是晶圆无论大小,生产过程的工艺步骤基本差不多,但单片大尺寸的晶圆的芯片颗粒大大多于单片小尺寸晶圆颗粒,所以大尺寸晶圆成本优势明显,用大尺寸晶圆生产的芯片成本是小尺寸晶圆生产的芯片成...
发布时间: 2020 - 04 - 29
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在许多大学、研究所,研究员在实验室做实验时,往往需要配比很多不同类型的溶液。这些溶液有酸碱液、有机液,人工配液时接触,不仅存在安全隐患,还经常存在配液比例不准确,效率低下的问题。同时,由于人工反复不断的配比,人在疲倦的时候容易出错,还易造成药液的浪费。  华林科纳公司设计的CSE-LIQOUR-II自动配液机,专为解决以上问题而研发,可以适用于各类化学生物制药工艺实验室,是用来满足药液自动配比的设备,通过称重、流量计准确计量、气压输送或注塞抽取等方式将药液按照比例输送,配液精确度能够达到2‰。  该配液机由配液控制单元与配液称量单元两部分组成。配液控制单元由显示操作区域、外接原液桶装置与计算控比装置组成,通过操作区域输入化学药液的浓度、配比比例与需要的药液量,经过计算控比装置的精确计算,将几种药液进行混合配比,从而实现药液的精确配比。同时,配有精确的配液称量单元,最高配液分辨率可达到0.01g。除了可以用量杯进行大规格的调制之外,还可以配备标准试管支架,以用来固定试管,进行精确地试管配比。  该配液机能够达到高精准、高效率的配液,并具有抗腐蚀性、毒性、耐压、防燃防爆等功能,保证操作者安全;通过计算控比单元与机台界面自动化,实现自动控制操作的运转;接触部分与绝大多数化学品(如硫酸H2SO4、硝酸HNO3、磷酸H3PO4、盐酸HCL、氢氟酸HF、缓冲氧化物刻蚀液BOE等酸性溶液;氨水N...
发布时间: 2019 - 06 - 28
浏览次数:122
1、HIT电池结构和原理HIT是Heterojunction with Intrinsic Thin-layer的缩写,意为本征薄膜异质结,因HIT已被日本三洋公司申请为注册商标,所以又被称为HJT或SHJ(Silicon Heterojunction solar cell)。该类型太阳能电池最早由日本三洋公司于1990年成功开发,当时转换效率可达到14.5%(4mm2的电池),后来在三洋公司的不断改进下,三洋HIT电池的转换效率于2015年已达到25.6%。2015年三洋的HIT专利保护结束,技术壁垒消除,是我国大力发展和推广HIT技术的大好时机。下图是HIT太阳能电池的基本构造,其特征是以光照射侧的p-i型a-Si:H膜(膜厚5-l0nm)和背面侧的i-n型a-Si:H膜(膜厚5-l0nm)夹住晶体硅片,在两侧的顶层形成透明的电极和集电极,构成具有对称结构的HIT太阳能电池。  图表:HIT太阳能电池结构示意图在电池正表面,由于能带弯曲,阻挡了电子向正面的移动,空穴则由于本征层很薄而可以隧穿后通过高掺杂的p+型非晶硅,构成空穴传输层。同样,在背表面,由于能带弯曲阻挡了空穴向背面的移动,而电子可以隧穿后通过高掺杂的n+型非晶硅,构成电子传输层。通过在电池正反两面沉积选择性传输层,使得光生载流子只能在吸收材料中产生富集然后从电池的一个表面流出,从而实现两者的分离...
发布时间: 2019 - 05 - 05
浏览次数:74
2019年上半年接近尾声,华林科纳设备事业部喜讯频频。5月28日再次签下上海12寸晶圆产线晶圆项目的slurry供应系统千万大单,标志着华林科纳Slurry供应系统在大尺寸晶圆项目上取得新的突破。究竟什么是Slurry供应系统?在厂务化学系统中,与CMP制程关系最为密切的就是Slurry化学研磨液供应系统。Slurry供应系统是指无间断(24小时/天,365天/年)为CMP提供制程所需要的化学研磨液的系统。一旦厂务Slurry供应系统出现异常,将使CMP制程造成极为严重的损失,Slurry品质至关重要。这次客户选择华林科纳作为Slurry供应系统项目的合作对象,是对我们产品品质最大的认可。接下来,我们华林科纳也将会以最大能力保障客户Slurry供应系统的稳定性与安全性。
发布时间: 2019 - 05 - 29
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