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湿法制程整体解决方案提供商

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发布时间: 2016 - 03 - 14
2设备构成及详细技术说明2.1工艺说明 2.2.台面结构图如下      3.设备说明3.1 排风系统●排风装置(排风压力、风量根据实际情况或客户要求设计)将设备内挥发的有毒气体抽到车间排风管道或户外(室外排放遵守国家环保要求),避免扩散到室内;●排风通道内设有风量导流板,从而使排风效果达到最佳;●本体顶部后方自带强力抽风1个风道口装置(每个药剂槽对应一个),排风口直径大于或等于 200mm 与本体焊成一体;●排风口处设有手动调节风门,操作人员可根据情况及时调节排风量;3.2设备防护门:●本体前方安装有防护隔离门,隔离门采用透明PVC板制成,前门可以轻松开合,在清洗过程中,隔离门关闭,以尽量改善工作环境并减小对人体的伤害. ●形式:上下推拉门。3.3 给排水/废液系统●给水管路为一路去离子水;●给排水排废接头均为活性连接;●排放方式均采用气动控制的方式来保证安全3.4 电气控制系统●采用优质PLC可编程控制器控制全操作过程, ●人机界面为触摸屏,接口中有手动操作、故障报警、安全保护等功能,各工作位过程完成提前提示报警,触摸屏选用优质产品;●触摸屏加锁定,以防非授权人员修改或设定参数;●所有电控部分需独立封闭,带抽风系统,独立的配电柜●设备照明:设备其它部位--低电压灯,根据工作需要可控照明;●设备整体采取人性化设计,方便操作;并装有漏电保护和声光报警提示装置,保证性能安全可靠;电控部分导线采用耐高温、耐腐蚀的专用导线,电气控制部分内部还通有压缩空气保护,可防水耐腐蚀;●设备所有处于腐蚀腔中的线缆均通过PE管进行保护,免受腐蚀;●设备具有良好的接地装置;
发布时间: 2016 - 03 - 14
设备概况:(仅做参考)主要功能:本设备主要手动搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗、等方式进行处理,从而达到一个用户要求的效果。设备名称:KOH  Etch刻蚀清洗机           设备型号:CSE-SC-NZD254整机尺寸(参考):自动设备约2500mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);被清洗硅片尺寸: 2--6寸(25片/篮)设备形式:室内放置型;操作形式:手动各槽位主要技术工艺:设备组成:该设备主要由清洗部分、抽风系统及电控部分组成设备走向:方案图按 “左进右出”方式,另可按要求设计“右进左出”方式;设备描述:此装置是一个全自动的处理设备。8.0英寸大型触摸屏(PROFACE/OMRON)显示 / 检测 / 操作每个槽前上方对应操作按钮,与触摸屏互相配合主体材料:德国进口10mmPP板,优质不锈钢骨架,外包3mmPP板防腐;台面板为德国10mm PP板;DIW管路及构件采用日本进口clean-PVC管材,需满足18M去离子水水质要求,酸碱管路材质为进口PFA/PVDF;采用国际标准生产加工,焊接组装均在万级净化间内完成;排风:位于机台后上部工作照明:上方防酸照明三菱、欧姆龙 PLC控制。安全考虑:设有EMO(急停装置), 强电弱点隔离所有电磁阀均高于工作槽体工作液面电控箱正压装置(CDA Purge)设备三层防漏  楼盘倾斜   漏液报警  设备整体置于防漏托盘内排放管路加过滤装置所有槽体折弯成型,可有效避免死角颗粒;更多化学品相关湿法腐蚀相关设备(KOH腐蚀刻蚀机、RCA清洗机、去胶机、外延片清洗机、酸碱腐蚀机、显影机等)以及干燥设备(马兰戈尼干燥机Marangoni、单腔...
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三星已经打破晶圆代工台积电独大局面?半导体市场分析师指出,三星(Samsung)已经打破了晶圆代工市场由龙头台积电(TSMC)独大的局面--在台积电最近发表2015年第一季财报后不久,有分析师预言,随着使用台积电最赚钱的几个制程节点,包括28纳米到16纳米的主要客户如高通(Qualcomm)、联发科(MediaTek)、苹果(Apple)、Nvidia与Marvell,转向寻求三星或其他晶圆代工厂做为第二芯片供应来源,台积电恐在今年丧失定价权力。  “因为三星的14纳米良率已经达到七成左右,台积电在晶圆代工市场的独大局面已经被打破;”Susquehanna International Group分析师Mehdi Hosseini表示:“三星在14纳米节点的表现已经媲美台积电,而且能提供更低的每片晶圆平均单价。”此外Hosseini指出,三星也取得了与高通、联发科与Marvell等芯片业者的议价权,因为这些芯片业者正在协商进军三星准备在 2016年推出的新系列手机;三星有更多动机可利用让芯片业者赢得其手机设计案,做为交换晶圆代工业务订单的筹码。 台积电在不久前表示将加快16纳米制程量产速度,同时减少20纳米产能;法国巴黎银行(BNP Paribas)分析师Szeho Ng表示,台积电的16纳米与10纳米进度比预期提高,就是因为急着想巩固自己的市...
发布时间: 2016 - 05 - 31
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“芯片之城”地标产业来了!日前,江北新区举行“芯片之城”地标产业签约仪式。市委常委、江北新区党工委专职副书记罗群,新区管委会副主任陈潺嵋,东南大学首席教授、南京集成电路产业服务中心主任时龙兴,金雨茂物投资管理股份有限公司董事长段小光, 南京中安半导体责任有限公司董事长曾安,江苏超芯星半导体有限公司董事长刘欣宇出席活动。活动中,超芯星半导体项目和中安半导体项目与新区签约,未来都将落户新区研创园。据了解,江苏超芯星半导体有限公司主要从事6-8英寸SiC碳化硅芯片衬底研发及产业化,是国内领先的碳化硅材料供应商,碳化硅作为三代半导体材料,将在轨道交通、5G、新能源汽车等领域有广泛的应用前景。目前公司已推出大尺寸碳化硅扩径晶体,实现厚度突破,属于技术领先的三代半产品。总部迁入研创园后将推动上市计划,项目规划三年实现6英寸碳化硅衬底年产3万片,未来还将在SiC衬底产品的基础上,将进一步研发SiC切磨抛工艺,打造国内SiC行业标杆企业。另外,中安半导体作为先进的半导体材料检测设备研发商,拥有国内领先的检测设备研发能力。项目团队拥有硅片检测核心技术,并且具备工程应用、生产管理以及销售服务等各方面的管理经验以及多年所累积的市场资源。此次项目主要是开发半导体硅片平整度和三维形貌检测设备,从事开发200mm和300mm硅片平整度和三维形貌检测设备,目前已获得金茂资本首期风险投资,未来将通过开发拥有独立知...
发布时间: 2020 - 04 - 20
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国家能源局、工业和信息化部、国家认监委日前联合下发《关于促进先进光伏技术产品应用和产业升级的意见》(以下简称《意见》),提出应提高光伏产品市场准入标准,支持先进技术产品扩大市场,全面实施“领跑者”计划,引导光伏技术进步和产业升级。备受政策支持的光伏行业再获利好,令投资者大呼光伏行业暖春已至。承接2014年利好趋势,2015年入年以来,光伏行业已获包括国务院、国家能源局、发改委、工信部在内的多个政府机关和部委的政策力挺。《关于下达2015年光伏发电建设实施方案的通知》、《关于进一步深化电力体制改革的若干意见》等多项核心扶持政策的出台,对于光伏行业而言已达到强有力的提振作用。而此次三部委联合发布的《意见》无疑又是一剂强心针。值得注意的是,区别于以往政策,三部委此次发文首次将“领跑者”计划准入标准进行量化,且明确提出将以政策资金和政府采购方式对“领跑者”先进技术产品进行政策倾斜。 “领跑者”需拿技术说话所谓“领跑者”专项计划实则衍生于2015年1月8日发改委等八部门发布的《能效“领跑者”制度实施方案》。能效“领跑者”是指同类可比范围内能源利用效率最高的产品、企业或单位。具体到此次三部委所提的“领跑者”专项计划,国家能源局将每年安排专门的市场规模实施该计划,要求项目采用先进技术产品。《意见》指出,2015年,“领跑者”先进技术产品应达到以下指标:多晶硅电池组件和单晶硅电池组件的光...
发布时间: 2016 - 05 - 31
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1.引言CMOS(ComplementaryMetalOxideSemiconductor,互补金属氧化物半导体)图像传感器是利用CMOS工艺制造的图像传感器,主要利用了半导体的光电效应,和电荷耦合器件(CCD)图像传感器的原理相同。自从上世纪60年代末期,CMOS图像传感器与CCD图像传感器的研究几乎同时起步,但由于受当时工艺水平的限制,CMOS图像传感器图像质量差、分辨率低、噪声降不下来和光照灵敏度不够[1],因而没有得到重视和发展。而CCD器件因为有光照灵敏度高、噪音低、像素少等优点一直主宰着图像传感器市场[2]。由于集成电路设计技术和工艺水平的提高,CMOS图像传感器过去存在的缺点,现在都可以找到办法克服,而且它固有的优点更是CCD器件所无法比拟的,因而它再次成为研究的热点。2.基本原理CMOS型和CCD型固态图像传感器在光检测方面都利用了硅的光电效应原理,不同点在于像素光生电荷的读出方式。CMOS图像传感器工作原理如图1所示[3]。根据像素的不同结构,CMOS图像传感器可以分为无源像素被动式传感器(PPS)和有源像素主动式传感器(APS)。根据光生电荷的不同产生方式APS又分为光敏二极管型、光栅型和对数响应型,现在又提出了DPS(digitalpixelsensor)概念。 (1)无源像素被动式传感器(PPS)PPS的像素结构包含一个光电二极管和一个场效应管开关...
发布时间: 2021 - 03 - 01
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